盤型疊式旋磁真空滅弧室的製作方法

2024-01-27 13:07:15

專利名稱：盤型疊式旋磁真空滅弧室的製作方法
技術領域：
本實用新型屬真空斷路器領域，尤其涉及盤型疊式旋磁真空滅弧室。
背景技術：
在電力系統中，高壓開關設備起控制與保護作用。高壓斷路器是最為重要電氣設備，主要用於關合、開斷電路。近年來，隨著電力工業的快速發展，電壓等級和容量日益提升，高性能、低汙染的用電需求為真空斷路器的發展提供了更為廣闊的研發和應用空間。真空滅弧室觸頭結構的改進主要經歷了圓盤形平板觸頭、橫向磁場觸頭及縱向磁場觸頭三個階段。(1)圓盤形平板觸頭圓盤形平板觸頭結構簡單，機械強度高，通常用於真空負荷開關或真空接觸器中。對於圓盤形平板觸頭來說，當開斷電流較大時，陽極將會出現斑點， 真空電弧將產生強烈的收縮現象，金屬蒸氣電弧將由擴散型轉變為收縮型，進而導致開斷失敗。(2)橫向磁場觸頭觸頭片上開有螺旋槽並且當有電流流過觸頭時將會產生一個與弧柱軸線方向垂直的磁場。橫向磁場觸頭與電弧電流相互作用而產生的洛倫茲力使電弧沿圓周方向運動，橫向磁場會將運動時的電弧彎曲拉長，使電弧電壓及電弧能量變大，導致開斷能力受到限制，並且電弧集聚時對觸頭的燒蝕程度仍比電弧擴散時強烈，弧隙中剩餘等離子體在電流過零時的密度仍較高，恢復電壓較高時仍會發生重燃現象。(3)縱向磁場觸頭縱向磁場觸頭結構它的磁力線與電弧電流流向一致，可以抵抗電弧的收縮，提高電弧由擴散型轉變為收縮型的臨界值。當電流過零後，縱向磁場對等離子體及中性粒子的擴散和衰減十分不利。渦流的存在不僅減小觸頭間縱向磁場強度，且使縱向磁場滯後於電流變化，使電流過零時觸頭間仍有剩餘縱向磁場。
發明內容本實用新型旨在克服現有技術的不足之處而提供一種盤型疊式旋磁真空滅弧室， 其可以在提供橫向磁場的同時，又產生縱向磁場的作用，更加有利於電弧能量的逸散，電弧降溫塊，絕緣性能好，開斷能力強，安裝維護方便，運行可靠性高。為解決上述技術問題，本實用新型是這樣實現的盤型疊式旋磁真空滅弧室，它包括導電桿、觸頭杯底、鐵芯及觸頭杯；所述觸頭杯底及觸頭杯與導電桿依次固定配接；所述鐵芯置入觸頭杯內；在所述鐵芯上等份開有繞組槽；兩組以上同軸線圈繞組疊放置入繞組槽內並依次錯開一定角度θ。作為一種優選方案，本實用新型所述繞組槽的個數為12 30個。作為另一種優選方案，本實用新型所述繞組槽的槽寬為2. 5 3mm。進一步地，本實用新型所述線圈繞組沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構。更進一步地，本實用新型在所述觸頭杯底的端部固定設有觸頭片。另外，本實用新型所述角度θ在5° 15°之間。[0014]本實用新型在通三相交流電後，傳導電流經過導電桿流入觸頭杯內，通過繞組線圈，在觸頭杯內形成旋轉磁場，由於存在錯開式的線圈繞組排布，在同一時刻每組線圈產生的磁場方向並不相同，並通過另一側相同結構的觸頭共同作用，在中間氣隙中產生了不同旋轉頻率的旋轉磁場，同時也加大了旋轉磁場的強度。驅動電弧能量在動靜觸頭之間高速旋轉，快速釋放能量，從而減小電弧燃燒時間，延長開關壽命。本實用新型所採用的新型觸頭結構使真空滅弧室內的電弧能量經旋轉磁場的帶動，由傳統的軸向流動變為旋渦形式流動，在運動過程中氣體發生動能的徑向交換，快速帶走電弧能量，使電弧熄滅。本實用新型觸頭結構可有效降低電弧溫度，加速電弧能量釋放，降低觸頭燒蝕程度，保護觸頭結構，提高真空斷路器開斷能力。
以下結合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進一步說明。

圖1為本實用新型整體結構示意圖。圖2為本實用新型鐵芯開槽示意圖。圖3為本實用新型線圈繞組示意圖。圖4為本實用新型同軸線圈繞組示意圖。圖中1、導電桿；2、觸頭杯底；3、觸頭杯；4、觸頭片；5、電弧；6、繞組槽；7、鐵芯；
8、線圈繞組。
具體實施方式
如圖所示，盤型疊式旋磁真空滅弧室，它包括導電桿1、觸頭杯底2、鐵芯7及觸頭杯3 ；所述觸頭杯底2及觸頭杯3與導電桿1依次固定配接；所述鐵芯7置入觸頭杯3內；在所述鐵芯7上等份開有繞組槽6 ；兩組以上同軸線圈繞組8疊放置入繞組槽6內並依次錯開一定角度θ。本實用新型2 5組同軸線圈繞組8疊放置入繞組槽6內並依次錯開一定角度θ，角度取10°。本實用新型所述繞組槽6的個數為12 30個。本實用新型所述繞組槽6的槽寬為2. 5 3mm。本實用新型所述線圈繞組8沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構。為保護觸頭中的線圈繞組8，本實用新型在所述觸頭杯底2的端部固定設有觸頭片4。本實用新型盤型疊式旋磁真空滅弧室，通過在觸頭杯上的開槽，可以將觸頭杯等同與電機的電樞，電樞繞組的有效導體在空間沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構。線圈繞組採用銅板衝刺然後焊接製造而成。參見圖1所示，盤型疊式旋磁真空滅弧室包括導電桿1、觸頭杯底2、觸頭杯(電樞)3、觸頭片4。參見圖2所示，本實用新型在觸頭杯(電樞)3內放置每隔30°開一個槽6的鐵芯7，槽寬為2. 5mm。參見圖3所示，本實用新型的線圈繞組8採用銅板衝刺然後焊接製造而成，沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構。參見圖4所示，本實用新型將一組同軸鐵芯疊放在觸頭杯內，並錯開一定角度10° 0本實用新型對動、靜觸頭均採用此結構。在開斷過程中，動、靜之間將會出現電弧區域，通過三相交流電的作用，在動、靜觸頭線圈繞組的作用下，在觸頭表面將出現旋轉磁場，由於真空電弧是由金屬等離子體構成，通過電弧的作用，在動、靜觸頭之間的電弧區域也將產生強烈的旋轉磁場，通過旋轉磁場的強力作用，快速帶走電弧能量，使電弧熄滅，有效降低電弧溫度，加速電弧能量釋放，降低觸頭燒蝕程度，保護觸頭結構，提高真空斷路器開斷能力。本實用新型能夠滿足特殊工況下的開斷要求，同時本實用新型具有很強的容性電流開斷能力，並且通過仿真試驗研究，可以提高產品可靠性、安全運行。以上所述僅為本實用新型的優選實施例而已，並不用於限制本實用新型，對於本領域的技術人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護範圍之內。
權利要求1.盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特徵在於，包括導電桿(1)、觸頭杯底(2)、鐵芯(7)及觸頭杯(3)；所述觸頭杯底(2)及觸頭杯(3)與導電桿(1)依次固定配接；所述鐵芯(7)置入觸頭杯(3)內；在所述鐵芯(7)上等份開有繞組槽(6)；兩組以上同軸線圈繞組(8)疊放置入繞組槽(6)內並依次錯開一定角度θ。
2.根據權利要求1所述的盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特徵在於所述繞組槽(6)的個數為12 30個。
3.根據權利要求2所述的盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特徵在於所述繞組槽(6)的槽寬為2. 5 3mm0
4.根據權利要求3所述的盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特徵在於所述線圈繞組(8)沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構。
5.根據權利要求4所述的盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特徵在於在所述觸頭杯底(2)的端部固定設有觸頭片(4)。
6.根據權利要求5所述的盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特徵在於所述角度θ在5° 15°之間。
專利摘要本實用新型屬真空斷路器領域，尤其涉及一種盤型疊式旋磁真空滅弧室，它包括導電桿(1)、觸頭杯底(2)及觸頭杯(3)；觸頭杯底(2)及觸頭杯(3)與導電桿(1)依次固定配接；在觸頭杯(3)內放置等份開有繞組槽(6)的鐵芯(7)；在繞組槽(6)內置入線圈繞組(8)；線圈繞組(8)沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構；在觸頭杯底(2)的端部固定設有觸頭片(4)；兩組以上同軸線圈繞組(8)疊放置入繞組槽(6)內並依次錯開一定角度θ。本實用新型可以在提供橫向磁場的同時，又產生縱向磁場的作用，更加有利於電弧能量的逸散，電弧降溫塊，絕緣性能好，開斷能力強，安裝維護方便，運行可靠性高。
文檔編號H01H33/664GK202332703SQ20112051159
公開日2012年7月11日 申請日期2011年12月9日 優先權日2011年12月9日
發明者劉曉明, 曹雲東, 賴增輝 申請人:瀋陽工業大學