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一種通過誘導自然因素控制西瓜連作病害的方法與流程

2024-04-08 16:45:05

本發明涉及一種植物病害防治方法,具體涉及一種通過誘導自然因素控制西瓜連作病害的方法,屬於西瓜病害防治技術領域。



背景技術:

西瓜土傳病害枯萎病,是一種嚴重威脅西瓜生產的病害,病原菌主要在土壤中越冬,可在土壤中存活10年以上,借土壤、肥料、灌溉水和種子進行傳播,在地下根系和根莖部的傷口侵人發病。此外,西瓜長期連作導致土壤中某些營養元素的貧乏和植株根系分泌物和殘留物的積累,產生自我毒害,影響植株的生長,出現連作障礙。

因此,在西瓜種植過程中,需要採取相應的技術手段對西瓜連作病害進行控制。



技術實現要素:

本發明的目的在於提供一種生態環保且經濟有效的通過誘導自然因素控制西瓜連作病害的方法。

本發明具體是這樣實現的:

一種通過誘導自然因素控制西瓜連作病害的方法,包括如下步驟:

步驟一、西瓜種植前利用有機物充分培肥土壤,作物秸稈、食用菌渣、牛糞、羊糞、餅肥等物質均可。培肥後的土壤疏鬆透氣、控制土壤有機物含量超過4%。

步驟二、第一茬西瓜按照普通的種植方式種植,但種植過程中禁止使用化肥,不向土壤噴施包括農藥在內的任何化學物質。保護土壤生態系統。

步驟三、第一茬西瓜收穫後,沿地面割掉西瓜藤蔓,清理出田地。不要耕地,直接在原種植行上點播西瓜,穴居10釐米,每穴2-3粒種子。第二茬瓜不為結瓜,只為誘導土壤中西瓜重茬病害的抑制因素。

步驟四、在第二茬瓜出苗後不間苗,任其自由生長,不施肥,不打農藥。如果有死苗,立即補種。

步驟五、第二茬瓜播種後3個月左右,再次沿地面割除西瓜藤蔓。並按照第二茬瓜的種植管理模式,種植第三茬西瓜。

步驟六、在大棚設施條件下,一年種植3茬西瓜。3茬西瓜種植結束後,基本可以誘導土壤中西瓜重茬病害的抑制因素,以後種植西瓜,重茬病害基本不會造成大的危害。

步驟七、為了獲得更佳的誘導效果,可以按照步驟一至六再誘導一年。

本發明通過誘導自然因素控制西瓜連作病害的方法的原理是:

以西瓜枯萎病為代表的西瓜連作病害,多數是由病原菌侵染造成。造成連作病害的病原菌同樣也是一種生命體,也會有它的天敵,捕食者、競爭者、寄生者存在。本方法就是通過培肥土壤、不使用農藥、重複種植來培養這些天敵出來,利用病原菌的天敵來控制病原菌,從而控制重茬西瓜病害的發生。

利用本發明的方法,經過1年的誘導之後,在此之後連續3年內種植的西瓜基本不會發生西瓜連作病害,保持了西瓜穩定的產量,提高了農戶的收益。

具體實施方式

下面結合具體實施例對本發明作進一步的說明。

一種通過誘導自然因素控制西瓜連作病害的方法,包括如下步驟:

步驟一、西瓜種植前利用有機物充分培肥土壤,作物秸稈、食用菌渣、牛糞、羊糞、餅肥等物質均可。培肥後的土壤疏鬆透氣、控制土壤有機物含量超過4%。其中,有機物充分培肥土壤,是將作物秸稈、食用菌渣、牛糞、羊糞、餅肥等經過充分腐熟發酵之後,施入田內,並翻耕耕層土壤(20-30cm),經過2周之後,測定土壤有機質含量,控制有機質含量超過4%。

步驟二、第一茬西瓜按照普通的種植方式種植,但種植過程中禁止使用化肥,不向土壤噴施包括農藥在內的任何化學物質。保護土壤生態系統。

步驟三、第一茬西瓜收穫後,沿地面割掉西瓜藤蔓,清理出田地。不要耕地,直接在原種植行上點播西瓜,穴居10釐米,每穴2-3粒種子。第二茬瓜不為結瓜,只為誘導土壤中西瓜重茬病害的抑制因素。

步驟四、在第二茬瓜出苗後不間苗,任其自由生長,不施肥,不打農藥。如果有死苗,立即補種。

步驟五、第二茬瓜播種後3個月左右,再次沿地面割除西瓜藤蔓。並按照第二茬瓜的種植管理模式,種植第三茬西瓜。

步驟六、在大棚設施條件下,一年種植3茬西瓜。3茬西瓜種植結束後,基本可以誘導土壤中西瓜重茬病害的抑制因素,以後種植西瓜,重茬病害基本不會造成大的危害。

步驟七、為了獲得更佳的誘導效果,可以按照步驟一至六再誘導一年。



技術特徵:

技術總結
本發明公開了一種通過誘導自然因素控制西瓜連作病害的方法,包括:步驟一、種植前充分培肥土壤;步驟二、第一茬西瓜按照普通的種植方式種植。步驟三、第一茬西瓜收穫後,沿地面割掉西瓜藤蔓,清理出田地。不要耕地,直接在原種植行上點播西瓜。步驟四、在第二茬瓜出苗後不間苗,任其自由生長。步驟五、第二茬瓜播種後3個月左右,再次沿地面割除西瓜藤蔓。並按照第二茬瓜的種植管理模式,種植第三茬西瓜。步驟六、在大棚設施條件下,一年種植3茬西瓜。3茬西瓜種植結束後,可以誘導土壤中西瓜重茬病害的抑制因素。利用本發明的方法,經過1年的誘導之後,在此之後連續3年內種植的西瓜基本不會發生西瓜連作病害,保持了西瓜穩定的產量。

技術研發人員:赫明濤;彭學路;林國華;高振宏;邢慶亮;尚輝
受保護的技術使用者:江蘇潤順生態農業科技有限公司
技術研發日:2017.05.10
技術公布日:2017.09.29
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