一種移動磁場平面濺射靶的製作方法
2024-01-31 00:24:15
專利名稱：一種移動磁場平面濺射靶的製作方法
技術領域：
本發明涉及到一種磁場平面濺射靶，尤其涉及到一種可移動的磁控平面濺射靶，屬於磁控濺射鍍膜技術領域。
背景技術：
真空鍍膜技術在微電子、航空航天、機械製造、食品包裝等許多領域已廣泛應用。磁控濺射鍍膜具有低溫、高速的特點，可長時間批量化生產。目前採用的磁控濺射靶多為固定靶體，靶材的刻蝕區也固定在一個窄小的區域，長時間刻蝕後形成「V」字型的刻蝕區，影響膜層的均勻性並且造成靶材的浪費。公布號CN102409301A的專利披露了一種磁控濺射靶結構，其採用的方案是，靶材可移動地設置於基座上，並與磁體相反，但其沒有公開靶材移動的方法。中國專利申請號200310105218.5也披露了 一種移動磁體技術，使得磁體在濺射鍍膜過程中能移動，從而使靶面的刻蝕區均勻分布，可有效提高靶材的利用率，但此類方法通常需設置其他輔助型裝置對靶材和磁體的安裝進行改造，方法複雜不易操作。
發明內容本實用新型的目的是解決現有技術中磁控濺射鍍膜靶材不能移動或磁控濺射靶材的移動裝置操作複雜的缺陷而開發的一種移動磁場平面濺射靶。為了實現上述的技術目的，本發明採用的技術方案是，提供一種移動磁場平面濺射靶，包括基座，安裝在基座上的電機，與電機相連的主動輪、與主動輪相連的從動輪，與從動輪相連的螺杆，與螺杆相連的滾珠螺杆，與滾珠螺杆連接的磁鋼安裝板，磁鋼安裝板上設有磁鋼，其中，所述電機帶動主動輪旋轉，主動輪帶動從動輪旋轉，從動輪帶動螺杆旋轉，螺杆帶動滾珠螺杆，滾珠螺杆帶動磁鋼做直線往復運動。本發明的優選實施方案是，所述磁鋼安裝板通過連接座與滾珠螺杆相連。本發明的優選實施方案是，所述磁鋼安裝板上還設置有滑塊，所述滑塊套接在導軌上，所述導軌設置在基座，所述磁鋼安裝板可通過滑塊實現在導軌上的滑動。本發明的優選實施方案是，所述磁鋼安裝板上設有行程控制開關，所述行程控制開關可控制電機的運轉，從而可控制磁鋼在導軌的位置。本發明的優選實施方案是，所述磁鋼通過磁鋼安裝支座設置在磁鋼安裝板上。本發明的優選實施方案是，所述基座上設置外法蘭，所述外法蘭通過O型密封圈與真空腔體連接。本發明的優選實施方案是，所述外法蘭的內側端部設有絕緣密封件，所述絕緣密封件與外法蘭的連接處還設有O型密封圈，所述絕緣密封件的內側安裝有內法蘭，所述內法蘭與絕緣密封件的連接處還設有O型密封圈。本發明的優選實施方案是，所述內法蘭的底端固定有銅背板，所述銅背板內部含有冷卻水路。[0014]本發明的優選實施方案是，所述基座上還設置有屏蔽罩安裝法蘭，所述屏蔽罩安裝法蘭上設置有屏蔽罩，所述磁鋼設置在屏蔽罩與基座、內法蘭形成的空腔內。本發明的優選實施方案是，所述屏蔽罩的下端設有靶材。本發明的優先實施方案是，所述屏蔽罩安裝法蘭上安裝有屏蔽罩。本發明的一種優選實施方案是，所述電機為伺服電機，所述電機通過電機安裝支架設置在基座上。本發明的技術效果是，通過設置行程控制開關，磁鋼往復運動的速率可調節，滿足了不同生產工藝的需要；由於設置了導軌，磁鋼在做往復運動過程中與靶材的距離保持穩定，靶材表面的磁場強度不會在運動過程中沿運動方向的垂直方向變化，使得鍍膜效率均勻；本發明的結構簡單，便於裝配和拆卸。
圖1為本發明的結構示意圖1-電機；2_電機安裝支架；3_主動輪；4_從動輪；5_螺杆；6_滾珠螺杆；7_連接座；8-滑塊；9-導軌；10_磁鋼安裝板；11_基座；12_絕緣密封件；13_內法蘭；14_外法蘭；15-屏蔽罩安裝法蘭；16-屏蔽罩；17-磁鋼安裝支座；18_磁鋼；19-銅背板；20_靶材；21-行程控制開關，22-冷卻水路。
具體實施方式
為了更清楚的表述本發明，
以下結合附圖對本發明做進一步的闡述，使本領域的技術人員更清楚地了解本發明的構思。參照圖1，在基座11的上端設有電機安裝支架2，電機安裝支架2上安裝有電機I，所述電機I為伺服電機，其中，電機I與主動輪3連接，並帶動主動輪3旋轉，主動輪3與從動輪4接觸，主動輪3的旋轉可帶動從動輪4做旋轉運動，從動輪4與螺杆5接觸，當從動輪4旋轉時，可帶動螺杆5運動，螺杆5與滾珠螺杆6接觸，螺杆5運動可帶動滾珠螺杆6做直線運動，磁鋼安裝板10通過連接座7設置在滾珠螺杆6上。當啟動電機I時，電機帶動主動輪3，主動輪3帶動從動輪4，從動輪4帶動螺杆5、螺杆5帶動滾珠螺杆6，滾珠螺杆6帶動其上的磁鋼安裝板10做直線往復運動，磁鋼安裝板10上設置有一個以上的磁鋼18，所述磁鋼18通過磁鋼安裝支架17設置在磁鋼安裝板10上，磁鋼安裝板10上還設置有滑塊8，所述滑塊8安裝在導軌9上，並可隨導軌9滑動，所述磁鋼安裝板10通過滑塊8在導軌9內做直線往復運動。所述導軌9架設在基座11上端的兩側。磁鋼安裝板10通過連接座7與滾珠螺杆6連接。在基座11的下端固定設置有外法蘭14，所述固定可為焊接或螺栓連接或卡接，在外法蘭14的內側設置有絕緣密封件12，所述絕緣密封件12與外法蘭14的連接處還設置有O型密封圈，所述絕緣密封件12為環形，在絕緣密封件12的內側設置有內法蘭13，內法蘭13與絕緣密封件12的連接處設有O型密封圈，通過依次安裝的外法蘭14、O型密封圈、絕緣密封件12、0型密封圈、內法蘭13實現磁控腔體濺射靶內部的密封。內法蘭13的下端設有銅背板19，所述銅背板19的內部設有冷卻水路，通過冷卻水路22可現實靶材內部環境的冷卻，降低鍍膜靶材的溫度。[0025]在外法蘭14和內法蘭13之間還設有屏蔽罩安裝法蘭15，所述屏蔽罩安裝法蘭15的寬度大於內法蘭13的寬度，所述屏蔽罩安裝法蘭15徑向長度大於內法蘭13的徑向長度。所述屏蔽罩安裝法蘭15上安裝有屏蔽罩16。在磁鋼安裝板10上設有至少一個磁鋼安裝支座17，所述磁鋼安裝支座17上設有磁鋼18。所述磁鋼安裝板10、磁鋼安裝支座17、磁鋼18被設置在基座11與屏蔽罩16構成的腔體內。在屏蔽罩16的下端放置靶材20，設置在屏蔽罩16內側的磁鋼18產生的磁力可作用於靶材20。在磁鋼安裝板10或基座11上設有行程控制開關21，所述行程控制開關21控制電機I的運轉，進而控制磁鋼18在導軌9上所處的位置，從而實現對平面濺射靶的控制。所述外法蘭14與真空腔室的連接處設有O型密封圈，通過O型密封圈實現外法蘭14與真空腔室之間的密封。
權利要求1.一種移動磁場平面濺射靶，包括基座(11)，安裝在基座(11)上的電機(1)，與電機(I)相連的主動輪(3)、與主動輪(3 )相連的從動輪(4)，與從動輪(4)相連的螺杆(5 )，與螺杆(5 )相連的滾珠螺杆(6 )，與滾珠螺杆(6 )連接的磁鋼安裝板，磁鋼安裝板(6 )上設有磁鋼(18),其特徵在於,所述電機(I)帶動主動輪(3)旋轉,主動輪(3)帶動從動輪(4)旋轉,從動輪(4)帶動螺杆(5)旋轉，螺杆(5)帶動滾珠螺杆￠)，滾珠螺杆(6)帶動磁鋼(18)做直線往復運動。
2.根據權利要求1所述的平面濺射靶，其特徵在於，所述磁鋼安裝板(10)通過連接座(7)與滾珠螺杆(6)相連。
3.根據權利要求1所述的平面濺射靶，其特徵在於，所述磁鋼安裝板(10)上還設置有滑塊(8 )，所述滑塊(8 )套接在導軌(9 )上，所述導軌(9 )設置在基座(11)，所述磁鋼安裝板(10)可通過滑塊(8)實現在導軌(9)上的滑動。
4.根據權利要求1或3所述的平面濺射靶，其特徵在於，所述磁鋼安裝板(10)上設有行程控制開關(21)，所述行程控制開關(21)可控制電機(I)的運轉，從而可控制磁鋼(18)在導軌(9)的位置。
5.根據權利要求1所述的平面濺射靶，其特徵在於，所述磁鋼(18)通過磁鋼安裝支座(17)設置在磁鋼安裝板(10)上。
6.根據權利要求1所 述的平面濺射靶，其特徵在於，所述基座(11)上設置外法蘭(14)，所述外法蘭(14)通過O型密封圈與真空腔體連接。
7.根據權利要求6所述的平面濺射靶，其特徵在於，所述外法蘭(14)的內側端部設有絕緣密封件(12)，所述絕緣密封件(12)與外法蘭(14)的連接處還設有O型密封圈，所述絕緣密封件(12 )的內側安裝有內法蘭(13 )，所述內法蘭與絕緣密封件(12)的連接處還設有O型密封圈。
8.根據權利要求7所述的平面濺射靶，其特徵在於，所述內法蘭(13)的底端固定有銅背板(19 )，所述銅背板(19 )內部含有冷卻水路(22 )。
9.根據權利要求7所述的平面濺射靶，其特徵在於，所述基座(11)上還設置有屏蔽罩安裝法蘭(15)，所述屏蔽罩安裝法蘭(15)上設置有屏蔽罩(16)，所述磁鋼(18)設置在屏蔽罩(16)與基座(11)、內法蘭(13)形成的空腔內。
10.根據權利要求1所述的平面濺射靶，其特徵在於，所述電機(I)為伺服電機，所述電機(I)通過電機安裝支架(2 )設置在基座上。
專利摘要本實用新型涉及到一種磁場平面濺射靶，尤其涉及到一種可移動的磁控平面濺射靶，屬於磁控濺射鍍膜技術領域，一種移動磁場平面濺射靶，其包括基座，安裝在基座上的電機，與電機相連的主動輪、與主動輪相連的從動輪，與從動輪相連的螺杆，與螺杆相連的滾珠螺杆，與滾珠螺杆連接的磁鋼安裝板，磁鋼安裝板上設有磁鋼，其中，所述電機帶動主動輪旋轉，主動輪帶動從動輪旋轉，從動輪帶動螺杆旋轉，螺杆帶動滾珠螺杆，滾珠螺杆帶動磁鋼做直線往復運動。優點是，磁鋼往復運動的速率可調節，與靶材的距離保持穩定，使得鍍膜效率均勻，滿足了不同生產工藝的需要，本實用新型的結構簡單，便於裝配和拆卸。
文檔編號C23C14/35GK203021645SQ20122074519
公開日2013年6月26日 申請日期2012年12月31日 優先權日2012年12月31日
發明者梁得剛, 李徵 申請人:上海子創鍍膜技術有限公司