懸吊式精密對位平臺的製作方法
2023-04-24 20:08:26
懸吊式精密對位平臺的製作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種懸吊式精密對位平臺，包括頂座；頂座具有一構件裝設面；懸吊式活動平臺懸吊於構件裝設面下方，且懸吊式活動平臺鎖設刀具裝設臺面能提供預定的刀具組設，進而能對設置於懸吊式活動平臺間隔下方的工件進行加工；氣浮間隙設置於磁吸座與導磁面域之間，且令磁吸座的預定部位形成一氣體導引部連通氣浮間隙，藉以能自外部將氣壓經由氣體導引部導引噴入氣浮間隙中產生氣浮作用，使得磁吸座與導磁面域之間產生間隙而呈可相對運動調整狀態；在不影響工件輸送狀態為前提下，直接通過移動調整懸吊式活動平臺以調校刀具至正確加工位置，以使刀具每次進行加工動作時皆能保持正確位置，達到提升加工便利性與加工效率的目的。
【專利說明】懸吊式精密對位平臺
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種對位平臺裝置，特別涉及一種能於不影響工件輸送狀態為前提下，而針對輸送中工件調校加工精準度的創新精密對位平臺。
【背景技術】
[0002]按，隨著高科技時代的來臨，多種製造加工的處理模式已進入奈米等級，眾多精密產品於製程中有更高更嚴苛的精度要求，尤其是光電及晶圓產品，其精密定位技術成為必備條件。
[0003]精密加工製程中，對位平臺(或稱對位滑臺)為產業界普遍採用的設備；目前習知對位平臺的典型結構型態，主要是在一活動平臺與一基座之間橫設有數組X軸向與Y軸向的螺杆導動裝置，螺杆導動裝置的組裝座部被定位於基座，螺杆導動裝置的伸縮作動端則呈滑動配合狀態連結於活動平臺；藉此，其運作時能夠通過控制螺杆導動裝置的其中單組作動或整體同動等方式，達到驅使活動平臺位移或轉動以調校加工精準度的目的。
[0004]以一般習知對位平臺的使用型態而言，通常是將基座組裝於一默認位置呈定位狀態，並將工件置放於活動平臺上方，再通過活動平臺位移作動而帶動工件位移，以調校工件與刀具之間的加工位置；惟，此種習知對位平臺使用上固然可達到精密位移調校的功能，但若運用於精密衝壓加工的場合時，會產生不利調校、甚至無法調校工件位置的缺弊，舉IXD面板產業的精密加工為例，通常先將被工作物鎖設定位於活動平臺上，通過導動裝置驅使活動平臺位移，以調校被工作物至正確加工位置，使刀具能由上向下進行衝壓加工動作，但習知對位平臺運用於此種加工型態時，必須於每一個被工作物加工完畢取下後，再放置下一被工作物重新進行調校加工位置、公差等流程，導致加工便利性、加工效率不佳以及不利調整的缺弊產生；而隨著LCD面板業界發展進步，當所謂被工作物變為成卷的光學薄膜時，其送料方式將光學薄膜攤開而不斷進行卷收輸送，刀具同樣於固定位置進行衝壓動作，此時習知利用活動平臺位移作動而調校工件的結構設計，無法於被工作物移動狀態下調校位置來配合刀具加工位置，進而導致無法使用的窘境，使得產品的實用性大打折扣，亦會影響加工的便利性與加工效率，且對於必須大量生產的加工場合而言更顯得不利，實難以符合產業界預期的使用要求。
【發明內容】
[0005]本實用新型的主要目的在於提供一種懸吊式精密對位平臺。
[0006]為達到上述目的，本實用新型採用以下技術方案:
[0007]—種所述精密對位平臺包括:一頂座,為座體,該座體包括一頂部裝配面以及一構件裝設面；一懸吊式活動平臺，呈懸吊型態設置於頂座的構件裝設面下方一間隔高度位置處，該懸吊式活動平臺包括一刀具裝設臺面以及一頂面，所述刀具裝設臺面能提供預定的刀具組設，進而能對設置於懸吊式活動平臺間隔下方的工件進行加工；至少兩組導動裝置，連接於頂座的構件裝設面與懸吊式活動平臺的頂面之間，導動裝置藉以驅使控制懸吊式活動平臺產生平移調整運動；一可控制式磁吸接口，包括設於頂座的構件裝設面與懸吊式活動平臺頂面之間相對位處的一導磁面域與一磁吸座，該磁吸座能夠通過控制朝導磁面域產生一磁吸作用力，令懸吊式活動平臺相對於頂座的定位狀態能夠通過磁吸作用力而趨於剛性穩固狀態；
[0008]一氣浮間隙，設置於磁吸座與導磁面域之間，且令磁吸座的預定部位形成一氣體導引部連通該氣浮間隙，藉以能自外部將氣壓經由氣體導引部導引噴入氣浮間隙中產生氣浮作用，使得磁吸座與導磁面域之間產生間隙而呈可相對運動調整狀態；
[0009]藉此創新獨特設計，使本實用新型對照先前技術而言，能在不影響工件輸送狀態為前提下，直接通過移動調整懸吊式活動平臺以調校刀具至正確加工位置，以使刀具每次進行加工動作時皆能保持正確位置，藉以能針對輸送中的工件調校加工精準度，以達到大幅提升加工便利性與加工效率，並利於大量生產的加工場合。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型結構較佳實施例的分解立體圖。
[0011]圖2為本實用新型結構較佳實施例的組合立體圖。
[0012]圖3為本實用新型結構較佳實施例的組合剖視圖。
[0013]圖4為本實用新型裝設於設備上的使用狀態圖。
[0014]圖5為本實用新型的磁吸座內部結構立體剖視圖。
[0015]圖6為本實用新型可通過噴氣孔將氣壓噴入氣隙中形成氣浮作用的狀態示意圖。
[0016]圖7為本實用新型磁吸作用的狀態示意圖。
[0017]圖8為本實用新型裝設有防落構件的實施型態局部放大圖。
[0018]圖9為本實用新型裝設有防落構件的平面圖。
【具體實施方式】
[0019]如圖1至7所示，本實用新型懸吊式精密對位平臺A包括下述構成:
[0020]一頂座10，為一座體，包括一頂部裝配面11以及一構件裝設面12 ;其中所述頂部裝配面11能配合裝設於一設備(如圖4標示箭號B)的預定位置；
[0021]一懸吊式活動平臺20，呈懸吊型態設置於頂座10的構件裝設面12下方一間隔高度位置處，該懸吊式活動平臺20包括一刀具裝設臺面21以及一頂面22，所述刀具裝設臺面21能提供預定的刀具組設，進而能對設置於懸吊式活動平臺20間隔下方的工件(圖面省略)進行加工；
[0022]至少兩組導動裝置30，連結於頂座10的構件裝設面12與懸吊式活動平臺20的頂面22之間，導動裝置30藉以驅使控制懸吊式活動平臺20產生平移調整運動；
[0023]一可控制式磁吸接口 40，包括設於頂座10的構件裝設面12與懸吊式活動平臺20頂面22之間相對位處的一導磁面域41與一磁吸座42,該磁吸座42能夠通過控制朝導磁面域41產生一磁吸作用力，令懸吊式活動平臺20相對於頂座10的定位狀態能夠通過磁吸作用力而趨於剛性穩固狀態；具體實施上，該導磁面域41設置於頂座10或懸吊式活動平臺20任其中一者的預定區域，而磁吸座42能組設定位於懸吊式活動平臺20或頂座10任其中一者與導磁面域41對位處(本實施例的導磁面域41設置於頂座10,而磁吸座42能組設定位於懸吊式活動平臺20)。
[0024]一氣浮間隙50，設置於磁吸座42與導磁面域41之間(此處請配合圖5、6所示)，且令磁吸座42的預定部位形成一氣體導引部51連通該氣浮間隙50，藉以能自外部將氣壓經由氣體導引部51導引噴入氣浮間隙50中產生氣浮作用，使得磁吸座42與導磁面域41之間產生間隙而呈可相對運動調整狀態；
[0025]如圖1、3、6所示，其中該可控制式磁吸接口 40可為一電磁式吸附接口，以使該磁吸座42包括有至少兩組線圈組421，磁吸座42能夠通過線圈組421的通電產生電磁力；而磁吸座42所產生的電磁力實施上呈可調整狀態，通過減弱或增強該磁吸座42的電磁力，並配和自外部將氣壓經由氣體導引部51導引噴入氣浮間隙50中產生氣浮作用，以使磁吸座42與導磁面域41之間呈可相對運動調整狀態，或者令懸吊式活動平臺20呈磁吸剛性穩固狀態，使用者能依照使用情形自由調整。
[0026]或者，該可控制式磁吸接口亦可為一機械式磁吸座，能夠通過機械切換方式產生磁吸力以加強定位活動平臺。(注:本例圖面省略繪示)
[0027]另如圖5、6所示，其中該磁吸座42所形成的氣體導引部51具體實施上包括間隔布設於磁吸座42的至少兩個立向噴氣孔52、以及形成於磁吸座42內部連通該立向噴氣孔52的供氣導流道53所構成，藉以能自外部將氣壓W(僅標示於圖6)導引至該立向噴氣孔52復噴入氣浮間隙50中形成氣浮作用。
[0028]如圖8、9所示，其中該頂座10預定位置處另設置有一防落構件60，該防落構件60能輔助支撐懸吊式活動平臺20，令該懸吊式活動平臺20裝載刀具後能避免負荷過重而產生掉落的疑慮；所述防落構件60實施上裝設於頂座10周側呈L板體型態(該防落構件60的型態不局限於此)，且令懸吊式活動平臺20的刀具裝設臺面21與防落構件60底部相對應位置處開設有一缺口 61，以使防落構件60底部能伸入缺口 61內，進而能輔助限位支撐該懸吊式活動平臺20。
[0029]通過上述結構組成設計，本實用新型所揭精密對位平臺A的核心設計，主要能在不影響工件輸送狀態為前提下，直接通過移動調整懸吊式活動平臺20以調校刀具至正確加工位置，藉以能針對輸送中的工件調校加工精準度，例如本實用新型運用於精密衝壓的加工場合時，工件若為成卷的光學薄膜，能於工件卷收輸送的狀態直接通過移動調整懸吊式活動平臺20來調校刀具位置，如此即能修正刀具與工件之間的加工精準度，使得刀具每次向下進行衝壓時皆能保持在正確加工位置，進而改善習知對位平臺必須將工件放置於活動平臺上加工，而無法於工件輸送狀態下作調校動作的缺弊，進一步大幅提升加工便利性與加工效率，並利於大量生產的加工產合，另一方面，本實用新型利用磁吸座42朝導磁面域41產生磁吸作用力，令懸吊式活動平臺20於定止狀態時，與頂座10之間能夠通過磁吸作用力Fl (如圖7所示)相互吸住，如同單一金屬塊狀結構而趨於剛性穩固狀態，進而能於加工過程中大幅提升精密對位平臺的加工精度與質量，具體而言，本實用新型能達到大幅提升加工的便利性、加工效率以及加工精度與質量，併兼具提升產品的適用性與實用性等諸多產業實用效益。
[0030]以上所述，僅為本發明的【具體實施方式】，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本【技術領域】的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。因此，本發明的保護範圍應所述以權利要求的保護範圍為準。
【權利要求】
1.一種懸吊式精密對位平臺，其特徵在於包括: 一頂座，為一座體，該座體包括一頂部裝配面和一構件裝設面； 一懸吊式活動平臺，呈懸吊型態設置於頂座的構件裝設面下方一間隔高度位置處，該懸吊式活動平臺包括一刀具裝設臺面以及一頂面，所述刀具裝設臺面能提供預定的刀具組設，進而能對設置於懸吊式活動平臺間隔下方的工件進行加工； 至少兩組導動裝置，連接於頂座的構件裝設面與懸吊式活動平臺的頂面之間，導動裝置驅使控制懸吊式活動平臺產生平移調整運動； 一可控制式磁吸接口，包括設於頂座的構件裝設面與懸吊式活動平臺頂面之間相對位處的一導磁面域與一磁吸座，該磁吸座能夠通過控制朝導磁面域產生一磁吸作用力，令懸吊式活動平臺相對於頂座的定位狀態能夠通過磁吸作用力而趨於剛性穩固狀態； 一氣浮間隙，設置於磁吸座與導磁面域之間，且令磁吸座的預定部位形成一氣體導引部連通該氣浮間隙，藉以能自外部將氣壓經由氣體導引部導引噴入氣浮間隙中產生氣浮作用，使得磁吸座與導磁面域之間產生間隙而呈可相對運動調整狀態。
2.根據權利要求1所述的懸吊式精密對位平臺，其特徵在於，所述頂座預定位置處另設置有一防落構件，該防落構件能輔助支撐懸吊式活動平臺。
3.根據權利要求1所述的懸吊式精密對位平臺，其特徵在於，所述導磁面域設置於頂座或懸吊式活動平臺任其中一者的預定區域，而磁吸座組設定位於懸吊式活動平臺或頂座任其中一者與導磁面域對位處，通過磁吸座與磁吸面域之間產生的磁吸作用力，以使懸吊式活動平臺相對於頂座的定位狀態能夠趨於剛性穩固狀態。
4.根據權利要求1、2或3所述的懸吊式精密對位平臺，其特徵在於，所述可控制式磁吸接口為一電磁式吸附接口，以使該磁吸座包括有至少兩組線圈組，磁吸座通過線圈組的通電產生電磁力。
5.根據權利要求4所述的懸吊式精密對位平臺，其特徵在於，所述磁吸座所形成的氣體導引部包括間隔布設於磁吸座的至少兩個立向噴氣孔、以及形成於磁吸座內部連通該立向噴氣孔的供氣導流道所構成，藉以能自外部將氣壓導引至該立向噴氣孔再噴入氣浮間隙中形成氣浮作用。
6.根據權利要求5所述的懸吊式精密對位平臺，其特徵在於，所述磁吸座所產生的電磁力呈可調整狀態，通過減弱或增強該磁吸座的電磁力，並配和自外部將氣壓經由氣體導引部導引噴入氣浮間隙中產生氣浮作用，以使磁吸座與導磁面域之間呈可相對運動調整狀態，或者令懸吊式活動平臺呈磁吸剛性穩固狀態。
7.根據權利要求1或2所述的懸吊式精密對位平臺，其特徵在於，所述可控制式磁吸接口為一機械式磁吸座，能夠通過機械切換方式產生磁吸力以加強定位懸吊式活動平臺。
【文檔編號】B23Q1/25GK203390546SQ201320217342
【公開日】2014年1月15日 申請日期:2013年4月25日 優先權日:2013年4月25日
【發明者】莊運清, 陳偉倫 申請人:高明鐵企業股份有限公司