電子束消毒裝置和消毒方法
2024-02-23 03:00:15 3
電子束消毒裝置和消毒方法
【專利摘要】一種用於薄壁容器（C）的電子束消毒裝置（1），配有輸入單元（40）或輸出單元（60），所述輸入單元或輸出單元設有迴轉本體，以使一組容器（C）從外部環境進入消毒室，反之亦然，避免來自所述消毒室的放射性輻射。
【專利說明】電子束消毒裝置和消毒方法
[0001]本發明涉及一種用於對薄壁容器進行消毒的裝置，所述薄壁容器尤其是柔性容器，諸如那些用於容納高粘流體(dense fluids,稠密流體)特別是食品(諸如奶油、酸奶、蜂蜜、果汁、藥品等)的容器。
[0002]在食品行業中，容器的消毒對於防止感染以及正確地保存其中容納的食品是非常重要的。
[0003]有吋，進行化學消毒，在消毒期間，用消毒劑(諸如過氧化氫)清洗容器，然後在送往後續充填操作之前進行乾燥。
[0004]然而，化學消毒具有ー些缺點，諸如在乾燥容器中存在化學消毒劑的殘留或者由於容器的複雜或不規則幾何形狀而存在沒有被消毒的區域。這些缺點在薄壁柔性容器領域中尤其能感覺到。
[0005]電子束消毒變得越來越廣泛。
[0006]起初，電子束消毒的執行限定於專門的中心，待處理的容器必須送往該中心並從該中心領取消毒後的容器，這相當大地増加了運輸成本和後勤工作。在這種中心中，通常使用大功率(500kV-10mV)電子炮，對於操作人員的安全性和環境汙染都具有相關的影響。
[0007]近來，由於形成了甚至在低壓(80_150kV)下也能有效地起作用的特別緊湊的電子炮，電子束消毒變得越來越流行。這種炮允許在容器生產車間中直接進行電子束消毒，具有顯著的經濟效益。
[0008]本發明的目的是提供ー種尤其適於處理薄壁柔性容器的低壓電子束消毒裝置。
[0009]根據本發明的消毒裝置的特徵和優點從以下描述中將顯而易見，以下描述參照附圖藉助於非限制性實例進行，附圖中:
[0010]圖1和圖2示出了分別為充滿的和空的柔性薄壁容器的樣品；
[0011]圖3示出了根據本發明的一個實施例的消毒裝置的整體視圖；
[0012]圖4是圖3中的消毒裝置的布局的示意圖；
[0013]圖5示出了圖3中的消毒裝置的消毒組；
[0014]圖5a示出了本發明中所定義的參考面和發射面的視圖；
[0015]圖6示出了圖3中的消毒裝置的輸入單元；
[0016]圖7示出了圖6中的輸入單元的水平橫截面視圖；
[0017]圖8示出了圖6中的輸入單元沿著圖7中的剖面VII1-VIII截取的縱向截面視圖；
[0018]圖9示出了圖3中的裝置的預消毒室；
[0019]圖10示出了圖5中的消毒組的在輸入單元位置處的主室；
[0020]圖11示出了圖5中的消毒組的輔助室；
[0021]圖12a和圖12b示出了消毒系統的實施例的實例，所述消毒系統配有外部防輻射殼體，所述外部防輻射殼體分別處於閉合和打開配置中。
[0022]根據附圖，參考標號I整體表示用於薄壁柔性容器的低壓電子束消毒裝置。
[0023]具體地，裝置I適於對容器C消毒，該容器包括由兩個或更多個柔性膜壁B』、B」形成的本體B，所述壁互相面對並接合，例如沿邊緣熔接，如果需要也具有結點側壁G，且設置有剛性材料的吸管A，該吸管裝配在本體B邊緣部分中，通常位於側壁之間。吸管A從本體沿著吸管軸線突出並可聯接於也是剛性材料的蓋帽。
[0024]當剛製成柔性容器且其為空的時，本體特別薄(圖2)，而當充滿時本體呈現為膨脹(圖1)。
[0025]對於空的容器C，沿著吸管軸線定義高度H，寬度W橫向於高度H以及薄壁的厚度T。
[0026]在 申請人:名下的文獻EP-A1-1538105和US-D-552，483中示出了這種容器的ー個示例性實例；在也是 申請人:名下的文獻W0-A1-2008-050361中示出了具有蓋帽的吸管的一個示例性實例。 [0027]消毒裝置I包括:消毒組20，在消毒組中發生通過低壓電子束進行的消毒；輸入單元40，用於將待處理的容器引入到消毒組20中；以及輸出単元60，用於從消毒組20排出處理後的容器。
[0028]所述輸入単元40和所述輸出単元60還在其輸入和輸出處形成防止放射性發射(尤其是消毒組20內部的電子束產生的X射線)洩漏的障礙物。
[0029]輸入單元40包括具有前壁44a的外殼體42，在所述前壁中形成有入ロ 46a以供來自消毒裝置I上遊的機器的待處理容器C進入。
[0030]類似地，外殼體42具有後壁44b，在所述後壁中形成有出ロ 46b以供待處理容器C進入消毒組20中。
[0031]外殼體42還包括底部48和罩殼50，優選地配有可拆卸蓋52，以便進入殼體的內部。
[0032]外殼體42還包括優選為多邊形的側壁54。
[0033]輸入單元40還包括迴轉本體56，該迴轉本體至少部分地容納於殼體42內部的隔間中，根據指令在交替方向上或一直沿同一方向圍繞旋轉軸線K迴轉。
[0034]為此目的，輸入單元40配有驅動裝置(諸如優選地為無刷型電機58)，連接至迴轉本體56，優選地位於殼體42的底部48的下方。例如，電機58通過穿過外殼體的底部48的軸60連接至迴轉本體56。
[0035]迴轉本體56具有適於容納至少一個待處理容器的至少ー個承載座。具體地，該承載座可與殼體42的入口 46對準，以能夠承載待處理容器。
[0036]優選地，迴轉本體56具有兩個承載座58，所述兩個承載座例如彼此徑向相對,可交替地與入口 46對準。
[0037]此外，通過按指令旋轉，承載座58可與殼體的出ロ 46b對準，以便使待處理容器降落到消毒組20中。
[0038]優選地，當一個承載座與出ロ 46b對準時，另ー個承載座與入ロ 46對準，從而從入ロ 46裝載待處理容器可以與從出ロ 46b清空其他容器同時進行。
[0039]迴轉本體56還具有位於承載座之外的充填部，所述充填部佔據在殼體中旋轉的迴轉本體的操作區，以便儘可能地防止或限制出現從消毒組20內部通過輸入単元40向外的洩漏。
[0040]例如，迴轉本體56是堅固的圓柱體，通常彼此徑向相対的承載座58位於該圓柱體內，該圓柱體具有從周邊朝著圓柱體內部的徑向延伸部，以便限定圓柱形部段形式的操作空間的堅固部分，所述堅固部分輕擦殼體42的內部隔間的表面。
[0041]待處理容器從輸入単元20進入消毒組20內。
[0042]為此目的，消毒裝置I包括提取裝置，該提取裝置適於提取容納在面向輸入單元40的出ロ 46b的承載座58中的容器。
[0043]根據ー個優選實施例，提取裝置包括提取引導件，該提取引導件例如由在輸入方向X上延伸的提取軌道140形成。
[0044]例如，在承載座與出ロ 46b對準時，輸入方向X由承載座58產生，並且優選地，是直線方向。
[0045]容器通過相應的吸管A從提取軌道140懸垂，並且提取裝置適於沿著輸入方向X在前進方向IN上推動吸管。
[0046]為此目的，例如，提取裝置包括一對推動器，所述推動器具有位於提取軌道140兩側上的指部142，所述指部沿著輸入方向X隔開，沿著所述輸入方向交錯。
[0047]優選地，推動器由無刷電機驅動。
[0048]推動器適於使指部142沿著輸入方向X在前進方向IN上平移地移動，以便接合併推動吸管，例如對應於ー組容器。
[0049]此外，推動器具有提升和返回運動，當推動器完成其前進行程時，進行該提升和返回運動，以便從一排懸掛的容器上方經過並返回，以提取容納在裝載單元40的承載座58中的另ー些容器並使它們前迸。
[0050]簡而言之，根據所示出的實施例，所述提取裝置執行「跳躍」運動，在跳躍運動中，兩個推動器的指部沿著輸入方向X交替地推動每組容器。
[0051]根據ー個優選實施例，裝置I包括預消毒室50，所述預消毒室屏蔽X射線的洩漏，在輸入方向X上延伸，位於裝載単元40的下遊且位於消毒組20的上遊。
[0052]例如，提取裝置位於該預消毒室中。
[0053]消毒組20包括外殼體22，該外殼體內部限定有包括主室的消毒室。具體地，外殼體22的側壁26具有用於來自輸入單元40的容器(所述容器通過提取裝置移動)的入口。
[0054]主室24主要在第一消毒方向Y (優選地為直線)上延伸。
[0055]優選地，第一消毒方向Y相對於輸入方向X傾斜,優選地與輸入方向正交。
[0056]另外，預消毒室50有助於防止X射線從輸入単元40洩漏。
[0057]消毒組20還包括至少ー個適於發射電子云以對容器進行消毒的電子炮。
[0058]對於電子炮，定義了電子云的發射錐和限定這種發射錐的發射軸線。
[0059]例如，組20包括具有相應發射軸線E1、E2的兩個電子炮28a、28b。
[0060]優選地，發射軸線El、E2位於同一水平面上或位幹與水平面平行的不同平面上。
[0061]炮28a、28b順序地沿第一消毒方向Y設置，在主室24中面對彼此且彼此相對設置。
[0062]炮28a、28b在以下意義上順序地設置，即，容器首先被第一炮發射的電子云撞擊，然後被第二炮發射的電子云撞擊，或者僅在過渡區中，它們同時經歷前一炮的電子云以及下一炮的電子云。
[0063]消毒組20還包括沿著主室24的容器支撐裝置，該支撐裝置適於在第一消毒方向Y支撐所述容器。
[0064]例如，所述支撐裝置包括第一軌道30，該第一軌道沿第一消毒方向Y延伸，容器例如通過吸管A從第一軌道懸垂。
[0065]消毒組20還包括第一容器前進裝置，適於在第一消毒方向上移動容器。
[0066]為了將方向從輸入方向X改變為第一消毒方向Y,第一提取裝置與前進裝置聯合作用。
[0067]具體地，例如，提取裝置包括位於ー對軌道140的端部處的滾筒凸輪，所述滾筒凸輪適於將容器推動到主室24中，在主室中容器與第一前進裝置接合。
[0068]例如，所述第一前進裝置包括旋轉體元件(rotor element,轉子元件)32,其軸線沿著第一消毒方向Y延伸，該旋轉體元件能夠旋轉以便沿所述方向Y推動容器。
[0069]例如，旋轉體元件32越過第一軌道30並與容器C的吸管A的從第一軌道30突出的頂部接合，以沿第一消毒方向Y推動容器。
[0070]優選地，另外，消毒組20還包括適於在第一消毒方向Y上引導容器本體的引導裝置。
[0071]例如，所述引導裝置包括沿第一消毒方向Y延伸的一對螺紋狀引導件34，所述引導件位於第一軌道30下方並且隔開，使得容器C的本體B位於它們之間。由於引導件34彼此緊密，所以限制或防止了容器的振動。
[0072]消毒組20的消毒室還包括沿第二消毒方向Z延伸的輔助室36，第二消毒方向相對於第一消毒方向Y入射(inciden·t，相交)，例如，優選地與之正交。
[0073]旋轉體兀件32沿第一消毒方向Y推動容器直到第一軌道30的端部,此處,第一前進裝置與第二前進裝置配合，以將前進方向從第一消毒方向Y改變為第二消毒方向Z。
[0074]第二前進裝置適於使容器沿第二消毒方向移動。
[0075]此外，消毒組20包括適於沿第二消毒方向Y支撐容器的第二支撐裝置。
[0076]例如，第二支撐裝置包括從第一軌道30終止的區域沿第二消毒方向Z延伸的第二軌道150，適於例如通過吸管A從所述第二軌道懸掛容器C。
[0077]在第一軌道30與第二軌道150之間的過渡區中，第二前進裝置包括適於沿第二消毒方向Z以交替的平移運動移動的推動器152。
[0078]例如通過經由皮帶或鏈條連接至旋轉體元件32的旋轉凸輪154，推動器152的運動與旋轉體32的運動同步。
[0079]當容器C被旋轉體元件32留在第一軌道30的端部處時，第二推動器152沿著第二軌道102推動所述容器。
[0080]由於另一容器尾部的順序插入，從第二軌道150懸垂的容器沿第二消毒方向Z行進，也就是說，使得順序的容器沿前進方向向前推動位於它之前的容器的尾部。
[0081]根據ー個實施例變型(未示出)，第二前進裝置適於單獨地接合容器組，以使容器組在第二消毒方向Z移動；例如，所述第二前進裝置在結構和功能上類似於第一前進裝置。
[0082]消毒組20還包括另ー電子炮28c，諸如沿著第二消毒方向Z設置的第三炮28c，其具有相對於水平面入射的發射軸線E3，優選地與之正交。換句話說，第三炮設置成使得發射軸線E3平行於正在處理的容器的吸管A的軸線。
[0083]因此，很顯然，第一消毒方向Y和第二消毒方向Z—起限定了沿著消毒室的消毒路徑。
[0084]消毒裝置I還包括連接於輔助室36的輸出單元60，該輸出単元相對於正在處理的容器的前進方向位於第三炮28c的下遊。
[0085]優選地，輸出單元60在結構和功能上類似於輸入單元40。
[0086]處理後的容器從消毒組20經過，具體地，從其輔助室36到輸出單元60並從輸出単元到裝置I的外部。
[0087]消毒裝置還包括適於將預定數量的容器C從輔助室36裝載到輸入単元的承載座上的裝載裝置。
[0088]優選地，所述裝載裝置包括具有類似於以上所述的「跳躍」運動的推動器。
[0089]根據ー個優選實施例，裝置I包括後消毒室55，所述後消毒室屏蔽X射線的洩漏，沿第二消毒方向Z延伸，位於消毒組的下遊且位於輸出単元60的上遊。
[0090]例如，裝載裝置容納於該後消毒室中。
[0091]後消毒室還有助於防止X射線從輸出単元60洩漏。
[0092]進入輸入單元40的容器Cl以壁彼此面對的方式一個接ー個地對準；也就是說，容器Cl以列的方式面對。
[0093]容器Cl移動，使得ー個或多個容器C2容納於輸入單元40的承載座58中。當容納於承載座中的容器的數量達到預定數量吋，迴轉本體56旋轉，以使容納有容器C2的承載座58與出口 46b對準，並且優選地，另ー個空的承載座58與入ロ 46a對準，以便進行下一次裝載。
[0094]容納在與出ロ 46b對準的承載座58中的容器C3移動，以便沿著輸入方向X前行，然後沿著第一消毒方向Y偏離。
[0095]具體地，容器C4跨過主室20，所述容器沿第一消毒方向Y —個接ー個地對準，即，成排地面對。
[0096]在第一消毒方向Y上，容器C4通過第一炮28a和第二炮28b經歷第一次消毒，第ー炮和第二炮的發射軸線El、E2基本上位於水平面上。
[0097]在第一消毒方向Y上,容器C4成排地設置,使得本體B的壁B』、B」位於電子炮28a、28b的發射錐的前方。換句話說，容器C4的本體B基本上共面且位於其發射軸線E1、E2所入射的ー個平面上。
[0098]這種布置允許對容器C4的本體B的壁B』、B」進行極好的消毒，並且如果需要，也對所設置的結點側壁G進行極好的消毒。
[0099]在第二炮28b的下遊，正在處理的容器從第一消毒方向Y偏離至第二消毒方向Z，並且同時沿著第二消毒方向移動，以便進入和經過輔助室36。
[0100]具體地，容器C5跨過輔助室36，所述容器以壁彼此面對的方式一個接ー個地對準；也就是說，容器C5以列的方式面對。
[0101]在第二消毒方向Z上，容器C5通過第三電子炮28c經歷第二次消毒，第三電子炮的發射軸線E3相對於水平面入射，優選地相對於水平面正交。
[0102]在第二消毒方向Z上，容器C5成列地設置，使得容器的吸管A的軸線基本上平行於第三炮28c的發射錐的發射軸線。
[0103]這種布置允許對容器C的吸管A進行極好的消毒。[0104]容器C5移動，以使得ー個或多個容器C6容納於輸出單元60的承載座中。當容納於承載座中的容器的數量達到預定數量吋，迴轉本體旋轉，以使容納有容器C6的承載座與出ロ對準，並且優選地，另一空的承載座與入口對準，以便進行下一次裝載。
[0105]容納在與出ロ對準的承載座中的容器C7移動至消毒裝置的外部。
[0106]在消毒期間容器前進方向的改變可以使容器的部分暴露於電子束的時間最優。
[0107]具體地,在第一消毒方向Y上,容器C4成排地面對,並且由於電子炮28a、28b的布置，在本體B的非常薄的壁B』、B」上的消毒尤其有效。容器C的寬度尺寸W決定了所述容器在炮28a、28b的發射錐下經歷的傳輸時間。
[0108]在第二消毒方向Z上，容器C5成列地面對，並且由於電子炮28c的布置，在吸管A內部的消毒尤其有效。容器C的厚度尺寸T決定了所述容器在炮28c的發射錐下經歷的傳輸時間。
[0109]由於容器C的寬度W比容器的厚度T大得多(這也是它們被稱為薄壁容器的原因)，所以針對相關需要，經歷第一次消毒比經歷第二次消毒少得多，這是由於容器的壁比吸管需要更少持續時間的消毒。
[0110]通常，沿著消毒路徑(沿著該消毒路徑，限定了彼此分離且相對於所述消毒路逕入射的第一參考面Prl和另ー參考面Pr3，)第一電子炮28a具有位於第一參考面Prl上的發射軸線E1，並且另一電子炮28c具有位於另ー參考面Pr3上的發射軸線E3。不同於第一炮28a的發射軸線El，另ー炮 28c的發射軸線E3相對於消毒路徑傾斜。
[0111]因此，容器C可在不同方向上被消毒，以使電子云在容器的不同區域上的作用最優。
[0112]優選地，另外，消毒系統100包括:消毒裝置；支撐結構102，所述裝置位於該支撐結構上，例如離開地面；以及外殼體104，所述裝置容納在外殼體中，該外殼體適於用作輻射洩漏的屏障。
[0113]外殼體104包括鉛制的側壁，這屏蔽任何輻射。
[0114]殼體104配有一對支座108，所述支座形成於側壁中，位於輸入単元和輸出單元的位置處。
[0115]在封閉結構中，所述單元突出到殼體104的外部，以允許待消毒的容器進入或允許消毒後的容器出來。
[0116]優選地，另外，結構102包括多個支柱106，殼體104在支柱上滑動，以降低到裝置I上並容納該裝置，或者升高以允許例如維修操作。
[0117]新穎地，根據本發明的低壓電子束消毒裝置尤其適於處理薄壁柔性容器。
[0118]有利地，根據本發明的裝置適於直接併入生產車間中，這是因為其適應現有法律極大地限制了輻射的洩漏。
[0119]具體地，根據本發明的裝置的設計遵循被稱為「3反彈規則(3bounCe rule)」的實際設計規則，根據該規則，由電子炮輻射的任何射線在從殼體出來之前必須在殼體的內壁反彈三次，從而使所保有的能量實際具有零值。
[0120]此外，有利地，使得待消毒的容器的暴露時間最優，使得暴露時間根據待消毒部件的需求而不同。
[0121]很顯然，本領域技術人員可以對以上所述的裝置進行改迸。[0122]例如，根據ー個實施例變型，用於第二次消毒的電子炮與用於第一次消毒的電子炮位於ー個平面上，而在第一次消毒之後，使得容器以如下方式旋轉，即，使得能夠將其自身定位成使吸管平行於用於第二次消毒的電子炮的發射軸線。
[0123]根據另ー實施例變型，輸入單元和/或輸出單元具有例如等角度地設置的多於兩個的承載座。
[0124]根據再ー實施例，第一次消毒通過單個電子炮來進行。
[0125]根據又ー實施例，第二次消毒通過兩個或更多個電子炮來進行。
[0126]此外，根據ー個實施例變型，輸入單元和/或輸出單元的迴轉本體執行90°的旋轉，以使所承載的容器對準以便於離開。
[0127]根據另ー實施例變型,用於驅動迴轉本體的電機通過電影鏈(cinematic chain,膠片狀鏈)連接至迴轉本體。
[0128]這些變型也包含在所附`權利要求所限定的保護範圍內。
【權利要求】
1.用於薄壁容器(C)的利用電子束的消毒裝置(1)，包括: -輸入單元(40)，屏蔽電子束所產生的放射性輻射； -消毒組(20)，具有內部消毒室，被連接在所述輸入単元(40)的下遊以便密封放射性輻射，包括適於在所述消毒室中發射電子束的至少ー個電子炮(28a，28b，28c)； 其中，所述輸入単元(40)包括按指令圍繞旋轉軸線迴轉的迴轉本體(56)，所述迴轉本體配有至少ー個承載座(58)，以將預定數量的容器(C)從外部環境送到所述消毒室，從而避免來自所述消毒室的放射性輻射。
2.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述迴轉本體(56)配有至少兩個成角度隔開的承載座(58)。
3.根據權利要求2所述的裝置，其中，所述承載座相對於所述迴轉本體的旋轉軸線徑向相對地設置。
4.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中，所述消毒室包括沿第一消毒軸線(Y)延伸的主室(24)以及沿第二消毒軸線(Z)延伸的輔助室(36)，所述第二消毒軸線相對於所述第一消毒軸線(Y)入射，例如與所述第一消毒軸線正交。
5.根據權利要求4所述的裝置，包括預消毒室(50)，所述預消毒室位於所述裝載單元(40)的下遊且位於所述消毒組(20)的上遊，所述預消毒室沿輸入軸線(X)延伸，所述輸入軸線相對於所述第一消毒軸線(Y)入射，例如與所述第一消毒軸線正交。
6.根據權利要求4或5所述的裝置，包括後消毒室(55)，所述後消毒室位於所述消毒組(20)的下遊，所述後消毒室沿與所述第二消毒軸線(Z)重合的輸出軸線延伸。
7.根據權利要求4至6中任一項所述的裝置，其中，第一炮(28a)沿著所述第一消毒軸線(Y)設置。
8.根據權利要求7所述的裝置，其中，另ー炮(28c)沿著所述第二消毒軸線(Z)設置。
9.根據權利要求7或8所述的裝置，其中，第二炮(28c)沿著所述第一消毒軸線(Y)設置。
10.根據權利要求9所述的裝置，其中，所述另ー炮(28c)的發射軸線(E3)以與所述第ー炮(28a)的發射軸線(El)不同的方式相對於所述第二消毒方向(Z)傾斜。
11.根據權利要求10所述的裝置，其中，所述第二炮(28b)的發射軸線(E2)位於由所述第一炮(28a)的發射軸線(El)以及由所述第一消毒方向限定的發射面(Pel)上，所述第二炮相對於所述第一消毒方向(Y)位幹與所述第一炮(28a)相對的側上。
12.根據權利要求4至11中任一項所述的裝置，包括: -第一支撐裝置，沿著所述第一消毒方向(Y)設置，適於引導所述容器(C)，使得所述容器成排地彼此並排設置；以及 -第二支撐裝置，沿著所述第二消毒方向(Z)設置，適於引導所述容器(C)，使得所述容器成列地一個接ー個地設置。
13.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，包括輸出單元(60)，所述輸出単元包括按指令圍繞旋轉軸線迴轉的迴轉本體(56)，所述迴轉本體配有至少ー個承載座(58)，以將預定數量的容器(C)從所述消毒室送到外部環境，避免來自所述消毒室的放射性輻射。
14.對薄壁容器(C)消毒的方法，包括以下步驟: -將待處理的容器(C)裝載到輸入單元(40)的迴轉本體(62)的承載座(58)中；-使所述迴轉本體旋轉，以使所述容器(C)進入消毒室中； -從面對所述消毒室的承載座提取所述容器並使所述容器沿著所述消毒室前進； -通過電子炮發射電子云到所述消毒室中； -通過所述電子云使所述容器經歷消毒。
15.根據權利要求14所述的方法，包括以下步驟: -將消毒後的所述容器(C)裝載到輸出単元(60)的迴轉本體(62)的承載座(58)中，所述承載座面向所述消毒室； -使所述迴轉本體旋轉，以使外部環境中的容器(C)進入所述消毒室； -從面向所述外部環境的所述承載座提取所述容器。
16.用於薄壁容器(C)的電子束消毒裝置(I)，包括: -輸出單元(60)，屏蔽電子束所產生的放射性輻射； -消毒組(20)，具有內部消毒室，被連接在所述輸出単元(60)上遊以便密封放射性輻射，包括適於在所述消毒 室中發射電子束的至少ー個電子炮(28a，28b，28c)； 其中，所述輸出単元(60)包括按指令圍繞旋轉軸線迴轉的迴轉本體(62)，所述迴轉本體配有至少ー個承載座(58)，以將預定數量的容器(C)從所述消毒室送到外部環境，避免來自所述消毒室的放射性輻射。
17.根據權利要求16所述的裝置，其中，所述迴轉本體(62)配有至少兩個成角度隔開的承載座(58)。
18.根據權利要求17所述的裝置，其中，所述承載座相對所述迴轉本體的旋轉軸線徑向相對地設置。
19.根據權利要求16至18中任一項所述的裝置，其中，所述消毒室包括沿第一消毒軸線(Y)延伸的主室(24)以及沿第二消毒軸線(Z)延伸的輔助室(36)，所述第二消毒軸線相對於所述第一消毒軸線(Y)入射，例如與所述第一消毒軸線正交。
20.根據權利要求19所述的裝置，包括後消毒室(55)，所述後消毒室位於所述輸出單元(60)的上遊且位於所述消毒組(20)的下遊，所述後消毒室沿與所述第二消毒軸線(Z)重合的輸出軸線延伸。
21.根據權利要求19或20所述的裝置，包括預消毒室(50)，所述預消毒室位於所述消毒組(20)的上遊，所述預消毒室沿輸入軸線(X)延伸，所述輸入軸線相對於所述第一消毒軸線(Y)入射，例如與所述第一消毒軸線正交。
22.根據權利要求19至21中任一項所述的裝置，其中，第一炮(28a)沿著所述第一消毒軸線(Y)設置。
23.根據權利要求22所述的裝置，其中，另ー炮(28c)沿著所述第二消毒軸線(Z)設置。
24.根據權利要求22或23所述的裝置，其中，第二炮(28a)沿著所述第一消毒軸線(Y)設置。
25.根據權利要求24所述的裝置，其中，所述另ー炮(28c)的發射軸線(E3)以與所述第一炮(28a)的發射軸線(El)不同的方式相對於所述第二消毒方向(Z)傾斜。
26.根據權利要求25所述的裝置，其中，所述第二炮(28b)的發射軸線(E2)位於由所述第一炮(28a)的發射軸線(El)以及由所述第一消毒方向限定的發射面(Pel)上，所述第二炮相對於所述第一消毒方向(Y)位幹與所述第一炮(28a)相對的側上。
27.根據權利要求19至26中任一項所述的裝置，包括: -第一支撐裝置，沿著所述第一消毒方向(Y)設置，適於引導所述容器(C)，使得所述容器成排地彼此並排設置；以及 -第二支撐裝置，沿著所述第二消毒方向(Z)設置，適於引導所述容器(C)，使得所述容器成列地一個接ー個地設置。
28.根據權利要求16至27中任一項所述的裝置，包括裝載單元(40)，所述裝載単元包括按指令圍繞旋轉軸線迴轉的迴轉本體，所述迴轉本體配有至少ー個承載座(58)，以將預定數量的容器(C)從外部環境送到所述消毒室，避免來自所述消毒室的放射性輻射。
29.對薄壁容器(C)消毒的方法，包括以下步驟: -將所述容器(C)插入到消毒室中並使所述容器沿著所述消毒室前進； -通過電子炮發射電子云到所述消毒室中； -通過所述電子云使所述容器經歷消毒； -將處理後的容器(C)裝載到輸出単元(60)的迴轉本體的承載座中； -使所述迴轉本體旋轉，以使所述容器(C)進入外部環境； -從面向所述外部環境的所述承載座提取所述容器並使所述容器進入所述外部環境。
30.根據權利要求29所述的方法，其中，將所述容器(C)插入到消毒室中並使所述容器沿著所述消毒室前進的步驟包括·以下步驟: -將待消毒的容器(C)裝載到裝載單元的迴轉本體的承載座中，所述承載座面向所述消毒室外部的環境； -使所述迴轉本體旋轉，以使所述容器(C)朝著所述消毒室； -從面對所述消毒室的所述承載座提取所述容器。
【文檔編號】A61L2/08GK103596596SQ201280020539
【公開日】2014年2月19日 申請日期:2012年4月17日 優先權日:2011年4月26日
【發明者】弗爾維奧·拉古齊 申請人:刮拉包裝股份公司