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一種垂直電泳槽的製作方法

2023-05-15 21:28:21

專利名稱:一種垂直電泳槽的製作方法
技術領域:
本實用新型涉及電泳分析儀器,特別提供了一種適用於變性梯度凝膠電泳的高溫度均勻性溫控垂直電泳槽。
現有的垂直電泳槽可分為開放式垂直電泳槽和封閉式垂直電泳槽。開放式垂直電泳槽的槽體由垂直板和電極室組成,電泳時要用多個夾子將膠室固定在電泳槽的垂直板上,易漏電泳液和凝膠,無溫控功能。封閉式垂直電泳槽,無論是夾心式,還是一體式,電極室的分隔都在水平方向上進行,雖然可加入蛇形冷卻管,外接冷卻水後有冷卻功能,但也無溫控功能。無論是開放式垂直電泳槽,還是封閉式垂直電泳槽,其電極室的分隔方式決定了其所用的構成膠室的兩塊玻璃板是不一樣的,一般是一塊比另一塊短1-2釐米。
由於變性梯度凝膠電泳要求在較高的溫度(45-65℃)下進行,且溫度均勻性對電泳結果的影響非常大,現有的各種垂直電泳槽都無法滿足這一實驗技術的要求。
本實用新型提供了一種高溫度均勻性溫控垂直電泳槽以適用於變性梯度凝膠電泳這類技術的應用。
本實用新型是這樣實現的該裝置的槽體有一個上開口,槽體中有一隔板隔成上下兩個電極室,在隔板上開有膠室插口,槽蓋上與該插口對應處並有上樣孔;槽體底板的四角處有四個接口與一個緩衝液溫控循環系統相連,該循環系統是由管道、控溫組件、強力循環泵組成,可進行所需的高溫度均勻性溫控;膠室是兩塊完全一樣長的玻璃板,之間有兩條側壓條,平行套置在膠室上端的矽橡膠O型圈起緊固膠室作用。
本實用新型具有以下優點1.由於採用了隔板分隔一體式槽體形成上下兩個電極室的方式,避免了現有垂直電泳槽的煩瑣操作和易漏緩衝液等問題。
2.採用了管道式加熱系統和強力泵循環系統,實現了高溫度均勻性和槽體的簡潔性,可避免如果在槽體內使用加熱器和攪拌器而導致的結構複雜和操作不便。
3.由於膠室採用了兩塊完全一樣的玻璃板,使變性梯度凝膠製備簡潔化。
以下結合附圖對本實用新型的實施例作進一步詳細描述。


圖1為本實用新型高溫度均勻性溫控垂直電泳槽主結構示意圖。
圖2A、2B為本實用新型的膠室結構示意圖。
如圖1所示,槽體1是一個上開口的耐高溫透明長方體,用長方形隔板4隔成上下兩個電極室,在上下電極室中均裝有一條平行於隔板4的鉑金絲作為電極;在隔板4的長向中線上開有長方形的膠室插口3;槽蓋2為透明長方形平板,蓋上後與隔板4的膠室插口3對應處開有上樣孔5,隔板4與槽體底板平行安裝;槽體整體採用PC材料注塑而成。
槽體底板的四角處設有四個接口6,與緩衝液溫控循環系統7相連。該循環系統的管道9採用耐溫耐腐矽橡膠管,溫控組件10的加熱部件為石英管外纏繞加熱帶,以適用於各種PH值的緩衝液。石英管外壁與加熱帶之間墊有鋁箔,加熱帶外纏以保溫材料,石英管的外徑與採用的矽橡膠管相應。強力循環泵8與緩衝液接觸的部件均為工程塑料部件,耐緩衝液腐蝕。
如圖2A,2B所示,膠室11由兩塊完全一樣的長方形玻璃板12、兩條側壓條13組成,矽橡膠O型圈14起緊固膠室作用,當膠室插入插口3時,還起定位作用,並能良好地隔離上下膠室,其位置是平行套放在膠室上端20mm左右處。
電泳時,先將下電極室注滿緩衝液,然後插入注好膠的膠室,最後在上電極室注入緩衝液沒過膠室上邊緣,通電設好溫度,等恆溫後即可上樣電泳。
權利要求1.一種垂直電泳槽,包括槽體1、膠室11,其特徵在於它還有一個由強力循環泵8、管道9、溫控組件10組成的緩衝液溫控循環系統7,以進行高溫度均勻性溫控;槽體1有一個上開口,槽體中有一隔板4隔成上下兩個電極室,在隔板4上開有膠室插口3,槽蓋2上與該插口對應處開有上樣孔5;槽體底板四角處有四個接口6與緩衝液溫控循環系統7相連;膠室11是兩塊完全一樣長的玻璃板12,之間有兩條側壓條13,平行套放在膠室上端的矽橡膠O型圈14起緊固膠室作用。
2.根據權利要求1所述的電泳槽,其特徵在於槽體1是一個耐高溫透明長方體,整體採用PC材料注塑而成;緩衝液溫控循環系統7的管道9採用耐溫耐腐矽橡膠管,溫控組件10的加熱部件為石英管外纏繞加熱帶,石英管外壁與加熱帶之間墊有鋁箔,加熱帶外纏以保溫材料,強力循環泵8與緩衝液接觸的部件均為工程塑料部件。
專利摘要本實用新型涉及一種垂直電泳槽,特別適用於變性梯度凝膠電泳的高溫度均勻性溫控的垂直電泳槽。它包括槽體、膠室和一個緩衝液溫控循環系統。槽體為上開口長方體,用長方形隔板隔成上下兩個電極室,隔板上開有長方形的膠室插口,槽蓋上與膠室插口對應處開有上樣孔;槽體底板上有四個接口與緩衝液溫控循環系統相連。膠室由兩塊完全一樣長的長方形玻璃板和兩條側壓條組成,並用矽橡膠O型圈緊固在一起;當膠室插入插口時,矽橡膠O型圈還起定位和密封作用。
文檔編號G01N27/453GK2429829SQ0023887
公開日2001年5月9日 申請日期2000年6月22日 優先權日2000年6月22日
發明者陸利華, 閻志偉, 袁紀偉, 張家洵, 朱一川 申請人:北京市新技術應用研究所

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