少落塵的真空磁控濺射鍍膜設備的製作方法

2023-05-06 06:17:06

專利名稱：少落塵的真空磁控濺射鍍膜設備的製作方法
技術領域：
本實用新型是一種濺射鍍膜設備，用於玻璃鍍膜工藝，具體是一種少落塵的真空磁控濺射鍍膜設備。
背景技術：
目前市場上用於大面積玻璃鍍膜的磁控濺射設備均採用臥式生產線，這樣操作由於未濺射到基板的離子大量吸附在遮蔽板或陰極蓋板上，長時間便形成鬆散堆積，一些這種堆積的「灰塵」在工藝氣體造成的氣體波動下分散在腔體內，並在重力作用下落在鍍膜基板的表面造成落塵，正是這樣的落塵造成了大量的鍍膜廢品。很多廠家為了減少這種廢品損失，不得不頻繁進行設備保養，反覆抽、破真空，而導致生產效率下降，產品質量不穩定。
發明內容本實用新型的技術目的是為了解決現有技術中存在的問題，克服現有設備的缺陷，提供一種可以有效減少鍍膜玻璃上產生落塵的真空磁控濺射鍍膜設備。本實用新型的技術方案是一種少落塵的真空磁控濺射鍍膜設備，設有濺射區，所述濺射區內設有磁控濺射陰極的靶材及組件，其特徵在於所述磁控濺射陰極的遮蔽板上設有不鏽鋼網。進一步地，所述不鏽鋼網採用12目的不鏽鋼網。作為優選，所述不鏽鋼網的材質選用304不鏽鋼。本實用新型的有益效果本實用新型由於在真空磁控濺射鍍膜設備的陰極上加裝不鏽鋼網，有效地增加了多餘濺射離子(即未濺射到基板上的離子)與陰極遮蔽板的接觸面積及吸附力，特別是在安裝SiAl、Sn、ZnSn等易產生落塵的靶材陰極的檔、底板上加裝不鏽鋼網，從而有效地減少鍍膜玻璃上產生落塵的機率，大大地提高鍍膜成品率，降低鍍膜設備的保養頻率。

圖I是本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
為了闡明本實用新型的技術方案及技術目的，
以下結合附圖及具體實施方式
對本實用新型做進一步的介紹。如圖所示，在陰極遮蔽板I上加裝有12目的不鏽鋼網2，所述不鏽鋼網2採用304 不鏽鋼製成。所述不鏽鋼網2可通過電焊的方式焊接在遮蔽板I的表面上，不一定要焊接得很緊密，其具體焊接連接的方式可根據實際需要和具體條件來判斷。以上已以較佳實施例公開了本實用新型，然其並非用以限制本實用新型，凡採用等同替換或者等效變換方式所獲得的技術方案，均落在本實用新型的保護範圍之內。
權利要求1.一種少落塵的真空磁控濺射鍍膜設備，設有濺射區，所述濺射區內設有磁控濺射陰極的靶材及組件，其特徵在於所述磁控濺射陰極的遮蔽板上設有不鏽鋼網。
2.根據權利要求I所述的一種真空磁控濺射鍍膜設備，其特徵在於所述不鏽鋼網為12目的不鏽鋼網。
3.根據權利要求2所述的一種真空磁控濺射鍍膜設備，其特徵在於所述不鏽鋼網的材質為304不鏽鋼。
專利摘要本實用新型公開了一種少落塵的真空磁控濺射鍍膜設備，設有濺射區，所述濺射區內設有磁控濺射陰極的靶材及組件，其特徵在於所述磁控濺射陰極的遮蔽板上設有不鏽鋼網。在應用真空磁控濺射鍍膜方法鍍制玻璃時，本實用新型通過在陰極遮蔽板上加裝不鏽鋼網，增加了未濺射到基板上的離子與陰極遮蔽板的接觸面積及吸附力，從而有效地減少鍍膜玻璃上產生落塵的機率，大大地提高了鍍膜產品的良品率，降低鍍膜設備保養的頻率。
文檔編號C23C14/35GK202347090SQ20112046843
公開日2012年7月25日 申請日期2011年11月23日 優先權日2011年11月23日
發明者林嘉宏 申請人:林嘉宏