硬質拋光墊的製作方法

2023-04-29 07:57:26 1

專利名稱:硬質拋光墊的製作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種硬質拋光墊，包括硬質拋光層，和與所述硬質拋光層相對的背板層；其特徵在於：所述硬質拋光層形成有縱橫交錯的排屑槽，以及形成在所述排屑槽之間的拋光平臺；所述背板層形成有散熱陣列以及位於所述散熱陣列之間的凹槽；而所述拋光墊還具有從所述背板層延伸至所述拋光層的空氣通道。本實用新型所述的硬質拋光墊，可以用於光學玻璃或金屬材料的拋光處理，而且有利於減少拋光表面的劃痕數量，提高拋光效果。
【專利說明】硬質拋光塾

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及化學機械拋光的【技術領域】，更具體地說，本實用新型涉及一種硬質拋光墊。

【背景技術】
[0002]目前，在光學鏡片以及金屬基片等冷加工領域，硬質拋光墊已經被廣泛使用，但現有技術中的硬質拋光墊通常為具有特定粗糙度的平面結構，浸漬拋光液後，液體拋光不均勻，拋光效率低，加工精度不高，且拋光過程中摩擦會發熱，發熱使拋光太光滑，導致拋光墊不能使用，而且拋光墊容易吸附在光學鏡片以及金屬基片上，難以取放；此外，每次拋光一定時間後還需要對拋光墊表面進行清理，才能繼續使用，而且使用壽命較短。在設計拋光層時，需要考慮的主要因素有拋光漿料在拋光層上的分布，新鮮拋光漿料進入拋光軌跡的流動，拋光漿料從拋光軌跡的流動，以及流過拋光區域基本未被利用的拋光漿料的量等因素。儘管現有技術中也公開了多種改進結構以期降低拋光漿料消耗並使得拋光漿料在拋光層上的保持時間最長的結構，然而需要在保證拋光速率的基礎上，進一步提高拋光效果和拋光效率。
實用新型內容
[0003]為了解決現有技術中的上述技術問題，本實用新型的目的在於提供一種硬質拋光墊。
[0004]為了實現上述目的，本實用新型採用了以下技術方案:
[0005]一種硬質拋光墊，包括硬質拋光層，和與所述硬質拋光層相對的背板層；其特徵在於:所述硬質拋光層形成有縱橫交錯的排肩槽，以及形成在所述排肩槽之間的拋光平臺；所述背板層形成有散熱陣列以及位於所述散熱陣列之間的凹槽；而所述拋光墊還具有從所述背板層延伸至所述拋光層的空氣通道。
[0006]其中，所述排肩槽的橫截面為U形、V形、長方形或半圓形。
[0007]其中，所述排肩槽的寬度為0.Γ0.6 mm。
[0008]其中，所述硬質拋光墊為圓盤狀。
[0009]其中，所述硬質拋光墊的直徑為100?500 mm。
[0010]其中，所述拋光層的厚度為1.2^3.0 mm ;所述背板層的厚度為5?20 mm。
[0011]其中，所述空氣通道的個數為2?4個。
[0012]與現有技術相比，本實用新型所述的硬質拋光墊具有以下有益效果:
[0013]本實用新型所述的硬質拋光墊，可以用於光學玻璃或金屬材料的拋光處理，有利於減少拋光表面的劃痕數量，提高拋光效果；而且由於外界的空氣也可以從空氣通道通孔進入到基片與拋光層的界面中，從而有利於基片的轉移。
【附圖說明】

[0014]圖1為實施例1所述硬質拋光墊的結構示意圖；
[0015]圖2為實施例1所述硬質拋光墊部分剖視結構的示意圖；
[0016]圖3為實施例1所述硬質拋光墊的部分橫截面結構示意圖。

【具體實施方式】
[0017]以下將結合具體實施例對本實用新型所述的硬質拋光墊做進一步的闡述，以幫助本領域的技術人員對本實用新型的實用新型構思、技術方案有更完整、準確和深入的理解。
[0018]實施例1
[0019]如圖f 3所示，本實施例所述的硬質拋光墊，且其為圓盤狀，直徑一般為10(Γ500mm。具體來說，所述硬質拋光墊包括硬質拋光層20，和與所述硬質拋光層20相對的背板層
10。作為拋光層和背板層的材料，其通常為現有技術中的硬質合金，例如以鈷作為連續相和以碳化鎢為硬質相的硬質合金，或者以金剛石顆粒或類金剛石顆粒為分散相的硬質材料。所述拋光層的厚度優選為1.2^3.0 _，當所述拋光層的厚度小於1.2mm時，拋光層的使用壽命將顯著降低，而當所述拋光層的厚度大於3_時，可能會降低拋光效果，例如可能會導致劃痕數量增加，並增加不均勻性。而為了保證散熱效果，所述背板層的厚度優選為5?20_。所述硬質拋光層形成有縱橫交錯的排肩槽21，以及形成在所述排肩槽之間的拋光平臺22。圖中，所示的排肩槽的橫截面為長方形，此外其還可以是其它任何形狀，例如U形、V形、或半圓形，只要便於製備即可，而所述排肩槽的寬度為0.Γ0.6 _，在此寬度範圍內，即有利於排肩以及拋光液的流動，又不影響拋光效果。另外，所述背板層10形成有散熱陣列11以及位於所述散熱陣列之間的凹槽12 ;而所述拋光墊還具有從所述背板層延伸至所述拋光層的空氣通道30，並且所述空氣通道的個數為2?4個。本實施例的硬質拋光墊，可以用於光學玻璃或金屬材料的拋光處理，有利於減少拋光表面的劃痕數量，提高拋光效果；而且由於外界的空氣也可以從空氣通道進入到基片與拋光層的界面中，當研磨金屬材料時，不僅有利於提高研磨速率，而且還方便基片的轉移。
[0020]對於本領域的普通技術人員而言，具體實施例只是對本實用新型進行了示例性描述，顯然本實用新型具體實現並不受上述方式的限制，只要採用了本實用新型的方法構思和技術方案進行的各種非實質性的改進，或未經改進將本實用新型的構思和技術方案直接應用於其它場合的，均在本實用新型的保護範圍之內。
【權利要求】
1.一種硬質拋光墊，包括硬質拋光層，和與所述硬質拋光層相對的背板層；其特徵在於:所述硬質拋光層形成有縱橫交錯的排肩槽，以及形成在所述排肩槽之間的拋光平臺；所述背板層形成有散熱陣列以及位於所述散熱陣列之間的凹槽；而所述拋光墊還具有從所述背板層延伸至所述拋光層的空氣通道。2.根據權利要求1所述的硬質拋光墊，其特徵在於:所述排肩槽的橫截面為U形、V形、長方形或半圓形。3.根據權利要求1所述的硬質拋光墊，其特徵在於:所述排肩槽的寬度為0.Γ0.6 mm。4.根據權利要求1所述的硬質拋光墊，其特徵在於:所述硬質拋光墊為圓盤狀。5.根據權利要求4所述的硬質拋光墊，其特徵在於:所述硬質拋光墊的直徑為10(Γ500mm06.根據權利要求5所述的硬質拋光墊，其特徵在於:所述拋光層的厚度為1.2^3.0 mm ;所述背板層的厚度為5?20 mm。7.根據權利要求5所述的硬質拋光墊，其特徵在於:所述空氣通道的個數為2?4個。
【文檔編號】B24B37-26GK204277743SQ201420630803
【發明者】張海龍, 王紅豔, 張磊 [申請人]安陽方圓研磨材料有限責任公司