清洗修整盤的製作方法

2023-05-23 01:50:16

專利名稱：清洗修整盤的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種用於拋光機的拋光檯面上，對拋光臺面進行清洗、修整的清洗修整盤。
技術背景在我們現有的技術中，用來對光學低通濾波器晶片進行拋光處理的拋光機，採用的是將需要拋光的晶片擺放在拋光下模上，通過內部電機帶動傳動軸轉動，從而帶動拋光下模呈行星運行模式轉動，通過拋光上模對晶片進行拋光處理，在完成拋光工序後，由於拋光機的長時間工作，很容易導致拋光上模和拋光下模的接觸面產生磨損，且由於長期拋光液的浸注也使拋光模具內產生很多的雜質，急需清洗，原有的清洗只是單純的用清水衝刷，在很大程度上容易導致拋光模具內的死角有很多雜質的殘留，從而影響後期拋光晶片的質 量。
發明內容本實用新型解決的技術問題是提供一種一次性完成拋光臺面的清洗，以及拋光上模和拋光下模接觸面處的修整的清洗修整盤。本實用新型解決其技術問題所採取的技術方案是一種用於對拋光機上的拋光臺面進行修整、清洗的清洗修整盤，該清洗修整盤包括正面和反面，其中，所述正面為修整面，反面為清洗面，該清洗修整盤的外周邊上開設有外齒，所述外齒與拋光下模上的內外傳動齒嚙合；所述修整面的中心開設有中心孔，在修整面的表面鍍有金剛石層，且在所述修整面上開設有凹槽；所述清洗面的中心部位開設有濾液孔，在清洗面的表面通過線繩固定連接有刷毛，所述刷毛呈密集型的設置在清洗面的表面。進一步的，為了方便清洗液的流動，所述凹槽的個數至少為三個，且所述凹槽以修整面中心點位置為中心呈陣列狀分布。更進一步的，所述凹槽的個數為六個。進一步的，在所述清洗面上為了保證清洗液能停留一段時間後再流走，所述濾液孔的個數為四個，且該四個濾液孔在清洗面的中心部位呈陣列狀分布。本實用新型的有益效果是本結構具體採用的是使用偶數個清洗修整盤置於拋光下模內，且相鄰兩個清洗修整盤是正反面間隔擺放的，可以一次性完成拋光模具內的清洗以及拋光上模和拋光下模接觸面的修整恢復工序，大大提高了拋光機的後期維護工作，保證後期晶片的拋光質量。


以下結合附圖對本實用新型進一步說明。圖I是本結構的正面示意圖；圖2是本結構的反面示意圖；[0012]圖3是本結構用於去清洗修整的拋光機結構示意圖。圖中1、修整面11、凹槽12、中心孔2、清洗面21、濾液孔22、刷毛3、外齒4、拋光機5、拋光上模6、拋光下模。
具體實施方式
如圖I和圖2所示一種用於對拋光機上的拋光臺面進行修整、清洗的清洗修整盤，該清洗修整盤包括正面和反面，其中，所述正面為修整面1，反面為清洗面2，該清洗修整盤的外周邊上開設有外齒3,所述外齒3與拋光下模5上的內外傳動齒哨合；所述修整面I的中心開設有中心孔12，在修整面I的表面鍍有金剛石層，且在所述修整面I上開設有凹槽
11;所述清洗面2的中心部位開設有濾液孔21，在清洗面2的表面通過線繩固定連接有刷毛22，所述刷毛22呈密集型的設置在清洗面2的表面。 進一步的，為了方便清洗液的流動，所述凹槽11的個數至少為三個，且所述凹槽11以修整面中心點位置為中心呈陣列狀分布。更進一步的，所述凹槽11的個數為六個。進一步的，在所述清洗面2上為了保證清洗液能停留一段時間後再流走，所述濾液孔21的個數為四個，且該四個濾液孔21在清洗面2的中心部位呈陣列狀分布。本結構具體採用的是使用偶數個清洗修整盤置於拋光下模內，對於濾波器晶片進行拋光處理是需要拋光機4的,在拋光機4上包括拋光上模5和拋光下模6, —般對於長期拋光的臺面和拋光上、下模接觸處會產生雜質以及拋光面不平整，需要定期的進行修整和清洗，本清洗修整盤採用的個數為四個，將該四個清洗修整盤放置在拋光下模內，外齒3與拋光下模6內的內外傳動齒嚙合，具體的擺放位置為相鄰兩個清洗修整盤是正反面間隔擺放的，可以一次性完成拋光模具內的清洗以及拋光上模5和拋光下模6接觸面的修整恢復工序，大大提高了拋光機4的後期維護工作，保證後期濾波器晶片的拋光質量。需要強調的是，以上是本實用新型的較佳實施列而已，並非對此實用新型在外觀上作任何形式的限制，凡是依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本實用新型技術方案的範圍內。
權利要求1.一種用於對拋光機上的拋光臺面進行修整、清洗的清洗修整盤，其特徵在於該清洗修整盤包括正面和反面，其中，所述正面為修整面(1)，反面為清洗面(2)，該清洗修整盤的外周邊上開設有外齒(3)，所述外齒(3)與拋光下模上的內外傳動齒嚙合；所述修整面(I)的中心開設有中心孔(12)，在修整面(I)的表面鍍有金剛石層，且在所述修整面(I)上開設有凹槽(11);所述清洗面(2)的中心部位開設有濾液孔(21)，在清洗面(2)的表面通過線繩固定連接有刷毛(22)，所述刷毛(22)呈密集型的設置在清洗面(2)的表面。
2.根據權利要求I所述的清洗修整盤，其特徵在於所述凹槽(11)的個數至少為三個，且所述凹槽(11)以修整面中心點位置為中心呈陣列狀分布。
3.根據權利要求2所述的清洗修整盤，其特徵在於所述凹槽(11)的個數為六個。
4.根據權利要求I所述的清洗修整盤，其特徵在於所述濾液孔(21)的個數為四個，且該四個濾液孔在清洗面的中心部位呈陣列狀分布。
專利摘要本實用新型涉及一種清洗修整盤，其特徵在於該清洗修整盤包括正面和反面，其中，所述正面為修整面，反面為清洗面，該清洗修整盤的外周邊上開設有外齒，所述外齒與拋光下模上的內外傳動齒嚙合；所述修整面的中心開設有中心孔，在修整面的表面鍍有金剛石層，且在所述修整面上開設有凹槽；所述清洗面的中心部位開設有濾液孔，在清洗面的表面通過線繩固定連接有刷毛，刷毛呈密集型的設置在清洗面的表面。本結構具體採用的是使用偶數個清洗修整盤置於拋光下模內，且相鄰兩個清洗修整盤是正反面間隔擺放的，可以一次性完成拋光模具內的清洗以及拋光上模和拋光下模接觸面的修整恢復工序，大大提高了拋光機的後期維護工作，保證後期晶片的拋光質量。
文檔編號B24B53/00GK202656064SQ20122024890
公開日2013年1月9日 申請日期2012年5月30日 優先權日2012年5月30日
發明者冷志紅, 蔡靈玲 申請人:崑山明本光電有限公司