一種具有熱均勻性的熱處理方法
2023-05-20 07:52:41
專利名稱：一種具有熱均勻性的熱處理方法
技術領域：
本發明公開了一種具有熱均勻性的熱處理方法，屬於熱處理技術領域。
背景技術：
現有熱處理裝置的進氣排風系統常因為溫度低而使蒸發物在氣體排放口遇冷凝結變成液態，甚至變成固態，使得氣體排放口大小改變，造成執行熱處理程序時淨化氣流流量的不穩定，所以，該熱處理裝置操作一段時間就必須停機進行處理室的清潔，且淨化氣流流量的不穩定也將會使光阻表面的溫度不均，進而導致光阻表面的酸濃度不同，使得顯影處理後的光阻尺寸產生變動。
發明內容
本發明的目的是提供一種具有熱均勻性的熱處理方法，藉由熱空氣流動使加熱過程均勻化，且調節排氣的流量，控制排出該處理室內的氣體流量，形成具有熱均勻性的熱處理裝置，用以解決上述技術中的不足。本發明的目的是通過以下技術方案實現的(1)將有待形成光阻圖案的半導體基板的表面，進行一種疏水處理，增加光阻的黏
著性；(2)光阻旋轉塗布至半導體基板表面，形成一光阻膜；(3)光阻膜被預先烘烤從該處移除溶劑；(4)冷卻至室溫；(5)遠紫外線輻射照射曝光；(6)光阻膜接著受到一種曝光後烘烤處理，以促進從光阻膜消除保護基的消去反應；(7)再次冷卻至室溫；(8)以顯影液顯影以形成光阻圖案；(9)形成光阻圖案，光阻膜受到後烘烤。本發明的有益效果是溫度均勻，可進行長時間運行。
圖1是具有熱均勻性的熱處理方法的流程圖
具體實施例方式下面將結合附圖對本發明作進一步說明。如圖1所示，一種具有熱均勻性的熱處理方法具體步驟是(1)將有待形成光阻圖案的半導體基板的表面，進行一種疏水處理，增加光阻的黏
著性；
(2)光阻旋轉塗布至半導體基板表面，形成一光阻膜；(3)光阻膜被預先烘烤從該處移除溶劑；(4)冷卻至室溫；(5)遠紫外線輻射照射曝光；(6)光阻膜接著受到一種曝光後烘烤處理，以促進從光阻膜消除保護基的消去反應；(7)再次冷卻至室溫；(8)以顯影液顯影以形成光阻圖案；(9)形成光阻圖案，光阻膜受到後烘烤。
權利要求
1. 一種具有熱均勻性的熱處理方法，藉由熱空氣流動使加熱過程均勻化，且調節排氣的流量，控制排出該處理室內的氣體流量，形成具有熱均勻性的熱處理裝置，其特徵在於所述的處理方法具體步驟是(1)基板表面疏水處理；(2)光阻旋轉塗布至半導體基板表面；(3)預先烘烤；(4)冷卻至室溫；(5)遠紫外線輻射照射曝光；(6)曝光後烘烤；(7)冷卻至室溫；(8)顯影；(9)烘烤。
全文摘要
本發明公開了一種具有熱均勻性的熱處理方法，屬於熱處理技術領域，具體步驟是(1)基板表面疏水處理；(2)光阻旋轉塗布至半導體基板表面；(3)預先烘烤；(4)冷卻至室溫；(5)遠紫外線輻射照射曝光；(6)曝光後烘烤；(7)冷卻至室溫；(8)顯影；(9)烘烤；有益效果是溫度均勻，可進行長時間運行。
文檔編號G03F7/00GK102393601SQ201110355109
公開日2012年3月28日 申請日期2011年11月10日 優先權日2011年11月10日
發明者宋劍 申請人:宋劍