高擴散反射釉藥層和耐汙染釉藥層及製造其的釉藥組成物的製作方法

2023-05-21 17:03:56 1

高擴散反射釉藥層和耐汙染釉藥層及製造其的釉藥組成物的製作方法
【專利摘要】本發明公開了一種可以用於實現高擴散反射性優良且進一步具備耐汙染性的釉藥層的釉藥組成物，以及具有通過該組合物得到的釉藥層的構件。上述釉藥組合物是一種包括含鋯元素的玻璃料和矽酸鋯粒子的釉藥組成物，其特徵在於，上述玻璃料中上述鋯元素的量，以ZrO2換算，為1.0質量％以上15質量％以下，上述矽酸鋯粒子的平均粒徑為0.4μm以上5μm以下；由該釉藥組成物所形成的釉藥層，可以在寬波長範圍內有效地使光以廣角擴散。而且，兼具不易沾染汙垢且一旦變髒也可以輕易除去汙垢的性質。
【專利說明】高擴散反射釉藥層和耐汙染釉藥層及製造其的釉藥組成物
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種釉藥組成物，具體是涉及一種用於在耐熱基材，例如在建築物的牆體材料的表面上形成釉藥層的釉藥組成物，以及具有通過該釉藥組成物而形成的釉藥層的建材。
【背景技術】
[0002]能夠使可見光擴散、反射，並且使其表面和周圍看起來更明亮的構件，特別是建材，例如當在室內使用該構件時，即使照明很少也可以使室內感覺到明亮。其結果是可節省照明能源的成本。進一步，優選易於除去汙垢的建材。作為使光以廣角進行反射的手段，可以考慮將表面製作成凸凹形狀，然而從該表面的凹凸會汙染的角度來看，其不是一般優選的形狀。
[0003]特開2011-226156號公報(專利文獻I)公開了一種可以輔助室內光的擴散，並通過更少的照明數來維持或提高照度的瓷磚。在這裡，通過含有大量α-氧化鋁且白色度較高的坯體，使可見光的反射率達到70%以上。另外，特開2010-255188號公報(專利文獻2)記載了一種在瓷磚基材表面形成多個凸凹部，進而施加白色釉的光廣角反射瓷磚。上述任何一項都是關於基材表面的組成或形狀的建議。
[0004]另一方面，眾所周知，為了提高釉藥層的白色度，可以添加矽酸鋯等粒子。由於粒子不吸收可見光所以白色度變高。 [0005]現有技術文獻
[0006]專利文獻
[0007]專利文獻1:特開2011-226156號公報
[0008]專利文獻2:特開2010-255188號公報

【發明內容】

[0009]本發明要解決的問題
[0010]本
【發明者】現在發現，在包括含有鋯元素的玻璃料和矽酸鋯粒子的釉藥組成物中，通過將鋯元素量和矽酸鋯粒子的粒徑設定在特定範圍內，可以實現高擴散反射性優良且進一步具有耐汙染性的釉藥層。本發明的第一實施方式是基於該發現所得到的。
[0011]因此，本發明的第一實施方式的目的在於提供一種可以實現高擴散反射性優良且進一步具有耐汙染性的釉藥層的釉藥組成物。
[0012]進一步，本發明的第一實施方式的目的在於提供一種具有釉藥層的構件，其中，上述釉藥層是通過本發明第一實施方式的釉藥組成物而得到的。
[0013]而且，本
【發明者】這次發現，在包括含有鋯元素的玻璃料和矽酸鋯粒子的釉藥組成物中，通過將鋯元素量和矽酸鋯粒子的粒徑設定在特定範圍內，可以實現高擴散反射性優良的釉藥層。本發明的第二實施方式是基於該發現所得到的。
[0014]因此，本發明的第二實施方式的目的在於提供一種具有高擴散反射性優良的釉藥層的構件。
[0015]進一步，本發明的第二實施方式的目的在於提供一種本發明第二實施方式的構件的製造方法。
[0016]解決問題的方法
[0017]根據本發明的第一實施方式的釉藥組成物，其特徵在於，其為包括含有鋯元素的玻璃料和矽酸鋯粒子的釉藥組成物，上述玻璃料中上述鋯元素的量，以ZrO2換算，為1.0質量％以上15質量％以下,上述娃酸錯粒子的平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下。
[0018]另外，根據本發明的第一實施方式的構件，其特徵在於，其為在基材的至少一面上形成有釉藥層的構件，上述釉藥層含有玻璃質成分和矽酸鋯粒子；上述矽酸鋯粒子由粒徑為0.3 μ m以下的粒子、 以及粒徑超過0.3 μ m且平均粒徑在0.4 μ m以上5 μ m以下範圍的粒子組成。
[0019]根據本發明的第二實施方式的構件，其特徵在於，其為具有基材、以及在上述基材上的釉藥層的構件；
[0020]上述釉藥層至少由第一釉藥層和位於該第一釉藥層上的第二釉藥層構成；
[0021]上述第一釉藥層含有白色無機氧化物粒子和玻璃質成分；其中，上述白色無機氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下；
[0022]上述第二釉藥層含有粒徑為0.3μπι以下的矽酸鋯粒子、上述定義的白色無機氧化物粒子和玻璃質成分。
[0023]進一步，根據本發明的第二實施方式所述構件的製造方法，其特徵在於，在基材上使用至少含有白色無機氧化物粒子和玻璃料的釉藥組成物，其中，上述白色無機氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒子徑為0.4 μ m以上5 μ m以下；在其上使用包括含有鋯元素的玻璃料和上述定義的白色無機酸化物粒子的釉藥組成物，之後燒制形成釉藥層。
[0024]發明的效果
[0025]根據本發明的第一實施方式，提供了一種能夠形成高擴散反射性優良且進一步具備耐汙染性的釉藥層的釉藥組成物。
[0026]根據本發明的第二實施方式，提供了一種具備高擴散反射性優良的釉藥層的構件。
【具體實施方式】
[0027]定義
[0028]本說明書中，所謂「粒子的平均粒徑」，是通過掃描型電子顯微鏡在倍率5000倍下觀察50個粒子，按照圓形近似求得直徑，然後以個數為基準計算該直徑的中值粒徑(即，累積分布中50%的直徑:D50)。釉藥組成物中的粒徑，是通過將組成物的乾燥物按上述條件而求得的值，釉藥層中的粒徑，是通過將在其斷面上觀察到的粒子按上述條件而求得的值。
[0029]本發明的第一實施方式
[0030]釉藥組成物
[0031]根據本發明的第一實施方式的釉藥層組成物，包括含鋯元素的玻璃料和矽酸鋯粒子。
[0032]在本實施方式的玻璃料，以ZrO2換算，是一種含有1.0質量％以上15質量％以下的錯元素的玻璃料，優選是一種含有1.2質量％以上10質量％以下的錯元素的玻璃料。根據優選的實施方式，玻璃料為鋯石乳濁玻璃料。在本實施方式中，如果燒制含有上述量的鋯的玻璃料，可以在玻璃質的基質中析出矽酸鋯的微結晶。根據優選的實施方式，該微結晶的粒徑為超過Oym且在0.3 μ m以下。
[0033]在本實施方式中，矽酸鋯粒子是平均粒徑為0.4μπι以上5μπι以下的粒子。平均粒徑優選0.4μπι以上2.0ym以下。更優選的平均粒徑的範圍是0.4 μ m以上l.0ym以下。
[0034]根據優選的實施方式，玻璃料中的鋯元素的量，以ZrO2換算，相對於釉藥組成物的固體含量，優選為I質量％以上7質量％以下，更優選2質量％以上5質量％以下。
[0035]根據優選的實施方式，矽酸鋯粒子的量，相對於釉藥組成物的固體含量，優選為I質量％以上30質量％以下,更優選10質量％以上20質量％以下。
[0036]根據優選的實施方式，本實施方式的釉藥組成物，進一步包含平均粒徑為I μ m以上IOym以下、並且由選自氧化鋁、矽砂、滑石以及氫氧化鋁的成分所構成的無機粒子中的至少一種。由於添加這些無機粒子，可以得到能夠抑制釉藥層表面光澤的效果，因此，在質感上可實現多樣的外觀。特別是，由於氧化鋁的折光率相對較高，所以這種效果非常顯著。
[0037]本實施方式的釉藥組成物為粉體、或分散在水中的漿料形態。漿料形態的釉藥組成物，可以通過將矽酸鋯粒子及玻璃料、進一步根據情況與無機粒子混合之後，添加水並用研磨機粉碎成漿料來製作。還可以通過噴霧乾燥等使漿料顆粒化來製作粉體的釉藥組成物。
[0038]根據優選的實施方式，在所形成的釉藥層中，優選的釉藥組成物的Fe元素含量，以Fe2O3換算，超過O且在0.1質量％以下。通過將鐵的含量設定為這樣的低數值，消除了由鐵元素引起的對可見光的吸收，從而能夠實現更高的擴散反射。釉藥層
[0039]根據本實施方式的釉藥組成物形成的釉藥層，其特徵在於，其燒制的結果為含有玻璃質成分和矽酸鋯粒子；矽酸鋯粒子是由粒徑為0.3μπι以下的粒子、以及粒徑超過
0.3 μ m且平均粒徑在0.4 μ m以上5 μ m以下範圍內的粒子所組成。
[0040]在本實施方式中，如上所述，如果燒制含鋯的玻璃料，玻璃質基質中會析出矽酸鋯的微結晶，該微結晶粒徑優選為0.3μπι以下。該析出的微結晶，變成由本實施方式的組成物所形成的釉藥層中的粒徑為0.3 μ m以下的矽酸鋯粒子。
[0041] 由本實施方式的釉藥組成物所形成的釉藥層，擴散反射性優良並且進一步具備耐汙染性。獲得這些良好性質的原因雖然還不確定，但我們認為原因如下。在本實施方式的釉藥組成物所形成的釉藥層中，除了添加到釉藥組成物中的矽酸鋯粒子，還存在燒制時從含鋯的玻璃料中析出的矽酸鋯粒子。後者比前者的粒徑要小。其結果是，較大粒子和較小粒子共存於釉藥層中，這樣就可以在寬波長範圍內有效地使光以廣角擴散。也就是說，在光進行擴散時，利用了釉藥層的深度方向的構造。具體地，由於可見光射入到層的內部，根據粒徑的不同發生不同的反射、散射，由此獲得了高擴散反射性。一般情況下，如果通過添加粒子進行光的擴散反射，這些粒子在釉藥的表面會形成凸凹，由於汙垢會聚積在凸凹部分，所以從防汙這一點來看是不利的。本實施方式中，形成的釉藥層的表面為玻璃質，其內部存在上述兩種粒徑的粒子。這種存在形態，可以通過控制添加到釉藥組成物中的矽酸鋯粒子的粒徑以及玻璃料中的鋯含量來實現。玻璃質的表面平滑，不易附著汙垢，而且即使附著了汙垢也很容易去除。
[0042]具有釉藥層的構件
[0043]根據本實施方式，提供了一種具有由上述釉藥組成物所形成的釉藥層的構件。根據本實施方式的釉藥組成物，在制膜性方面良好，與一般的釉藥組成物沒有差別，因此，這個構件的釉藥層的形成，可通過將釉藥組成物形成釉藥層的一般方法，手法來進行。因此，通過在基材上使用本實施方式的釉藥組成物，適當乾燥之後並進行燒制，就可以得到具有釉藥層的構件。可以通過層壓粉體的方法、塗覆漿料等方法使用釉藥組成物。此外，燒制溫度優選在1000°C以上1300°c以下進行，燒制之後進行自然冷卻或緩冷。
[0044]根據優選的實施方式，優選在通過在基材上使用與本實施方式的釉藥組成物不同的釉藥組成物形成釉藥層的表面上，設置用本實施方式的組合物所形成的釉藥層，從而形成兩層釉藥層。儘管形成的第一層釉藥層的第一釉藥組成物沒有特別的限定，為了進一步提高高擴散反射性，優選含無機粒子和/或矽酸鋯粒子且為白色的層。作為第一釉藥組成物的優選實施方式，可列舉由通過將玻璃料、陶石、滑石、高嶺土、長石等中的多個進行組合，並且進一步添加了無機粒子、矽酸鋯粒子和/或乳濁劑的釉藥組成物所形成的釉藥層。作為其他的優選實施方式，可列舉出，通過本實施方式的釉藥組成物形成兩層釉藥層。
[0045]在上述形成了兩層釉藥層的實施方式中，雖然可以適當地決定釉藥層的膜厚，但是優選第一層和第二層都在0.2mm以上0.8mm以下的範圍內。
[0046]本發明的第二實施方式
[0047]本實施方式 的構件
[0048]根據本實施方式，提供了一種具備基材以及位於上述基材上的釉藥層的構件，其中，上述釉藥層至少由第一釉藥層以及位於該第一釉藥層上的第二釉藥層組成。
[0049]第一釉藥層
[0050]在本實施方式中，第一釉藥層含有白色無機氧化物粒子和玻璃質成分，上述無機氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒子徑為0.4 μ m以上5 μ m以下。
[0051]在第一釉藥層中，白色無機氧化物粒子優選為選自由矽酸鋯(折光率2)、氧化鋯(折光率2.4)、以及氧化鋁(折光率1.76)組成的群組中的至少一種。這些成分比玻璃質成分折光率高，而且由於在釉藥層中存在具有粒徑為可見光波長的約1/2~2倍的粒子，所以可以增強可見光的散射，因此優選利用這些成分。
[0052]根據優選的實施方式，平均粒徑為0.4μ m以上5 μ m以下的白色無機氧化物粒子為矽酸鋯粒子，其平均粒徑優選0.4μπι以上2.0μπι以下。進一步優選平均粒徑範圍為0.4 μ m以上Ι.Ομηι以下。
[0053]在本實施方式中，第一釉藥層中所含的玻璃質成分是由在釉藥組成物中經燒制形成玻璃質的原料形成的。具體地，在釉藥組成物中添加玻璃料，燒制後作為玻璃質成分。作為經燒制形成玻璃質的原料，可列舉出陶石、滑石、高嶺土、長石等，也可使用這些物質的多種組合。進一步，還可以含有乳濁劑等。
[0054]第二釉藥層
[0055]在本實施方式中，第二釉藥層包含粒徑為0.3μπι以下的矽酸鋯粒子、上述定義的白色無機氧化物粒子和玻璃質成分。在本實施方式中，粒徑為0.3 μ m以下的矽酸鋯粒子優選為將玻璃料進行燒制而析出的微結晶；上述玻璃料，以ZrO2換算，含有1.0質量％以上15質量％以下的錯元素,優選含有1.2質量％以上10%質量以下的錯元素。如果燒制含有上述量的鋯的玻璃料，則玻璃質基質中所生成的矽酸鋯的微結晶的粒徑超過O μ m且在0.3 μ m以下。
[0056]在本實施方式中，第二釉藥層含有的白色無機氧化物粒子以及玻璃質成分也可以與第一釉藥層中所說明的物質相同。因此，在第二釉藥層中，作為白色無機氧化物粒子，可以含有選自由矽酸鋯、氧化鋯以及氧化鋁構成的群組中的至少一種。此處，白色無機氧化物粒子的粒徑與上述第一釉藥層相同，其平均粒徑優選0.4 μ m以上5 μ m以下，更優選0.4 μ m以上I μ m以下。
[0057]在本實施方式中，相對於第二釉藥層，上述白色無機氧化物粒子的含量為I質量％以上40質量％以下，優選10質量％以上30質量％以下，更優選25質量％以上30%以下。通過將白色無機氧化物粒子的量控制在上述範圍內，可以得到優良的光擴散反射性。
[0058]在本實施方式中，第一和第二釉藥層的膜厚雖然可以適當地決定，但是優選第一層和第二層都在0.2mm以上0.8mm以下的範圍。
[0059]根據本實施方式的構件具有優良的高擴散反射性。獲得該良好性質的理由雖然不能確定，但我們認為原因如下。根據本實施方式的構件所具有的釉藥層中，除了白色無機氧化物粒子，還存在燒制時從含鋯的玻璃料中析出的矽酸鋯粒子。後者比前者的粒徑要小。其結果是，較大粒子和較小粒子共存於釉藥層中，這樣就可以在寬波長範圍內有效地使光以廣角擴散。也就是說，在光進行擴散時，利用了釉藥層的深度方向的構造。具體地，由於可見光射入到層的內部，根據粒徑的不同發生不同的反射、散射，因此獲得了高擴散反射性。進一步，在本實施方式中，在第二釉藥層，也就是靠近光射入表面的一側，存在粒徑為0.3μL?以下的矽酸鋯粒子。因此，該微結晶可以高效地使入射光進行反射、散射。
[0060]根據優選的實施方式，在第一釉藥層或上述第二釉藥層中，Fe元素含量，以Fe2O3換算，為超過O且在0.1質量％以下。通過將鐵的含量設定為這樣的低數值，消除了由鐵元素引起的對可見光的吸收，從而能夠實現更高的擴散反射。
[0061]製造方法
[0062]根據本實施方式的構件，優選按以下工序製造。即，在基材上使用至少含有白色無機氧化物粒子和玻璃料的釉藥組成物(以下，稱「第一釉藥組成物」)，其中，上述白色無機氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒子徑為0.4 μ m以上5μπι以下。接下來，在此基礎上，使用包括含鋯元素的玻璃料、以及上述定義的白色無機氧化物粒子的釉藥組成物(以下，稱「第二釉藥組成物」)，之後通過燒制形成釉藥層。
[0063]在本實施方式中，第一釉藥組成物為至少含有白色無機氧化物粒子和玻璃料成分的組成物。也可以是通過在玻璃料中以多種組合的形式添加陶石，滑石，高嶺土，長石等，並進一步添加無機氧化粒子、懸濁劑等而形成的釉藥組成物。
[0064]在本實施方式中，第二釉藥組成物包括含鋯元素的玻璃料、以及上述定義的白色無機氧化物粒子。根據優選的實施方式，用於形成該第二釉藥層的釉藥組成物的組成如下所述。
[0065]在本實施方式中，第二釉藥組成物所含的玻璃料，以ZrO2換算，為含有1.0質量％以上15質量％以下的錯元素的玻璃料,優選為含有1.2質量％以上10質量％以下的錯元素的玻璃料。在本實施方式中，只要是含有上述上述範圍內的鋯元素的玻璃料，沒有特別限定，根據優選的實施方式，玻璃料是鋯石乳濁玻璃料。在本實施方式中，如果燒制含有上述量的鋯元素的玻璃料，可以在玻璃質基質中析出矽酸鋯的微結晶。根據優選的實施方式，該微結晶的粒徑為0.3 μ m以下。
[0066]在本實施方式中，第二釉藥組成物含有的白色無機氧化物粒子，選自由上述矽酸鋯、氧化鋯以及氧化鋁所構成的群組中的至少一種。根據優選的實施方式，白色無機氧化物粒子是矽酸鋯。
[0067]在本實施方式中，當第二釉藥組成物含有矽酸鋯粒子時，該粒子是平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下的粒子。更優選平均粒徑為0.4 μ m以上2.0 μ m以下。進一步優選的平均粒子徑範圍是0.4μπι以上Ι.Ομπι以下。
[0068]根據優選的實施方式，第二釉藥組成物中玻璃料的鋯元素的量，相對於釉藥組成物的固體含量，以ZrO2換算,優選I質量％以上7質量％以下,更優選2質量％以上5質量％以下。
[0069]根據優選的實施方式，第二釉藥組成物中白色無機氧化物粒子的量，相對於釉藥組成物的固體含量，優選I質量％以上40質量％以下,更優選10質量％以上30質量％以下，進一步優選10質量％以上20質量％以下。 [0070]根據優選的實施方式，第二釉藥組成物，進一步含有平均粒徑為Iym以上10 μ m以下、並且由選自鋯石，矽砂，滑石以及氫氧化鋁的成分所組成的無機粒子中的至少一種。由於添加這些無機粒子，可得到能夠抑制釉藥層表面光澤的效果，因此，在質感上可實現多樣的外觀。特別是，由於氧化鋁的折光率相對較高，所以這種效果非常顯著。
[0071]在本實施方式中，第一和第二釉藥組成物為粉體、或分散在水中的漿料形態。漿料形態的釉藥組成物，可以通過將矽酸鋯粒子及玻璃料、進一步根據情況與無機粒子混合之後，添加水並用研磨機粉碎成漿料來製作。還可以通過噴霧乾燥等使漿料顆粒化來製作粉體的釉藥組成物。
[0072]在本實施方式中，通過在基材上使用第一釉藥組成物，適當乾燥之後，在其上進一步使用第二釉藥組成物，隨後進行燒制，得到本實施方式的構件。釉藥組成物的使用，可通過層壓粉體的方法、塗覆漿料等方法來進行。此外，燒制溫度優選在1000°C以上1300°C以下進行，燒制之後進行自然冷卻或緩冷。
[0073]光催化劑層
[0074]本發明的第一實施方式及第二實施方式，根據其優選的實施方式，在通過本發明的釉藥組成物所形成的釉藥層上，可以進一步形成光催化劑層。由此，可以賦予構件有害物質分解性、抗菌性或親水性。為了防止擴散反射性降低，光催化劑層優選是透明的，厚度在IOOnm以下,且呈島狀分散。
[0075]另外，在通過本發明的釉藥組成物所形成的釉藥層上，也可以在不損害擴散反射性的範圍內進一步設置其他釉藥層。可以整體或部分地形成上述其他釉藥層。由於上述其他釉藥層，可以在保持擴散反射特性的同時得到其他性質，如提高防汙性、使外觀發生變化。上述其他釉藥層優選實質上是透明的。另外優選為墊釉。
[0076]本發明的第一實施方式及第二實施方式的基材和構件的用途[0077]在本發明中，如果基材是耐燒制的基材，其形狀，材質沒有限定。例如，可以使用平板、曲板、中空體的基材。另外，也可以在基材上增加用於提高其光擴散性的凸凹圖案。例如，凸凹圖案的凸部高度為0.1~3mm，凸部可呈規則排列也可呈不規則排列。
[0078]作為基材的具體例子，可以列舉出建材，特別是內裝建材。根據本發明，因為其優良的光的高擴散反射性，即使少量照明數或弱光，或者是從窗戶導入的光，都可以使其高度地擴散反射，從而使室內或建築內變得明亮，起到節省能源的作用。進一步，作為具體的建材，可列舉內部裝飾牆、內部裝飾地板、隧道內部裝飾、建築物內部建材。
[0079]本發明的構件可作為間接照明或半間接照明的反射材料來適宜的使用。通過將本發明的構件作為反射材使用時，照明光可以在空間內廣闊地擴散，從而提供更明亮的空間。此外，由於本發明的構件具有高擴散反射性和耐汙染性，所以適用於靠近居住空間或水域的地方。例如，通過在衛生間使用本發明的構件，使用者的手或臉周圍不易產生陰影。例如，通過在居住空間中使用本發明的構件，可以得到均一柔和並具有質感的光線。
[0080]實施例
[0081]通過以下實施例對本發明進行更詳細的說明，但本發明不局限於這些實施例。
[0082]評價方法
[0083]對通過後述方法 製造的構件，進行如下評價。
[0084]色差
[0085]按照JIS-Z-8722 「色度的測定方法反射及透過物體色度」進行。使用日本電色工業株式會社制SE6000作為測定裝置。測定條件為光源D65、測色徑8mm、積分球Φ 52mm,從XYZ表色系算出L*、a*、b*。一個構件測兩個點，取平均值作為評價結果。
[0086]光澤度
[0087]按照JIS-Z-8741 「鏡面光澤度測定方法」進行。使用日本電色工業株式會社制PG-1M作為測定裝置。測定角為60°，一個構件測兩個點，取平均值作為評價結果。
[0088]可見光反射率
[0089]按照JIS-Z-8722 「色度的測定方法反射及透過物體色度」進行。使用日本電色工業株式會社制SE6000作為測定裝置。測定條件為光源D65、測色徑8mm、積分球Φ 52mm,測定400nm~700nm波長範圍的反射率。一個構件測兩個點，取平均值作為評價結果。
[0090]外觀
[0091]分3個層次通過目測來評價映射到表面的映像。
[0092]「無光澤」:不能識別物體映像
[0093]「半透明光澤」:可識別物體映像
[0094]「明亮」:可清楚識別物體映像的形狀
[0095]耐汙染性
[0096]用黑色油墨的氈尖筆在構件表面上畫線，在室溫下放置10分鐘。之後，用沾了水並擰乾的毛巾擦拭其表面。汙垢可被完全除去且通過目測確認沒有殘留物的狀態評價為O ;汙垢可被除去一些且通過目測可以確認具有殘留物的狀態評價為Λ，汙物完全不能被除去的狀態評價為X。
[0097]實施例1~9
[0098]基材的調配[0099]將50質量％的娃灰石、40質量％的粘土以及10質量％的滑石所組成的乾燥粉末混合之後，加水調配成可塑性土還。用擠出機使該土還成形、壓延，製成寬600mm、長900mm、厚4mm的素胎平板。將素胎平板乾燥之後，在輥道窯中在最高溫度1150°C下進行燒制。
[0100]第一釉藥組成物的調配
[0101]將40質量份的長石、15質量份的高嶺土、15質量份的矽酸鋯粒子、以及混合了氧化鋯粒子的30質量份的玻璃料，與40質量份的水進行混合，用研磨機粉碎20分鐘，調配成漿料狀的第一釉藥組成物。這裡所使用的矽酸鋯粒子的平均粒徑為0.8 μ m。
[0102]第二釉藥組成物
[0103]準備具有下表1所記載的成分的玻璃料I和2。這裡，玻璃料I是通過燒制而析出矽酸鋅結晶的鋅結晶玻璃料，玻璃料2是通過燒制而析出矽酸鋯微結晶的稱為鋯乳濁玻璃料的玻璃料。
[0104]表1
[0105]
[0106]單位:質量％
[0107]
【權利要求】
1.一種釉藥組成物，其特徵在於，包括含鋯元素的玻璃料和矽酸鋯粒子，所述玻璃料中所述鋯元素的量，以ZrO2換算，為1.0質量％以上15質量％以下；所述矽酸鋯粒子的平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下。
2.根據權利要求1所述的釉藥組成物，其特徵在於，所述玻璃料中所述鋯元素的量，以ZrO2換算，為1.2質量％以上10質量％以下。
3.根據權利要求1或2所述的釉藥組成物，其特徵在於，所述玻璃料中鋯元素的量，相對於所述釉藥組成物的固體含量，以ZrO2換算，為I質量％以上7質量％以下。
4.根據權利要求1或2所述的釉藥組成物，其特徵在於，所述矽酸鋯粒子的量，相對於所述釉藥組成物的固體含量，為I質量％以上30質量％以下。
5.根據權利要求1或2所述的釉藥組成物，其特徵在於，所述玻璃料為鋯石乳濁玻璃料。
6.根據權利要求1或2所述的釉藥組成物，其特徵在於，所述釉藥組成物的平均粒徑為I μ m以上10 μ m以下，並且含有選自由氧化鋁、矽砂、滑石以及氫氧化鋁的成分所構成的無機粒子中的至少一種。
7.—種構件，其特徵在於，其為在基材的至少一面上形成有釉藥層的構件，所述釉藥層含有玻璃質成分和矽酸鋯粒子；所述矽酸鋯粒子由粒徑為0.3μπι以下的粒子、以及粒徑超過0.3μπι且平均粒徑在0.4μπι以上5μπι以下範圍的粒子組成。
8.根據權利要求 7所述的構件，其特徵在於，所述構件為建材。
9.根據權利要求8所述的構件，其特徵在於，所述建材為內裝建材。
10.一種根據權利要求7所述的構件的製造方法，其特徵在於，在基材上使用權利要求1所述的釉藥組成物，燒制後在所述基材上形成釉藥層。
11.一種構件，其特徵在於，其為具有基材、以及在所述基材上的釉藥層的構件； 所述釉藥層至少由第一釉藥層和位於該第一釉藥層上的第二釉藥層構成； 所述第一釉藥層含有白色無機氧化物粒子和玻璃質成分；其中，所述白色無機氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下； 所述第二釉藥層含有粒徑為0.3μπι以下的矽酸鋯粒子、所述白色無機氧化物粒子和玻璃質成分。
12.根據權利要求11所述的構件，其特徵在於，在所述第二釉藥層中，所述白色無機氧化物粒子的含量，相對於所述第二釉藥層，為I質量％以上40質量％以下。
13.根據權利要求11或12所述的構件，其特徵在於，所述白色無機氧化物粒子為選自由矽酸鋯、氧化鋯、以及氧化鋁所構成群組中的至少一種。
14.根據權利要求11或12所述的構件，其特徵在於，在所述第一釉藥層和/或所述第二釉藥層中的Fe元素的含量，以Fe2O3換算,超過O且在0.1質量％以下。
15.根據權利要求11所述的構件，其特徵在於，所述構件為建材。
16.根據權利要求15所述的構件，其特徵在於，所述建材為內裝建材。
17.一種根據權利要求11所述的構件的製造方法，其特徵在於，在基材上使用至少含有白色無機氧化物粒子和玻璃料的釉藥組成物，所述白色無機氧化物粒子含有Al和/或Zr，折光率超過1.7且在2.5以下，且平均粒徑為0.4 μ m以上5 μ m以下；在其上使用包括含鋯元素的玻璃料和所述白色無機氧化物粒子的釉藥組成物，之後燒制形成釉藥層。
18.根據權利要求17所述的製造方法，其特徵在於，在所述含鋯元素的玻璃料中的所述錯元素的量，以ZrO2換算,為1.0質量％以上15質量％以下。
19.根據權利要求17所述的製造方法，其特徵在於，所述含鋯元素的玻璃料為鋯石乳濁玻璃料。
【文檔編號】C04B41/86GK104016718SQ201410073453
【公開日】2014年9月3日 申請日期:2014年2月28日 優先權日:2013年2月28日
【發明者】井上賢治, 秋元次郎, 奧田光吉, 渡邊健人 申請人:Toto株式會社