一種用於去除矽片表面汙斑的清洗劑的製作方法
2023-05-21 21:37:31 1
專利名稱：一種用於去除矽片表面汙斑的清洗劑的製作方法
技術領域：
本發明屬於清洗劑技術領域，涉及ー種用於去除矽片表面汙斑的清洗剤。該清洗劑可以去除太陽能表面的多晶、單晶矽表面形成的汙斑。
背景技術：
隨著單晶矽、多晶矽切片技術發展，對於矽棒切割液回收也越來越重視，但多次回收的切割液因為高分子材料氧化變質以及溶液中金屬離子的增多，所產生的絮凝物質就會沉積在切割的單晶矽，或多晶矽的表面，造成汙斑，難於去除，從而影響了太陽能的單晶矽與多晶矽的質量。因此迫切需要開發與之配套的技術，控制切割、清洗操作流程中不形成汙斑，或能夠將形成的汙斑洗棹。從產生汙斑的環境分析，主要是由於在切割過程有金屬切割線在與晶片的摩擦過程中，部分以離子的形式溶解到環境中，同時與環境中的高分子化合物絡合，這些絡合在環境中溶解有限，在一定的條件下，將選擇性的吸附到單晶或多晶某個晶面，形成汙斑，因此控制表面形成的汙斑，因從環境中的金屬離子以及環境中所用的研磨劑中高分子著手。
發明內容
本發明的目的是針對目前清洗難題而研發的ー種用於單晶矽與多晶矽表面汙斑的清洗劑。為了達到上述的目的，本發明解決技術問題所採取的技術方案是一種用於去除矽片表面汙斑的清洗劑，由聚こ烯醇衍生物，辛基苯烷基聚氧こ烯磷酸酷，0P，十二烷基硫基こ酸鈉和水組成，其中，聚こ烯醇衍生物與金屬離子絡合，形成可溶性的高分子材料，而其餘的組分，起到剝離表面已經沉澱的汙斑的作用，具體的各組分的質量百分比含量為聚こ烯醇衍生物20-40%，辛基苯烷基聚氧こ烯磷酸酯 30-50%，OP1-3%,十二烷基硫基こ酸鈉15-30%，水2-10%，其中所述的聚こ烯醇衍生物的分子結構為
權利要求
1.一種用於去除矽片表面汙斑的清洗劑，其特徵是由聚こ烯醇衍生物，辛基苯烷基聚氧こ烯磷酸酷，0P，十二烷基硫基こ酸鈉和水組成，其各組分的質量百分比含量為 聚こ烯醇衍生物20-40%， 辛基苯烷基聚氧こ烯磷酸酯 30-50%， OP1-3%, 十二烷基硫基こ酸鈉15-30%， 水2-10%， 其中所述的聚こ烯醇衍生物的分子結構為
全文摘要
本發明公開了一種用於去除矽片表面汙斑的清洗劑，由聚乙烯醇衍生物為20-40%，辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯為30-50%，OP為1-3%，十二烷基硫基乙酸鈉為15-30%，水為2-10%組成。本發明製備工藝簡單，成本低；用於單晶矽、多晶矽表面汙斑的清洗，操作方便，去汙快，效果好，同時還具有防止單晶矽、多晶矽表面形成汙斑的功效。
文檔編號C11D1/83GK102746953SQ20121025750
公開日2012年10月24日 申請日期2012年7月24日 優先權日2012年7月24日
發明者高延敏 申請人:江蘇科技大學