一種低溫研缽的製作方法

2023-05-10 09:45:11 1

一種低溫研缽的製作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種低溫研缽，包括，研缽和低溫盒；低溫盒為帶有容納腔的盒體，且低溫盒的上蓋與低溫盒的盒體通過滑道插入式配合連接；上蓋上加工有用於放置研缽的階梯孔，即研缽卡接在階梯孔小徑通孔上沿；採用上述技術方案的本實用新型，首先將上蓋打開，可在低溫盒的盒體內部放入冰塊，將上蓋合上，然後研缽卡接在上蓋的階梯孔上，通過冰塊實現對研缽的降溫，提供研磨的低溫環境。
【專利說明】一種低溫研缽
【技術領域】
[0001 ] 本實用新型涉及實驗室用品，特別涉及一種可提供低溫研磨的研缽。
【背景技術】
[0002]現有的研缽都是在常溫下操作的，這就使一些低溫的研磨工藝只能靠機器完成，機器成本較高，並且一些研磨對低溫要求不需要經過機器控制那麼精準，進而研發一種能夠手工研磨並且能夠提供一種低溫狀態的研缽是非常必要的。

【發明內容】

[0003]本實用新型要解決的技術問題是提供一種可提供低溫研磨的研缽。
[0004]為達到以上目的，通過以下技術方案實現的:
[0005]一種低溫研缽，包括，研缽和低溫盒；低溫盒為帶有容納腔的盒體，且低溫盒的上蓋與低溫盒的盒體通過滑道插入式配合連接；上蓋上加工有用於放置研缽的階梯孔，即研缽卡接在階梯孔小徑通孔上沿；
[0006]採用上述技術方案的本實用新型，首先將上蓋打開，可在低溫盒的盒體內部放入冰塊，將上蓋合上，然後研缽卡接在上蓋的階梯孔上，通過冰塊實現對研缽的降溫，提供研磨的低溫環境。
[0007]研缽圓周側壁加工有徑向伸出的定位柱，且上蓋階梯孔處加工有與定位柱配合的定位凹槽，通過此結構將研缽定位於上蓋階梯孔內部，防止研缽研磨時自身旋轉。
[0008]上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，並且為了讓本實用新型的上述和其他目的、特徵和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，並配合附圖，詳細說明如下。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]本實用新型共3幅附圖，其中:
[0010]圖1為本實用新型的側視局部剖面結構示意圖。
[0011]圖2為本實用新型安裝研缽前俯視結構示意圖。
[0012]圖3為本實用新型研缽仰視結構示意圖。
[0013]圖中:1、研缽，2、低溫盒，3、上蓋，4、盒體，5、滑道，6、階梯孔，7、定位柱，8、定位凹槽。
【具體實施方式】
[0014]如圖1和圖2所示的一種低溫研缽，包括，研缽I和低溫盒2 ;低溫盒2為帶有容納腔的盒體，且低溫盒2的上蓋3與低溫盒2的盒體4通過滑道5插入式配合連接；上蓋3上加工有用於放置研缽I的階梯孔6，即研缽I卡接在階梯孔6小徑通孔上沿；
[0015]採用上述技術方案的本實用新型，首先將上蓋3打開，可在低溫盒2的盒體4內部放入冰塊，將上蓋3合上，然後研缽I卡接在上蓋3的階梯孔6上，通過冰塊實現對研缽I的降溫，提供研磨的低溫環境。
[0016]如圖2和圖3所示，研缽I圓周側壁加工有徑向伸出的定位柱7，且上蓋3階梯孔6處加工有與定位柱7配合的定位凹槽8，通過此結構將研缽I定位於上蓋3階梯孔6內部，防止研缽I研磨時自身旋轉。
[0017]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，並非對本實用新型作任何形式上的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本實用新型，任何熟悉本專業的技術人員在不脫離本實用新型技術方案範圍內，當可利用上訴揭示的技術內容做出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術方案的內容，依據本實用新型的技術實質對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本實用新型技術方案的範圍內。
【權利要求】
1.一種低溫研缽，其特徵在於:包括，研缽(I)和低溫盒(2);所述低溫盒(2)為帶有容納腔的盒體，且所述低溫盒(2)的上蓋(3)與低溫盒(2)的盒體(4)通過滑道(5)插入式配合連接；所述上蓋(3)上加工有用於放置研缽(I)的階梯孔(6)，即研缽(I)卡接在階梯孔(6)小徑通孔上沿。
2.根據權利要求1所述的一種低溫研缽，其特徵在於:所述研缽(I)圓周側壁加工有徑向伸出的定位柱(7),且所述上蓋(3)階梯孔(6)處加工有與定位柱(7)配合的定位凹槽(8)。
【文檔編號】B01L3/00GK203470012SQ201320457083
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年7月29日 優先權日:2013年7月29日
【發明者】崔豔強, 姜健 申請人:大連民族學院