樣品室含活動式可卸抗蝕構件的數顯旋光儀的製作方法
2023-05-10 18:19:01 1
專利名稱：樣品室含活動式可卸抗蝕構件的數顯旋光儀的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種樣品室含活動式可卸抗蝕構件的^[顯旋光儀，屬於光 學儀器領域。
背景技術：
旋光儀是用於測量旋光物質的旋光度方向和大小的儀器。 常見的旋光儀主要有兩大類圓盤式旋光儀，以及，數字顯示式自動旋光 儀；後者較為先進，目前實驗室普遍使用後一類旋光儀。市售的數字顯示式自動旋光儀品牌繁多，它們的外形相似，大多數呈箱形， 除自動讀數及顯示機構彼此間會有所不同之外，其它主要結構組件以及主要結 構組件相互之間的裝設位置關係或裝配關係或連接關係基本相同；其中，樣品 室是各品牌產品都必須具備的必要構件，它的內腔形貌通常呈盒形或箱形，用 於放置盛有待測樣品的旋光試管。樣品室的空間體積通常遠大於旋光試管的體 積。屬於數字顯示式自動旋光儀這一類的產品還常被稱為數顯自動旋光儀、自 動旋光儀、全自動旋光儀、半自動旋光儀、數字式自動旋光儀、數字式旋光儀、 數字旋光儀、數顯旋光儀。各品牌產品的原理介紹、線路圖、主要結構組件相 互之間的裝設位置關係圖或裝配關係圖或連接關係圖等資料，均可向相關廠家 直接索取或在線下載；簡言之，"數字顯示式自動旋光儀" 一詞的技術含意及 其構造是公知的。本案中將數字顯示式自動旋光儀簡稱為數顯旋光儀。 數顯旋光儀在大學化學實驗室中是常用的教學、科研儀器。 依據所測旋光度的方向和大小可以確定相關物質溶液的濃度、純度，並可 作為判斷有機物質的分子結構的重要依據。旋光物質的旋光度主要取決於物質
本身的結構，另外，還與光線透過物質的厚度，以及，測量時所用光的波長和 溫度有關。當測量在溫度、波長和溶劑一定時，各種具有旋光性物質的比旋光 度為一定值，從而可用於觀測這些物質的旋光能力，通過觀察被測系統在反應 過程中旋光度的變化還可以觀測反應的進程。本案設計人在使用某品牌數顯旋光儀進行化學實驗教學的過程中，注意到， 由於難以完全避免的滲漏，數顯旋光儀的樣品室的底部經常受到各類有機、無 機溶液的浸潤與侵蝕，與儀器的其它部位相比較，數顯旋光儀的樣品室的底部腐蝕情況明顯嚴重；實驗教學使用時間並不很久的數顯旋光儀，其外表光鮮如新，但它的樣品室內部已呈腐朽狀。原因是，樣品室構件材料通常只是塗漆薄 鐵板或塗漆薄鋼板，而一般的漆塗層很難抵抗各類有機、無機溶液的多重的浸 潤、溶脹和侵蝕。 實用新型內容本實用新型所要解決的技術問題是，對數顯旋光儀的樣品室結構進行改進， 研發一種其樣品室結構對各類有機、無機溶液的多重侵蝕有較強抵抗能力的數 顯旋光儀。本實用新型通過如下方案解決所述技術問題，該方案提供的裝置是一種樣 品室含活動式可卸抗蝕構件的數顯旋光儀，該數顯旋光儀是數字顯示式自動旋 光儀，該數顯旋光儀的結構中含有樣品室，其特徵是，該數顯旋光儀包括抗蝕 構件，該抗蝕構件的材料是聚四氟乙烯，該抗蝕構件的形狀是呈盤狀，所述呈 盤狀的抗蝕構件內含有凹形槽，以及，所述呈盤狀的抗蝕構件的放置位置是在 樣品室的底部，以及，所述呈盤狀的抗蝕構件是活動的構件。所述活動的構件 其含意指的是該構件是可以自由拆、裝的構件，該構件是可以隨意安放並可以隨意移走的構件；在使用時，該構件只是安放在樣品室的底部，或者說，該構 件只是擱置在樣品室的底部；該構件能夠隨時被取出作單獨的清潔處理。呈盤 狀的抗蝕構件內所含有的凹形槽構造，其形狀與樣品室底部的凹形槽對應；樣
品室底部的凹形槽位置是測試時旋光儀試樣管的放置位置。由聚四氟乙烯製成 的抗蝕構件對各類有機、無機溶液的侵蝕有很強的耐受能力。樣品室是數顯旋 光儀的一個不可分割的必要組成部分，樣品室中放置有所述呈盤狀的抗蝕構件 的數顯旋光儀當然也是數字顯示式自動旋光儀。本實用新型的優點是，樣品室中放置的呈盤狀的抗蝕構件將易蝕的鐵質或 鋼質的樣品室底部結構材料與侵蝕性液體完全分隔開來，有效地克服了所述樣 品室底部腐蝕問題。並且，活動的可卸抗蝕構件能夠隨時被取出作單獨的清潔 處理。
圖1a是數顯旋光儀的外形示意圖。圖1b示意樣品室的位置以及它的透視結構；該圖是用虛線指示數顯旋光儀中樣品室的位置以及它的透視結構。 圖1c示意地單獨展現樣品室的透視結構，虛線含意與圖1b相同。 圖1d示意地單獨展現樣品室結構的外形。圖2 a是本案所述呈盤狀並含有凹形槽的可卸抗蝕構件的一個實施例。 圖2 b是放置有圖2 a所示可卸抗蝕構件的樣品室的橫斷面構造示意圖。 圖中，1是數顯旋光儀，2是樣品室的倉蓋，3是讀數顯示窗，4是操作 鍵盤，5是放置旋光儀試樣管的凹形槽位置，6是樣品室，7是光通道上的窗口， 8是本案所述呈盤狀並含有凹形槽的可卸抗蝕構件的一個實施例。
具體實施方式
在圖2 (包括圖2a以及圖2b)所展示的具體實施方式
中，抗蝕構件8呈 盤狀並含有凹形槽，抗蝕構件8的材料是聚四氟乙烯，抗蝕構件8隻是安放在 樣品室6的底部位置，或者說，抗蝕構件8隻是擱置在樣品室6的底部位置， 抗蝕構件8能夠隨時被從樣品室6中取出作單獨的清潔處理，抗蝕構件8是活 動的可卸的構件。
權利要求1.樣品室含活動式可卸抗蝕構件的數顯旋光儀，該數顯旋光儀是數字顯示式自動旋光儀，該數顯旋光儀的結構中含有樣品室，其特徵是，該數顯旋光儀包括抗蝕構件，該抗蝕構件的材料是聚四氟乙烯，該抗蝕構件的形狀是呈盤狀，所述呈盤狀的抗蝕構件內含有凹形槽，以及，所述呈盤狀的抗蝕構件的放置位置是在樣品室的底部，以及，所述呈盤狀的抗蝕構件是活動的構件。
專利摘要本實用新型涉及一種樣品室含活動式可卸抗蝕構件的數顯旋光儀，屬於光學儀器領域。由於難以完全避免的滲漏，數顯旋光儀樣品室底部經常受到各類有機、無機溶液的浸潤與侵蝕。本實用新型旨在解決樣品室底部抗蝕問題。數顯旋光儀的結構中含有樣品室，本方案特別之處在於，該數顯旋光儀包括抗蝕構件，該抗蝕構件的材料是聚四氟乙烯，該抗蝕構件的形狀是呈盤狀，所述呈盤狀的抗蝕構件內含有凹形槽，所述抗蝕構件的放置位置是在樣品室的底部，所述抗蝕構件是活動的構件。該抗蝕構件是可以自由放置、並可隨意移走的構件。該方案能夠將易蝕的鐵質或鋼質的樣品室底部結構材料與侵蝕性液體完全分隔開來。該抗蝕構件還能夠被取出作單獨的清潔處理。
文檔編號G01N21/17GK201034930SQ20072014602
公開日2008年3月12日 申請日期2007年3月28日 優先權日2007年3月28日
發明者嶽 宋, 李榕生, 淼 水, 霞 王 申請人:寧波大學