二氧化氯發生器的製作方法
2023-09-13 17:12:45 1
專利名稱：二氧化氯發生器的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及氣體發生器。更具體地說是二氧化氯氣體發生器。
背景技術：
化學法二氧化氯發生器在國內外水處理中已得到普遍應用，化學法二氧化氯發生器較電解法相比，具有結構簡單、效率高、運行費用低，操作方便等優點。但目前所應用的二氧化氯發生器在實際使用中存在如下不足之處1、在產生二氧化氯的化學反應過程中，其負壓隨著殘液的升高而增加，不均衡的負壓影響二氧化氯氣體持續均衡的產出。造成二氧化氯氣體波動，影響消毒效果。
2、化學法二氧化氯發生器反應液的濃度決定了二氧化氯氣體的產出量和反應速度，不均衡的反應濃度使二氧化氯氣體產生量不穩定，難以控制，不能保證消毒劑的質量。
3、反應剩餘液中含有較多的反應物，不僅造成原料浪費，而且由於反應剩餘液的排放造成了二次汙染。
發明內容
本實用新型所要解決的技術問題是避免上述現有技術中所存在的不足之處，提供一種效率高、穩定性好、無汙染的二氧化氯發生器。
本實用新型解決技術問題所採用的技術方案是本實用新型的結構特點是在箱體內設置a、兩級負壓裝置，第一級為封閉的清水罐，進氣管插入罐底，第二級為投放反應液的反應罐，相互間以導氣管連通，導氣管一端位於清水罐的頂部，另一端插入至各反應罐的底部；
b、濃度梯度裝置，是以所述反應罐為中心，在其外圍由近至遠設置多個分隔的腔體，各腔體在底部相互連通並與箱體連通，有連接在導氣管底端的爆氣管插入在各腔體底部。
與已有技術相比，本實用新型的有益效果體現在1、本實用新型通過設置兩級負壓裝置，從而保證系統內負壓穩定，以使二氧化氯氣體的產出量穩定。
2、根據濃度高反應快的原理，本實用新型設置濃度梯度裝置，一方面使原料在儘可能高的濃度下反應，提高反應速度，提高產出量；另一方面，濃度梯度裝置的設置，使反應更加充分，達到無汙染排放。
本實用新型通過對負壓和濃度進行有效控制，可以使二氧化氯氣體發生器達到最佳反應條件，從而保證消毒劑質量，保證消毒效果。
附圖
為本實用新型結構示意圖。
具體實施方式
參見附圖，本實施例是在箱體8內設置兩級負壓裝置和濃度梯度裝置其中，兩級負壓裝置的第一級為封閉的清水罐1，進氣管11插入在清水罐1的底部；第二級為投放反應液的反應罐2，清水罐1與反應罐2之間以導氣管12連通，導氣管12一端位於清水罐1的頂部，另一端插入在反應罐2的底部；濃度梯度裝置是以反應罐2為中心，在其外圍由近至遠設置多個分隔的腔體，包括內腔體3和外腔體4，分隔的腔體在高度上由內向外漸低。反應罐2、內腔體3以及外腔體4在底部相互連通並與箱體8相連通，有連接在導氣管12底部的爆氣管13插入在反應罐2、內腔體3和外腔體4的底部。
此外，圖中示出，喇叭狀集氣罩5設在濃度梯度裝置的頂部，並有聚合抽氣裝置14位於上方。生成的ClO2氣體經過聚合抽氣裝置14安全快速抽出發生器，與水混合成ClO2消毒劑。為提高集氣效果，集氣罩5與濃度梯度裝置之間宜採用密閉結合。
在箱體8的底部設置加熱室9，加熱室9以水為導熱介質，由三個加熱器進行加熱，溫度受溫控器控制。箱體10可以採用耐腐蝕、抗老化、耐熱性好的改性工程塑料。
原料倉6位於箱體8的上方，與反應罐2之間以輸料管10連通，在輸料管10上設置有控制閥，控制閥可控制原料的投入量，從而控制ClO2的產生量。殘液排放管7設置在箱體8的底部一側。
反應開始之前，清水罐1中吸滿清水，通過底部加熱室9加熱，將箱體10內的溫度升至50口時，啟動抽氣裝置14，並開啟輸料管10上的控制閥，原料進入反應罐2反應的同時，由清水罐1輸入的氣體通過爆氣管13進入反應罐2、內腔體3和外腔體4，隨之產出ClO2氣體。隨著反應罐2中殘液的不斷增加，清水罐1內的清水也因不斷蒸發而減少，從而保證了系統內負壓的穩定。隨著反應的不斷進行，未完全反應的液體自反應罐2逐步擴散到外圍的內腔體3和外腔體4中，形成濃度梯度。隨著濃度的降低，未完全反應的液體在進入內腔體3和外腔體4之後，進一步反應，使反應更加完全。抽出的ClO2氣體，被水吸收後，成為ClO2消毒劑。將消毒劑就地輸入到需處理的汙水中，達到消毒效果。
雙級負壓裝置可以生產出穩定的ClO2氣體，濃度梯度裝置可以提高ClO2的產量，減少反應剩餘液中ClO2和Cl2的含量，避免二次汙染。抽氣裝置可高效快速抽出反應氣體，加速正反應過程，同時保護了設備箱體8，避免設備箱體8長期受到負壓作用而損壞，延長設備使用壽命。
本實用新型結構簡單，操作方便，產氣率高，使用壽命長，運行費用低，是處理水產養殖水、賓館和浴池水、遊泳池水、醫院汙水、飲用水源及其它工業廢水的首選設備。
權利要求1.二氧化氯發生器，其特徵是在其箱體內設置a、兩級負壓裝置，第一級為封閉的清水罐(1)，進氣管(11)插入在其罐底，第二級為投放反應液的反應罐(2)，清水罐(1)與反應罐(2)之間以導氣管(12)連通，導氣管(12)一端位於清水罐(1)的頂部，另一端插入在反應罐(2)的底部b、濃度梯度裝置，是以所述反應罐(2)為中心，在其外圍由近至遠設置多個分隔的腔體，包括內腔體(3)和外腔體(4)，各腔體在底部相互連通並與箱體(8)連通，有連接在導氣管(12)底端的爆氣管(13)插入至各腔體底部。
2.根據權利要求1所述的二氧化氯發生器，其特徵是喇叭狀集氣罩(5)設在濃度梯度裝置的頂部，並有聚合抽氣裝置(14)位於上方。
3.根據權利要求1所述的二氧化氯發生器，其特徵是在所述箱體(8)的底部設置加熱室(9)。
4.根據權利要求1所述的二氧化氯發生器，其特徵是原料倉(6)位於箱體(8)的上方，與反應罐(2)之間以輸料管(10)連通，在所述輸料管(10)上設置控制閥。
5.根據權利要求1所述的二氧化氯發生器，其特徵是殘液排放管(7)設置在箱體(8)底部一側。
6.根據權利要求1所述的二氧化氯發生器，其特徵是所述多個分隔的腔體(3、4)在高度上由內向外漸低。
專利摘要二氧化氯發生器，其特徵是在其箱體內設置兩級負壓裝置，第一級為封閉的清水罐，第二級為投放反應液的反應罐，清水罐與反應罐之間以導氣管連通；濃度梯度裝置是以反應罐為中心，在其外圍由近至遠設置多個分隔的腔體，包括內腔體和外腔體，各腔體在底部相互連通並與箱體連通，有連接在導氣管底端的爆氣管插入至各腔體底部。本實用新型通過對負壓和濃度進行有效控制，可以使二氧化氯氣體發生器達到最佳反應條件，從而保證消毒劑質量，保證消毒效果，避免二次汙染。
文檔編號C01B11/00GK2594249SQ0321933
公開日2003年12月24日 申請日期2003年1月10日 優先權日2003年1月10日
發明者陳敦峰, 蔣雷鳴 申請人:陳敦峰, 蔣雷鳴