等離子體切割割炬的放電裝置的製作方法
2023-09-18 11:18:25 1
專利名稱:等離子體切割割炬的放電裝置的製作方法
技術領域:
本實用新型涉及一種等離子體切割割炬的配件,尤其是涉及一種等離子體切割割炬的放電裝置。
背景技術:
噴嘴和陰極柱是等離子體切割割炬的主要部件之一,也是主要消耗部件。陰極柱與噴嘴內腔間形成放電腔,當陰極端部的陰極絲產生電子,使氣體在放電腔內電離產生高溫等離子體,並從噴嘴的噴口噴出,實施對金屬的切割。目前公開的噴嘴其內腔均為階梯形直孔,陰極柱的外周邊與噴嘴的內腔形成氣道,當旋轉氣流通過陰極柱與噴嘴內腔時,由於噴嘴內腔階梯孔環臺面的存在,不僅造成氣道截面的突變,而且噴嘴內腔的環臺面還會增加對旋轉氣流的阻力,使部分旋轉氣流產生紊流,而降低旋轉氣流通過噴孔的能量,即而造成等離子弧能量的下降,直接影響切割厚度和切割質量。
發明內容
本實用新型的目的是提供一種能降低旋轉氣流通過噴嘴內腔時的阻力,切割質量穩定,且能延長使用壽命的等離子體切割割炬的放電裝置。
本實用新型為達到上述目的的技術方案是一種等離子體切割割炬的放電裝置,包括噴嘴和與之配合的陰極柱,陰極柱的底部裝有陰極絲,陰極柱的外周邊與噴嘴的內腔之間以及其噴孔形成放電腔,所述噴嘴的內腔從外向裡是由二個以上平滑過渡的錐孔構成,且陰極柱底面與噴嘴的噴孔內端面之間距離在0.5mm-3mm。
本實用新型因噴嘴的內腔由二個以上光滑過渡的錐孔構成,由於噴嘴內腔無環臺面,氣道截面變化緩和,明顯降低了旋轉氣流通過噴嘴內腔的阻力,並且當旋轉氣流通過噴嘴的內腔時,噴嘴內腔的錐孔在對旋轉氣流進行導向的同時,還能對旋轉氣流進一步壓縮,以提高旋轉氣流的能量,使高速旋轉的氣流將陰極絲電離的高溫等離子弧從噴孔噴出,保證等離子弧能量集中,切割厚度及切割質量都較為穩定。另外本實用新型將陰極柱的端面與噴嘴噴孔的內端面之間的距離控制在0.5mm-3mm,使高能量的高溫等離子弧始終能穩定、連續通過噴孔,減慢對陰極柱以及噴嘴的燒損,從而提高噴嘴和陰極柱的使用壽命。
以下結合附圖對本實用新型的實施例作進一步的詳描述。
圖1是本實新型的結構示意圖。
圖2是圖1的A-A剖視結構示意圖。
圖3是本實用新型的另一種結構示意圖。
其中1-噴嘴;1-1-內腔;1-2-噴孔;2-陰極柱;2-1-平面;2-2-軸肩;3-密封圈;4-陰極絲。
具體實施方式
本實用新型的等離子體切割割炬的放電裝置見圖1、2所示,包括噴嘴1和與之配合的陰極柱2,一側具有螺紋的陰極柱2其底部嵌裝有陰極絲4,該陰極絲4可採用鉿絲,陰極絲4的端面與陰極柱2端面持平,也可內凹,為便於將陰極柱2旋接在割炬上,在陰極柱2的圓柱體上設有一對相互平行的平面2-1,或者是兩對相互平行的平面,在陰極柱2的軸肩2-2上還設有放置密封圈3的徑向凹槽,本實用新型的陰極柱2其軸肩上也可無徑向凹槽。見圖2所示,噴嘴1的外側設有與割炬連接的螺紋,並在噴嘴1外側圓周邊還具有滾花,以方便安裝,噴嘴1的內腔1-1是從外向裡的二個以上平滑過渡的錐孔構成,噴嘴1外側的錐孔軸長小於或等於裡部錐孔的軸長,陰極柱2的外周與噴嘴1的內腔1-1之間以及噴孔1-2形成放電腔,陰極柱2具有臺錐柱面,當旋轉氣流通過時,通過二個角度不同的錐孔導向,並逐步對旋轉氣流進行壓縮,以提高旋轉氣體的能量,保持等離子弧高度集中。本實用新型如圖2所示,最好是噴嘴1的內腔1-1的內端面也為錐面,並與噴孔1-2相通,該錐面的夾角在100°-180°,該錐面與陰極柱2的臺錐柱面的夾角平行或不平行,陰極柱2端面與噴嘴1外端面的距離控制在0.5mm-3mm之間。
見圖3所示,是本實用新型的另一種結構,其結構與上述結構基本相同,不同的是噴嘴1內腔的外側的錐孔為弧形錐孔,其內端面為平面,陰極柱2為直柱形,當旋轉氣流通過噴嘴1的內腔時,同樣起到導向和壓縮的作用。
權利要求1.一種等離子體切割割炬的放電裝置,包括噴嘴(1)和與之配合的陰極柱(2),陰極柱(2)的底部裝有陰極絲(4),陰極柱(2)的外周邊與噴嘴(1)的內腔(1-1)之間以及其噴孔(1-2)形成放電腔,其特徵在於所述噴嘴(1)的內腔(1-1)從外向裡是由二個以上平滑過渡的錐孔構成,且陰極柱(2)底面與噴嘴(1)的噴孔(1-2)內端面之間距離在0.5mm-3mm。
2.根據權利要求1所述的等離子體切割割炬的放電裝置,其特徵在於所述噴嘴(1)的內腔(1-1)外側錐孔為弧形錐孔。
3.根據權利要求1所述的等離子體切割割炬的放電裝置,其特徵在於所述噴嘴(1)內腔(1-1)的內端面是與噴孔(1-2)相通的錐面。
4.根據權利要求1或3所述的等離子體切割割炬的放電裝置,其特徵在於所述噴嘴(1)內腔(1-1)的內端面夾角在100°-180°。
5.根據權利要求1所述的等離子體切割割炬的放電裝置,其特徵在於所述陰極柱(2)的圓柱體上設有對稱的平面(2-1)。
6.根據權利要求1或5所述的等離子體切割割炬的放電裝置,其特徵在於所述陰極柱(2)設有軸肩(2-2),且軸肩(2-2)設有放置密封圈的凹槽。
專利摘要本實用新型涉及一種等離子體切割割炬的放電裝置,包括噴嘴和與之配合的陰極柱,陰極柱的底部裝有陰極絲,陰極柱的外周邊與噴嘴的內腔之間以及其噴孔形成放電腔,所述噴嘴的內腔從外向裡是由二個以上平滑過渡的錐孔構成,且陰極柱底面與噴嘴的噴孔內端面之間距離在0.5mm-3mm。本實用新型由於能降低旋轉氣流通過噴嘴內腔時的阻力,具有切割質量穩定,延長噴嘴和陰極柱使用壽命的特點。
文檔編號H05H1/34GK2790102SQ20052006866
公開日2006年6月21日 申請日期2005年1月28日 優先權日2005年1月28日
發明者周國清 申請人:周國清