納米噴鍍機組的製作方法

2023-09-16 06:11:45 2

專利名稱：納米噴鍍機組的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種適用於物體的表層噴鍍處理的納米噴鍍機組。
背景技術：
目前，在納米噴鍍過程中需要使用到大量的超純水，而現有的超純水製造設備和納米 噴鍍設備一般是分別獨立的，這樣兩個設備佔地空間較大，且噴鍍時取水與加料不方便， 影響納米噴鍍作業效率。

實用新型內容
本實用新型的目的在於提供一種佔地空間小、取水與加料方便的納米噴鍍機組。
為解決上述技術問題，本實用新型採用的技術方案為納米噴鍍機組，包括機架，所 述的機架上設有超純水製造設備以及噴鍍設備，所述的超純水製造設備與噴鍍設備連接。
由於採用了上述的結構，本實用新型將超純水製造設備與噴鍍設備集成在一套整體的 機組內，使之在噴鍍過程中同時可以進行超純水的製造，解決了超純水的後期環節的汙染 問題，節約了佔地空間和製造成本，大大提高了取水與加料的方便性，提高了納米噴鍍作 業效率。


圖1是納米噴鍍機組的結構示意圖。
具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型的具體實施方式
作進一步詳細的描述，但並不構成對本實 用新型的任何限制。
如圖1所示，本實用新型所述的納米噴鍍機組，包括機架1，所述的機架1上設有超純
水製造設備2以及噴鍍設備3，超純水製造設備2主要包括超純水一級製造、超純水二級制 造設備以及超純水儲水壓力桶，超純水一級製造、超純水二級製造設備與超純水儲水壓力 桶連接，超純水儲水壓力桶用於儲存超純水。噴鍍設備3主要包括噴鍍壓力桶、組合噴槍 等。所述的超純水製造設備2與噴鍍設備3連接，超純水製造設備2製造的超純水供給噴 鍍設備3使用。本實用新型將超純水製造設備2與噴鍍設備3集成在一套整體的機組內， 使之在噴鍍過程中同時可以進行超純水的製造，解決了超純水的後期環節的汙染問題，節 約了佔地空間和製造成本，大大提高了取水與加料的方便性，提高了納米噴鍍作業效率。
權利要求1. 一種納米噴鍍機組，包括機架(1)，其特徵在於所述的機架(1)上設有超純水製造設備(2)以及噴鍍設備(3)，所述的超純水製造設備(2)與噴鍍設備(3)連接。
專利摘要本實用新型公開了一種納米噴鍍機組，適用於物體的表層噴鍍處理。所述的納米噴鍍機組，包括機架(1)，所述的機架(1)上設有超純水製造設備(2)以及噴鍍設備(3)，所述的超純水製造設備(2)與噴鍍設備(3)連接。本實用新型將超純水製造設備與噴鍍設備集成在一套整體的機組內，使之在噴鍍過程中同時可以進行超純水的製造，解決了超純水的後期環節的汙染問題，節約了佔地空間和製造成本，大大提高了取水與加料的方便性，提高了納米噴鍍作業效率。
文檔編號C25D5/08GK201258365SQ20082005149
公開日2009年6月17日 申請日期2008年7月30日 優先權日2008年7月30日
發明者李穗生 申請人:李穗生