一種抗汙自潔陶瓷結構的製作方法

2023-09-17 06:58:35 1

專利名稱：一種抗汙自潔陶瓷結構的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及建築和裝飾材料結構，尤其涉及一種改進型的陶瓷結構。
背景技術：
陶瓷是指所有以粘土等無機非金屬礦物為原料的人工工業產品。它包括由粘土或 含有粘土的混合物經混煉，成形，煅燒而製成的各種製品。由最粗糙的土器到最精細的精陶 和瓷器都屬於它的範圍。對於它的主要原料是取之於自然界的矽酸鹽礦物(如粘土、石英 等)，因此與玻璃、水泥、搪瓷、耐火材料等工業。陶瓷材料大多是氧化物、氮化物、硼化物和 碳化物等。因此，陶瓷作為一種建築和裝飾材料廣泛應用於建築、室內外裝飾、廚衛潔具和 家庭日常生活中。但是在使用過程中，經過一段時間後，陶瓷表面往往都會受到不同程度的 汙染，可能會堆積粉塵、沾上汙水、汙垢，或者廚房的油汙等，往往需要耗費大量人力去清洗 陶瓷器具或陶瓷磚面。受汙染的陶瓷面部不僅影響美觀，而且容易滋生細菌病毒，汙染環 境，影響人們的身心健康與生活環境。

實用新型內容因此，針對上述問題，本實用新型提出一種改型的陶瓷結構，是利用納米技術與傳 統陶瓷工藝的結合，而開發出的一種具有抗汙自潔功能的陶瓷結構。本實用新型的技術方案是本實用新型的抗汙自潔陶瓷結構是在陶瓷基體(10)上覆蓋一層釉料層(20)， 所述的釉料層(20)的外表面是經化學蝕刻的粗糙面(201)，所述的釉料層(20)的粗糙面 (201)上沉積一層複合納米材料薄膜層(30)，所述的複合納米材料薄膜層(30)的外表面 (301)為光滑表面。進一步的，所述的釉料層(20)的粗糙面(201)的粗糙度Ra是100 μ m-500 μ m。本實用新型採用如上技術方案，利用納米技術與傳統陶瓷工藝的結合，而開發出 的一種具有抗汙自潔功能的陶瓷結構，解決了已有陶瓷易於堆積粉塵、汙漬和滋生細菌病 毒的缺點。

圖1是已有的陶瓷的剖面圖；圖2是陶瓷的釉料層經化學蝕刻後的剖面圖；圖3是本實用新型的剖面圖。
具體實施方式
現結合附圖和具體實施方式
對本實用新型進一步說明。參閱圖1所示，已有的陶瓷是陶瓷基體10上覆蓋一層釉料層20，並且釉料層20 — 般是相對光滑的，但是其微觀看來，也是不平整的表面，因此普通的陶瓷容易沾上灰塵和汙漬。參閱圖2所示，將所述的釉料層20的外表面是經化學蝕刻成一個粗糙面201。優 選的，所述的釉料層20蝕刻的粗糙面201的粗糙度Ra是100 μ m-500 μ m。一般的，可以採 用已有技術中的釉料層化學蝕刻，於此不再贅述。參閱圖3所示，在所述的釉料層20的粗糙面201上沉積一層複合納米材料薄膜層 30，所述的複合納米材料薄膜層30的外表面301為光滑表面。可以採用噴塗、浸漬、塗抹、 離心或者壓合等方式，將複合納米材料薄膜層30附著於所述的釉料層20上方，並所述的復 合納米材料薄膜層30的外表面儘可能的打磨光滑。本實用新型的抗汙自潔陶瓷結構由於在釉料層20進行蝕刻處理成粗糙面，更利 於複合納米材料薄膜層30的附著，並且由於複合納米材料薄膜層30具有微觀相對光滑的 表面，因此不易沾上灰塵、汙漬和滋生細菌病毒，具有抗汙自潔的功效，可以廣泛應用於建 築、室內外裝飾、廚衛潔具和家庭日常生活中。儘管結合優選實施方案具體展示和介紹了本實用新型，但所屬領域的技術人員應 該明白，在不脫離所附權利要求書所限定的本實用新型的精神和範圍內，在形式上和細節 上可以對本實用新型做出各種變化，均為本實用新型的保護範圍。
權利要求一種抗汙自潔陶瓷結構，其特徵在是在陶瓷基體(10)上覆蓋一層釉料層(20)，所述的釉料層(20)的外表面是經化學蝕刻的粗糙面(201)，所述的釉料層(20)的粗糙面(201)上沉積一層複合納米材料薄膜層(30)，所述的複合納米材料薄膜層(30)的外表面(301)為光滑表面。
2.根據權利要求1所述的抗汙自潔陶瓷結構，其特徵在是所述的釉料層(20)的粗糙 面(201)的粗糙度 Ra 是 100 μ m-500 μ m。
專利摘要本實用新型涉及建築和裝飾材料結構，尤其涉及一種改進型的陶瓷結構。本實用新型的抗汙自潔陶瓷結構是在陶瓷基體(10)上覆蓋一層釉料層(20)，所述的釉料層(20)的外表面是經化學蝕刻的粗糙面(201)，所述的釉料層(20)的粗糙面(201)上沉積一層複合納米材料薄膜層(30)，所述的複合納米材料薄膜層(30)的外表面(301)為光滑表面。本實用新型採用如上技術方案，利用納米技術與傳統陶瓷工藝的結合，而開發出的一種具有抗汙自潔功能的陶瓷結構，解決了已有陶瓷易於堆積粉塵、汙漬和滋生細菌病毒的缺點。
文檔編號C04B41/89GK201634589SQ20102002632
公開日2010年11月17日 申請日期2010年1月7日 優先權日2010年1月7日
發明者蔡榮法 申請人:泉州榮達陶瓷有限公司