一種監控光刻設備光路穩定性的裝置的製作方法

2023-10-04 05:06:39

專利名稱：一種監控光刻設備光路穩定性的裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及半導體製造領域，尤其涉及一種監控光刻設備光路穩定性的裝置。
背景技術：
目前，伴隨集成電路製造エ藝的不斷進步，線寬的不斷縮小，半導體器件的面積正變得越來越小，半導體的布局已經從普通的單一功能分離器件，演變成整合高密度多功能的集成電路；由最初的集成電路(IC)隨後到大規模集成電路(LSI)、超大規模集成電路(VLSI)，直至今天的特大規模集成電路(ULSI)，器件的面積進ー步縮小，功能更為全面強大。考慮到エ藝研發的複雜性，長期性和高昂的成本等等不利因素的制約，如何在現有技術水平的基礎上進一步提高器件的集成密度，縮小晶片的面積，在同一枚矽片上儘可能多的得到有效的晶片數，從而提高整體利益，將越來越受到晶片設計者，製造商的重視。光刻エ藝作為集成電路製造中的重要エ藝擔負著關鍵的作用，由於目前的光學分 辨率已經是曝光波長的1/2甚至1/3，已經非常接近光學極限，因此對光刻機、光學鏡頭乃至光路的要求就更加的苛刻。尤其在光學光路方面，若由于振動、廠房地基下沉等不可見因素導致的發生光線偏移，那即便光刻設備造價昂貴，但所製造的晶片仍然無法滿足エ藝的需求。圖I是本發明背景技術中光刻設備光路結構示意圖；如圖I所示，在淨化間輔助設備擺放層中的雷射器I發出光線，照明光路2通過光路鏡頭3至淨化間エ藝層中的投影管路鏡頭31，投影光路8依次經掩膜板4、光路鏡頭部分5投射至光刻機矽片エ件臺6上；其中，光刻機矽片エ件臺6設置在光刻機避震臺7上。圖2是本發明背景技術中光刻設備發生光線偏移時的光路結構示意圖；如圖2所示，當光路鏡頭3由於由于振動、廠房地基下沉等不可見因素發生傾斜時，會導致照明光路2發生光線偏移，進而使得投影光路8相應的發生偏移，使得投影在光刻機矽片エ件臺6的位置發生偏移，從而使產品無法滿足エ藝需求，降低產品的良率。圖3是本發明背景技術中光刻設備發生光線偏移時的測試數據圖，橫軸為月度時間，縱軸為光路偏移量(単位微米)，偏移量大於小於300微米時為設備安全運行區域，偏移量在300微米至400微米區域為設備運行危險區域，偏移量大於400微米時，設備運行，需要停機調整；如圖3所示，曲線b為橫軸數據，曲線c為縱軸數據，即隨著設備的運行，光路的偏移量越來愈大，最後不能不停機檢測調整。由於當發生光線偏移時，光學路徑的監控和測試需要非常繁瑣的エ序及設備，往往測定一個數據點需要6個小時以上的停機測試時間，這在大生產中無法忍受，而且由於是發生光線偏移後才發現檢測，無法實時的監控，大大増大了生產成本的風險。

發明內容
針對上述存在的問題，本發明掲示了一種監控光刻設備光路穩定性的裝置，主要是通過在光刻設備上設置水平儀，實現對光線偏移的實時監測的裝置。本發明的目的是通過下述技術方案實現的
一種監控光刻設備光路穩定性的裝置，包括有照明光路裝置和投影光路裝置的光刻設備，其中，於所述照明光路裝置和所述投影光路裝置上設置至少ー個水平儀。上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，還包括光刻信息管理系統，所述水平儀與所述光刻信息管理系統聯機 。上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，所述水平儀為機械式水平儀或電子水平儀。上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，所述照明光路裝置包括多個光路鏡頭。上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，於所述每個光路鏡頭上均設置有水平儀。上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，所述投影光路裝置也包括多個光路鏡頭。上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，於所述每個投影管路中的光路鏡頭上均設置有水平儀。上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，所述投影光路裝置還包括掩膜板，所述掩膜板上設置有水平儀。上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，所述光刻設備還包括光刻機矽片工作檯，所述光刻機矽片工作檯上設置有水平儀。上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，所述光刻設備還包括光刻機避震臺，所述光刻機矽片工作檯設置於所述光刻機避震臺上。綜上所述，本發明ー種監控光刻設備光路穩定性的裝置，通過在光刻設備的照明光路裝置和投影光路裝置上設置水平儀，從而實現實時監測光刻設備中的光路發生偏移的偏移量，以對光刻機進行及時的調整，有效避免因光路偏移量過大造成的停機監測狀況，有效的提高光路偏移量監測的效率，進而降低生產成本。


圖I是本發明背景技術中光刻設備光路結構示意 圖2是本發明背景技術中光刻設備發生光線偏移時的光路結構示意 圖3是本發明背景技術中光刻設備發生光線偏移時的測試數據 圖4為本發明監控光刻設備光路穩定性的裝置的結構示意 圖5為本發明監控光刻設備光路穩定性的裝置的測試數據圖。
具體實施例方式 下面結合附圖對本發明的具體實施方式
作進ー步的說明
圖4為本發明監控光刻設備光路穩定性的裝置的結構示意 如圖4所示，本發明ー種監控光刻設備光路穩定性的裝置，在照明光路2經過的每個光路鏡頭3上均設置ー個水平儀9，在投影光路3經過的光路鏡頭31上也設置水平儀9，同時在光刻機避震臺7上也設置水平儀9 ;其中，水平儀9為機械式水平儀或電子水平儀，同時每個水平儀9都與光刻信息管理系統(圖中未標示)聯機，通過光刻信息管理系統可以實時的查看不同區域的每個水平儀9的實時數據。具體的，當在浄化間輔助設備擺放層中的雷射器I發出光線，照明光路2通過多個光路鏡頭3至淨化間エ藝層中的投影管路鏡頭31，投影光路8依次經掩膜板4、光路鏡頭部分5投射至光刻機矽片エ件臺6上。由於在照明光路2和投影光路3經過的區域均設置了水平儀9，且在光刻機避震臺7上也設置了水平儀9，通過光刻信息管理系統可以實時的查看對應位置的水平儀9的數據，從而對光刻設備能及時的進行調整，以避免因光線偏移過大造成的停機，生產出符合エ藝需求的產品。圖5為本發明監控光刻設備光路穩定性的裝置的測試數據圖，，橫軸為月度時間，縱軸為光路偏移量(単位微米)，d為水平儀9的數據，e為光線偏移量；如圖5所示，同時實時的檢測光線偏移量和水平儀9的數據，可以實時檢測光線偏移量，進而及時的調整光刻設備。即使光刻設備由於光線偏移量過大而停機時，通過比對各個位置水平儀9的數據，也能及時的確定出現傾斜的部位，從而大大的提高檢測的效率。綜上所述，由於採用了上述技術方案，本發明實施例提出一種監控光刻設備光路 穩定性的裝置，通過在光刻設備的照明光路裝置和投影光路裝置上設置水平儀，從而實現實時監測光刻設備中的光路發生偏移的偏移量，以對光刻機進行及時的調整，有效避免因光路偏移量過大造成的停機監測狀況，有效的提高光路偏移量監測的效率，進而降低生產成本。通過說明和附圖，給出了具體實施方式
的特定結構的典型實施例，基於本發明精ネ申，還可作其他的轉換。儘管上述發明提出了現有的較佳實施例，然而，這些內容並不作為局限。對於本領域的技術人員而言，閱讀上述說明後，各種變化和修正無疑將顯而易見。因此，所附的權利要求書應看作是涵蓋本發明的真實意圖和範圍的全部變化和修正。在權利要求書範圍內任何和所有等價的範圍與內容，都應認為仍屬本發明的意圖和範圍內。
權利要求
1.一種監控光刻設備光路穩定性的裝置，包括有照明光路裝置和投影光路裝置的光刻設備，其特徵在於，於所述照明光路裝置和所述投影光路裝置上設置至少一個水平儀。
2.根據權利要求I所述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其特徵在於，還包括光刻信息管理系統，所述水平儀與所述光刻信息管理系統聯機。
3.根據權利要求I或2所述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其特徵在於，所述水平儀為機械式水平儀或電子水平儀。
4.根據權利要求I或2所述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其特徵在於，所述照明光路裝置包括多個光路鏡頭。
5.根據權利要求4所述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其特徵在於，於所述每個光路鏡頭上均設置有水平儀。
6.根據權利要求I或2所述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其特徵在於，所述投影光路裝置也包括多個光路鏡頭。
7.根據權利要求6所述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其特徵在於，於所述每個投影管路中的光路鏡頭上均設置有水平儀。
8.根據權利要求I所述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其特徵在於，所述投影光路裝置還包括掩膜板，所述掩膜板上設置有水平儀。
9.根據權利要求I所述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其特徵在於，所述光刻設備還包括光刻機矽片工作檯，所述光刻機矽片工作檯上設置有水平儀。
10.根據權利要求9所述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其特徵在於，所述光刻設備還包括光刻機避震臺，所述光刻機矽片工作檯設置於所述光刻機避震臺上。
全文摘要
本發明涉及半導體製造領域，尤其涉及一種監控光刻設備光路穩定性的裝置。本發明提出一種監控光刻設備光路穩定性的裝置，通過在光刻設備的照明光路裝置和投影光路裝置上設置水平儀，從而實現實時監測光刻設備中的光路發生偏移的偏移量，以對光刻機進行及時的調整，有效避免因光路偏移量過大造成的停機監測狀況，有效的提高光路偏移量監測的效率，進而降低生產成本。
文檔編號G03F7/20GK102866593SQ20121034362
公開日2013年1月9日 申請日期2012年9月17日 優先權日2012年9月17日
發明者朱駿, 張旭昇 申請人:上海華力微電子有限公司