一種化學原料反應鍋的密封系統的製作方法

2023-10-11 04:59:14 1

專利名稱：一種化學原料反應鍋的密封系統的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種密封系統，尤其是一種化學原料反應鍋的密封系統。
背景技術：
現在傳統的反應鍋，由於採用液壓開蓋關蓋，在採用負壓的生產工藝，要抽真空，有時密封圈容易被大氣壓擠壓變形，如果密封圈經常擠壓變形，密封圈的壽命會降低。同時，當密封圈變形到一定程度時，反應鍋會出現漏氣的現象。造成反應鍋內的反應由於反應條件無法達到正常反應條件而造成反應生成物不合格，造成廢品率升高的現象。

發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種化學原料反應鍋的密封圈，解決密封圈壽命短的問題。為了解決上述技術問題，本發明包括鍋體和鍋蓋，鍋蓋下表面周邊設置有密封圈，密封圈直徑大小與鍋體開口大小相匹配，密封圈環體內部沿環體軸線設置有密閉空腔。進一步，所述密封圈環體橫截面為梯形。進一步，所述鍋體開口端面上設置有與密封圈匹配的凹槽，所述密封圈與凹槽過盈配合。本發明的優點是，提高了密封圈的使用壽命，提高了密封效果。


附圖I是本發明的結構示意圖。
具體實施例方式如附圖I所示，本發明包括鍋體I和鍋蓋2,鍋蓋2下表面周邊設置有密封圈3,密封圈3直徑大小與鍋體I開口大小相匹配，密封圈3環體內部沿環體軸線設置有密閉空腔31，所述密封圈3環體橫截面為梯形。為了使反應鍋內負壓過大時，密封圈的變形過大，所述鍋體I開口端面上設置有與密封圈3匹配的凹槽11，所述密封圈3與凹槽11過盈配合。由於密封圈3環體橫截面為梯形，使密封圈完全嵌入下法蘭的梯形槽內，這樣密封圈的形狀就有所固定，不會輕易變形。
權利要求
1.一種化學原料反應鍋的密封系統，包括鍋體(I)和鍋蓋(2)，鍋蓋(2)下表面周邊設置有密封圈(3)，密封圈(3)直徑大小與鍋體(I)開口大小相匹配，其特徵在於，密封圈(3)環體內部沿環體軸線設置有密閉空腔(31)。
2.根據權利要求I所述的化學原料反應鍋的密封系統，其特徵在於，所述密封圈(3)環體橫截面為梯形。
3.根據權利要求I或2所述的化學原料反應鍋的密封系統，其特徵在於，所述鍋體(I)開口端面上設置有與密封圈(3)匹配的凹槽(11)，所述密封圈(3)與凹槽(11)過盈配合。·
全文摘要
本發明涉及一種密封系統，尤其是一種化學原料反應鍋的密封系統。包括鍋體和鍋蓋，鍋蓋下表面周邊設置有密封圈，密封圈直徑大小與鍋體開口大小相匹配，密封圈環體內部沿環體軸線設置有密閉空腔。進一步，所述密封圈環體橫截面為梯形。進一步所述鍋體開口端面上設置有與密封圈匹配的凹槽，所述密封圈與凹槽過盈配合。本發明可用於各種化學原料反應鍋的密封系統。
文檔編號B01J3/03GK102943879SQ20121041194
公開日2013年2月27日 申請日期2012年10月25日 優先權日2012年10月25日
發明者毛曉東 申請人:無錫市欣田機械有限公司