晶片單面腐蝕泡酸工裝夾具的製作方法

2023-06-09 13:09:16

晶片單面腐蝕泡酸工裝夾具的製作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種晶片單面腐蝕泡酸工裝夾具，其特徵在於它包括提籃（1）、片架（2）和滾動軸（3），在所述提籃（1）底部中間向內部開有一條圓弧形凹槽（14），所述滾動軸（3）部分位於凹槽（14）中，其餘部分位於腐蝕槽（4）的腐蝕液中，所述片架（2）放置在提籃（1）中，在所述提籃（1）底部的凹槽（14）兩側均設置有墊塊（6）。本實用新型簡單易操作，可以降低生產成本，提高產品的質量。
【專利說明】晶片單面腐蝕泡酸工裝夾具

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種晶片單面腐蝕泡酸工裝夾具，尤其涉及半導體晶片製造過程中，晶片單面腐蝕泡酸所需要的工夾具。屬集成電路或分立器件晶片製造【技術領域】。

【背景技術】
[0002]半導體晶片減薄後需要對被減薄一面進行腐蝕，這樣能夠有效的去除機械損傷和機械應力，因為晶片上的機械損傷和機械應力對晶片的使用壽命和性能有非常重要的影響。為了去除晶片機械損傷和晶片機械應力，需對製造工藝進行各種優化一般採用旋轉噴霧式的方式進行晶片的單面腐蝕作業，但由於該方式對設備要求非常高且化學試劑的消耗量非常大，因此大大提高了生產成本以及次品率。


【發明內容】

[0003]本實用新型的目的在於克服上述不足，提供一種晶片單面腐蝕泡酸工裝夾具，簡單易操作，可以降低生產成本，提高產品的質量。
[0004]本實用新型的目的是這樣實現的:一種晶片單面腐蝕泡酸工裝夾具，它包括提籃、片架和滾動軸，在所述提籃底部中間向內部開有一條圓弧形凹槽，所述滾動軸部分位於凹槽中，其餘部分位於腐蝕槽的腐蝕液中，所述片架放置在提籃中，在所述提籃底部的凹槽兩側均設置有墊塊。
[0005]所述提籃由矩形底部、錐形上部和頂部把手組成。
[0006]與現有技術相比，本實用新型的有益效果是:
[0007]本實用新型的提籃中可放置一個或一個以上的片架，提籃本身底部為圓弧形凹槽，便於晶片直接與滾動軸接觸，轉軸的轉動帶動片架中晶片的轉動；提籃一側較另一側高，致使提籃中的片架和片架中的晶片有選擇性的向同一方向傾斜，此時需選擇晶片被腐蝕的一面傾斜後不與片架接觸，避免腐蝕過程中晶片與片架接觸造成腐蝕不均勻，可以降低生產成本,提高產品的質量。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型實際應用時的結構剖視圖。
[0009]圖2為本實用新型的結構示意圖。
[0010]其中:
[0011]提籃I
[0012]矩形底部11
[0013]錐形上部12
[0014]頂部把手13
[0015]凹槽14
[0016]片架2
[0017]滾動軸3
[0018]腐蝕槽4
[0019]晶片5
[0020]墊塊6。

【具體實施方式】
[0021]參見圖1一圖2，本實用新型涉及一種晶片單面腐蝕泡酸工裝夾具，包括提籃1、片架2和滾動軸3，所述提籃I由矩形底部11、錐形上部12和頂部把手13組成，這樣設計提籃的結構可以節省材料，在所述矩形底部11的中間向提籃I內部開有一條圓弧形凹槽14，所述滾動軸3部分位於凹槽14中，便於晶片直接與轉動軸3接觸，其餘部分位於腐蝕槽4的腐蝕液中，所述片架2放置在提籃I中，提籃I中可放置一個或一個以上的片架2，需要腐蝕的晶片5放於片架2中，在所述提籃I底部的凹槽14兩側均設置有墊塊6，確保提籃I呈傾斜狀態，由於提籃I 一側較另一側高，致使提籃I中的片架2和片架2中的晶片5有選擇性的向同一方向傾斜，此時需選擇晶片5被腐蝕的一面傾斜後不與片架接觸，避免腐蝕過程中晶片與片架接觸造成腐蝕不均勻。
[0022]操作過程:將晶片放入片架後，把片架放入腐蝕用提籃，由於提籃底部墊塊的作用，控制提籃中的晶片待腐蝕面不與片架接觸。將提籃放入酸槽中，酸槽中的滾輪軸嵌入提籃的凹槽處，滾動軸與圓片接觸帶動晶片的轉動，滾動軸順時針轉動，晶片逆時針轉動，晶片均勻腐蝕。
【權利要求】
1.一種晶片單面腐蝕泡酸工裝夾具，其特徵在於它包括提籃(I)、片架(2)和滾動軸(3)，在所述提籃(I)底部中間向內部開有一條圓弧形凹槽(14)，所述滾動軸(3)部分位於凹槽(14)中，其餘部分位於腐蝕槽(4)的腐蝕液中，所述片架(2)放置在提籃(I)中，在所述提籃(I)底部的凹槽(14)兩側均設置有墊塊(6)。
2.根據權利要求1所述的一種晶片單面腐蝕泡酸工裝夾具，其特徵在於所述提籃(I)由矩形底部(11)、錐形上部(12)和頂部把手(13)組成。
【文檔編號】H01L21/687GK203941894SQ201420310431
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年6月12日 優先權日:2014年6月12日
【發明者】任濤, 江浩, 朱瑞, 陳曉倫, 孫斌, 許柏松 申請人:江陰新順微電子有限公司