含有三層複合減反層的高遮陽三銀低輻射鍍膜玻璃及工藝的製作方法

2023-05-28 19:17:26

專利名稱：含有三層複合減反層的高遮陽三銀低輻射鍍膜玻璃及工藝的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種鍍有三層複合減反層，具有低反射率和高效遮陽性能的中低 透三銀低輻射鍍膜玻璃及生產工藝。
背景技術：
2007年以來，兩家玻璃巨頭PPG和Cardinal先後推出三銀低輻射鍍膜玻璃，將節 能鍍膜玻璃產品的性能推向新的高度。市場上現有鍍有雙銀層的中低透低反射高遮陽低輻射鍍膜玻璃，其遮陽性能已經 不能滿足高端玻璃幕牆的需要，在一些中低可見光透射外光的建築上，對遮陽係數提出了 進一步的要求。但是如果通過簡單的增加銀層厚度甚至增加到三層銀層來實現遮陽性能的 提升，往往反射值得不到控制，並且外觀也會呈現暖色調，非但通不過有關的光汙染法案， 其色調更是無法得到客戶的認可。

發明內容
本發明目的，是提供一種含有三層複合減反層的高遮陽三銀低輻射鍍膜玻璃，該 玻璃的層結構是，在玻璃基板鍍制包含有三層複合減反層所分隔的三層銀層結構，各膜層 結構，自玻璃基板向外依次為
玻璃和複合減反層(1) +銀層(1) +保護層(1)和複合減反層(2 ) +銀層(2 ) +保護層 (2) +複合減反層(3) +銀層(3) +保護層( +電介質層(1)；各膜層厚度為 電介質層(1)為Si3N4,膜層厚度為 IOnm-IOOnm; 銀層(1)、( 2 )、( 3 )為Ag，膜層厚度分別為5nm-50nm ； 複合減反層(1)、(3)為SiR+ZnO，厚度分別為IOnm-IOOnm； 複合減反層(2)為SiR+ZnO，厚度為IOnm-IIOnm； 保護層(1)、(2)、(3)為NiCrOx，膜層厚度分別1歷_50歷。其各膜層的鍍制工藝是
複合減反層(1)、(2)、(3):通過交流陰極的Si圓靶在氬氧氛圍中濺射，氬氧比例保持 在1 :1. 2 ；並在SiO2上鍍有由交流陰極的陶瓷鋅靶濺射的ZnO層，其氬氧比例保持在6 7 ； 銀層(1)、( 2 )、( 3 )通過直流平靶在氬氣氛圍中濺射；
保護層(1 )、(2)通過直流平靶在氬氧氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni Cr=SO 20 ；氬 氧比例保持在203；
電介質層(1):通過交流陰極的Si圓靶在1 :1. 2氬氮氛圍中濺射；矽鋁合金之比為 Si:Al=90:10。本發明優點是，具有超出傳統雙銀低輻射膜的紅外線反射能力，膜層表面輻射率 低遮陽係數更低且反射率低等優良特性的玻璃。與傳統的低輻射雙銀玻璃相比，本次開發的低輻射三銀玻璃由於採取了三層複合 減反層和三層銀層的複雜工藝，使得輻射率較之前者大大降低，從而實現玻璃的遮陽性能的進一步提高，光選擇性範圍加大，而且由於複合了三層減反層，使得產品保留了本身低輻 射率的性能上，吸收率比之雙銀產品有相當程度的加強，可以按客戶要求在同時滿足中低 透射率和低遮陽係數的前提下，有效抑制反射率，使其能符合目前很多城市已出臺的限制 玻璃的可見光反射率法規，避免了常見的低遮陽係數和低透射高反射之間的矛盾。
具體實施例方式
本發明用平板玻璃雙端連續式鍍膜機，包括12個交流陰極，6個直流陰極，採用 下表列出的工藝參數，使用10個交流雙靶，6個直流單靶，共16個靶位進行生產，制出本發 明三銀複合結構的低反射高遮陽低輻射鍍膜玻璃，其工藝參數和靶的位置列表如下
權利要求
1.一種含有三層複合減反層的高遮陽三銀低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於在玻璃基 板鍍制包含有三層複合減反層所分隔的三層銀層結構，各膜層結構，自玻璃基板向外依次 為玻璃和複合減反層(1) +銀層(1) +保護層(1)和複合減反層(2 ) +銀層(2 ) +保護層 (2) +複合減反層(3) +銀層(3) +保護層( +電介質層(1)；各膜層厚度為電介質層(1)為Si3N4,膜層厚度為 IOnm-IOOnm; 銀層(1)、( 2 )、( 3 )為Ag，膜層厚度分別為5nm-50nm ；複合減反層(1)、(3)為SiR+ZnO，厚度分別為IOnm-IOOnm；複合減反層(2)為SiR+ZnO，厚度為IOnm-IIOnm； 保護層(1)、(2)、(3)為NiCrOx，膜層厚度分別1歷_50歷。
2.按權利要求1所述含有三層複合減反層的高遮陽三銀低輻射鍍膜玻璃工藝，其各膜 層的鍍制工藝是複合減反層(1)、(2)、(3):通過交流陰極的Si圓靶在氬氧氛圍中濺射，氬氧比例保持 在1 :1. 2 ；並在SiO2上鍍有由交流陰極的陶瓷鋅靶濺射的ZnO層，其氬氧比例保持在6 7 ； 銀層(1)、( 2 )、( 3 )通過直流平靶在氬氣氛圍中濺射；保護層(1 )、(2)通過直流平靶在氬氧氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni Cr=SO 20 ；氬 氧比例保持在203；電介質層(1)通過交流陰極的Si圓靶在1 :1. 2氬氮氛圍中濺射；矽鋁合金之比為 Si:Al=90:10。
全文摘要
本發明提供一種含有三層複合減反層，具有低反射以及極強高遮陽性能的中低透三銀低輻射鍍膜玻璃及鍍制工藝，該產品自玻璃基板向外的結構層依次為玻璃/複合減反層(1)+銀層(1)+保護層(1)/複合減反層(2)+銀層(2)+保護層(2)+複合減反層(3)+銀層(3)+保護層(3)+電介質層(1)；採用真空磁控濺射鍍膜工藝，優點是，具有極強的紅外線反射能力，膜層表面輻射率低，實現可見光的中低透過率和低反射率等優良特性的玻璃的同時，獲得比傳統中低透雙銀低輻射膜更高的遮陽性能和更低的反射率。
文檔編號C03C17/36GK102092959SQ201010580409
公開日2011年6月15日 申請日期2010年12月9日 優先權日2010年12月9日
發明者吳斌, 徐佳霖, 李志軍, 楊國浩, 沈國全, 陳海嶸 申請人:上海耀華皮爾金頓玻璃股份有限公司, 上海耀皮工程玻璃有限公司, 上海耀皮建築玻璃有限公司, 天津耀皮工程玻璃有限公司