製作用於形成光碟的母盤的方法

2023-05-29 06:20:46

>母盤容量軌道間距凹槽角度抖動錯誤率(a)10GB0.6μm約50°15％(b)15.12GB0.4μm約50°15～17％(c)10GB0.6μm約80°4～6％(d)15.12GB0.4μm約80°6～8％如表1中所示，母盤(a)和(b)的凹槽角度大約為50°，而母盤(c)和(d)的凹槽角度大約為80°。也就是說，與母盤(a)和(b)相比，母盤(c)和(d)形成更陡峭的凹槽。並且，本發明的母盤的抖動錯誤率下降至傳統的抖動錯誤率的一半。根據本發明的母盤製作方法，可陡峭地形成凹槽、槽脊和凹坑之間的邊界，從而改善了信息記錄和再現的特性，並實現了信息的高密度記錄。權利要求1．一種用於製作用來形成光碟的母盤的方法，包括步驟在一基片上形成SiO2膜；在該SiO2膜上塗覆第一光阻材料層；根據分別對應於凹槽和槽脊的凹槽結構凹進部和槽脊結構凸起部的構形，對該第一光阻材料層進行曝光；對該SiO2膜和該第一光阻材料層進行蝕刻，從而在該SiO2膜上形成該凹槽結構凹進部和該槽脊結構凸起部；在該SiO2膜上塗覆第二光阻材料層，從而形成該凹槽和該槽脊；根據在其上記錄預定信息的凹坑的構形，對該第二光阻材料層進行曝光；以及對該第二光阻材料層進行蝕刻，從而在該凹槽和該槽脊上形成凹坑。2．如權利要求1所述的方法，其中所述凹槽深度為λ/6η，所述凹坑深度為λ/4，其中『λ』表示用來複製的雷射的波長，『η』表示所述母盤的折射率。3．如權利要求1所述的方法，其中通過活性離子蝕刻法來進行蝕刻。全文摘要一種用於製作用來形成光碟的母盤的方法,包括步驟:在一基片上形成SiO文檔編號G03F7/26GK1213823SQ9810849公開日1999年4月14日申請日期1998年5月14日優先權日1997年10月8日發明者盧明道,安榮萬,樸昌民申請人:三星電子株式會社