濺鍍機真空腔保護裝置的製作方法
2023-05-29 05:12:01 2
專利名稱：濺鍍機真空腔保護裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種濺鍍機，更具體地說涉及一種用於光碟的濺 鍍機真空腔保護裝置。
背景技術：
光碟生產中常用的鍍膜方法主要有蒸鍍和濺鍍。二十世紀的前 50年，世界各國科技人員經過大量的試驗研究基本建立了濺射理論。 在二十世紀的後50年裡，薄膜技術獲得了騰飛，這主要得益於真空技 術在鍍膜方面的應用，使真空鍍膜實現了產業化。由於有了理論基礎和成熟的工藝，各種鍍膜設備也不斷推陳出新。其中Leybold公司較 早的開發出各種鍍膜設備，也包括用於光碟生產的真空濺鍍機。之後， 廣泛用於光碟的濺鍍機還有德國Balzers和Singulus公司的濺鍍機。蒸鍍是在真空中將金屬加熱蒸發產生金屬蒸氣，使其附著在基板 上凝聚成薄膜。蒸鍍的基板材質沒有限制，從紙、金屬到陶磁都能使 用。蒸鍍有加熱式蒸鍍，還有電子槍加熱式及離子輔助式蒸鍍。蒸鍍 是光碟母盤製作中常用的方式之一 。濺鍍是通過離子碰撞而獲得薄膜的一種工藝，主要分為兩類陰 極濺鍍和射頻濺鍍。陰極濺鍍一般用於濺鍍導體如鋁、銀或半導體。 射頻濺鍍一般用於濺鍍非導體如。濺鍍主要利用輝光放電將氬氣離子 撞擊靶材表面；靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。同時 用強力磁鐵將電子呈螺旋狀運動，加速靶材周圍的氬氣離子化，使得 氬氣離子對陰極靶材的撞擊機率增加，形成雪崩式的狀態，以此提高 濺鍍速率。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜好。為了確保濺鍍質量，實行陰極濺鍍時對環境有較高的要求。首先 要在真空環境條件下，高真空可以減少氧化物的產生；使用惰性工藝 氣體，通常為氬氣，作為離子介質撞擊靶材；形成電場——耙材為陰極，碟片為陽極；在真空腔內，用強力磁鐵產生磁場；由於濺鍍時產 生高熱，須用冷卻水對陰極進行及時冷卻。光碟的濺鍍過程先將真空腔抽真空達到設定值，將碟片放入腔 內，真空腔內碟片會被抽真空至高真空範圍。注入氬氣到真空腔，這 時真空腔的真空度降低，此時對靶材(陰極)和碟片(陽極)之間施 以幾百伏特的直流電壓，使氬氣在電場中被離子化，產生氬離子及自 由電子、在電場的作用下，帶正電荷的氬離子向陰極(靶材)加速， 而自由電子向陽極加速，被加速的氬離子和自由電子撞向其他氬原 子，因動能轉移使更多的氬原子被離子化，最後產生雪崩現象，等離 子體持續自行放電。大量氬離子撞擊靶材表面，氬離子的動能轉移至 靶材原子， 一部份轉化成靶材原子的動能，當靶材原子獲得足夠動能， 它們會脫離靶材表面並自由地在濺鍍腔內移動，最後覆蓋於碟片及腔 內其他表面。而氬離子撞擊靶材的另一部份動能轉化為熱，因此靶材 必須用冷卻水冷卻。為使碟片濺鍍層的厚度均勻，耙材周圍的磁場分 布會提高等離子體的一致性。如圖1所示，現有的濺鍍機，其真空腔的充氣抽氣機構，包括真 空腔l、電磁閥5、高速分子泵2、油式真空泵3，所述真空腔l的入 口連接電磁閥5，真空腔l的出口連接高速分子泵2入口，高速分子 泵2的出口連接油式真空泵3入口 。當電磁閥5打開，對真空腔1充氣的時候， 一開始真空腔1的真 空度非常高，油式真空泵3在這個時候處於停止的狀態，因此在真空 腔1的負壓作用下，有時會把油式真空泵3的真空油吸入高速分子泵 2，導致高速分子泵2無法正常工作，而真空腔也無法工作。發明內容本實用新型的目的是對現有技術進行改進，提供一種濺鍍機真空 腔保護裝置，可以避免油式真空泵內的真空油進入高速分子泵內，有 效的保護高速分子泵及真空腔，採用的技術方案如下本實用新型的濺鍍機真空腔保護裝置，包括真空腔、電磁閥、高 速分子泵、油式真空泵，其特徵在於還包括油分離器，所述真空腔 的入口連接電磁閥，真空腔的出口連接高速分子泵入口，高速分子泵 的出口連接油分離器入口，油分離器的出口連接油式真空泵入口。在 對真空腔充氣的時候， 一開始真空腔的真空度非常高，因此在真空腔 的負壓作用下，會導致油式真空泵的真空油從油式真空泵往高速分子 泵方向運動，在高速分子泵、油式真空泵之間增加了油分離器後，上 述油式真空泵往高速分子泵方向運動的真空油會被油分離器分離出 來，留在油分離器內，而不會進入高速分子泵內。本實用新型對照現有技術的有益效果是，由於增加了油分離器， 因此油式真空泵往高速分子泵方向運動的真空油會被油分離器分離 出來，留在油分離器內，而不會進入高速分子泵內，能夠有效地保護 高速分子泵及真空腔，實際使用效果好、結構簡單、易於實現。
圖1是本實用新型現有技術的結構示意圖； 圖2是本實用新型優選實施例的結構示意圖。
具體實施方式
如圖2所示，本優選實施例中的濺鍍機真空腔保護裝置，包括真 空腔l、電磁閥5、高速分子泵2、油式真空泵3、油分離器4，所述 真空腔l的入口連接電磁閥5，真空腔l的出口連接高速分子泵2入 口，高速分子泵2的出口連接油分離器4入口，油分離器4的出口連 接油式真空泵3入口。當電磁閥5打開，空氣從外界進入真空腔l，即對真空腔l充氣 的時候， 一開始真空腔l的真空度非常高。由於油式真空泵3在這個 時候處於停止的狀態，因此在真空腔的負壓作用下，有時會導致油式 真空泵3的真空油從油式真空泵3往高速分子泵2方向運動，在高速 分子泵2、油式真空泵3之間增加了油分離器4後，上述油式真空泵 3往高速分子泵2方向運動的真空油會被油分離器4分離出來，留在 油分離器4內，而不會進入高速分子泵2內。
權利要求1、一種濺鍍機真空腔保護裝置，包括真空腔、電磁閥、高速分子泵、油式真空泵，其特徵在於還包括油分離器，所述真空腔的入口連接電磁閥，真空腔的出口連接高速分子泵入口，高速分子泵的出口連接油分離器入口，油分離器的出口連接油式真空泵入口。
專利摘要一種濺鍍機真空腔保護裝置，包括真空腔、電磁閥、高速分子泵、油式真空泵，其特徵在於還包括油分離器，所述真空腔的入口連接電磁閥，真空腔的出口連接高速分子泵入口，高速分子泵的出口連接油分離器入口，油分離器的出口連接油式真空泵入口。本實用新型對照現有技術的有益效果是，由於增加了油分離器，因此油式真空泵的油會被油分離器分離出來，留在油分離器內，而不會進入高速分子泵內，能夠有效地保護高速分子泵及真空腔，實際使用效果好、結構簡單、易於實現。
文檔編號C23C14/34GK201214678SQ20082013927
公開日2009年4月1日 申請日期2008年10月14日 優先權日2008年10月14日
發明者郭曉明 申請人:廣東中唱一帆科技發展有限公司