光電模組的製作方法

2023-06-11 01:55:36

專利名稱：光電模組的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種光電模組，尤其涉及一種用於傳輸數據的光電模組。
背景技術：
光電模組(Optical-Electrical Module)通常用於高頻傳輸,現有的光電模組通常包括面射型雷射二極體(Vertical Cavity Surface Emitting Laser, VCSEL)、用於驅動面射型雷射二極體工作的驅動集成電路(integrated circuit, IC)及用於稱合面射型雷射二極體發射的光信號的鏡頭單元。然而，面射型雷射二極體只能從其頂部發射雷射，其發射的雷射需要經設置於鏡頭單元的反射鏡反射後變為水平方向的光才能與光纖耦合。面射型雷射二極體發射的光經反射鏡反射後不可避免地存在光損失，降低了光信號的強度，同時，由於鏡頭單元中需要設置反射鏡，使得鏡頭單元的結構較為複雜。

發明內容
鑑於上述狀況，有必要提供一種結構簡單、光損失小的光電模組。一種光電模組，其包括基板及固定於所述基板上的光發射模塊，所述光發射模塊包括固定於所述基板上的驅動集成電路及第一鏡頭單元。所述光電模組還包括固定於所述基板上的邊射型雷射二極體，所述驅動集成電路驅動所述邊射型雷射二極體發射光信號，所述第一鏡頭單元用於匯聚所述光信號，且所述邊射型雷射二極體發射的光信號與所述基板平行。所述光電模組的邊射型雷射二極體發射的光與所述基板平行，所述光信號不需要經過反射，從而減少了光信號的損失；同時，由於光信號不需要發生反射以改變傳輸方向，第一鏡頭單元內不需要設置反射鏡，使得第一鏡頭單元的結構更簡單。


圖1是本發明實施方式的光電模組的剖視圖。圖2是本發明實施方式的光電模組的另一剖視圖。主要元件符號說明
權利要求
1.一種光電模組，其包括基板及固定於所述基板上的光發射模塊，所述光發射模塊包括固定於所述基板上的驅動集成電路及第一鏡頭單元，其特徵在於:所述光電模組還包括固定於所述基板上的邊射型雷射二極體，所述驅動集成電路驅動所述邊射型雷射二極體發射光信號，所述第一鏡頭單元用於匯聚所述光信號，且所述邊射型雷射二極體發射的光信號與所述基板平行。
2.如權利要求1所述的光電模組，其特徵在於:所述鏡頭單元包括本體及設置於所述本體相對兩端的兩個凸透鏡，所述兩個凸透鏡的焦點連線平行於所述基板，所述邊射型雷射二極體位於所述鏡頭單元的一端，所述邊射型雷射二極體發射的光信號依次經過所述兩個凸透鏡匯聚。
3.如權利要求2所述的光電模組，其特徵在於:所述邊射型雷射二極體靠近所述第一鏡頭單元的一端設置有發射窗口，所述發射窗口正對靠近所述發射窗口的所述第一鏡頭單元的凸透鏡。
4.如權利要求3所述的光電模組，其特徵在於:所述光電模組還包括固定於所述基板上的光發射模塊，所述光發射模塊包括固定於所述基板上的光電二極體、跨阻放大器及第二鏡頭單兀。
5.如權利要求4所述的光電模組，其特徵在於:所述第二鏡頭單元包括本體及設置於所述第二鏡頭單元的本體相對兩端的兩個凸透鏡，所述光電二極體位於所述第二鏡頭單元的一端，所述光電二極體靠近所述第二鏡頭單元的一端設置有接收窗口，且所述接收窗口正對靠近所述接收窗口的所述第二鏡頭單元的凸透鏡。
6.如權利要求5所述的光電模組,其特徵在於:所述光電二極體與所述邊射型雷射二極體平行設置，所述第二鏡頭單元與所述第一鏡頭單元平行設置。
7.如權利要求3所述的光電模組，其特徵在於:所述光電模組還包括固定於所述基板上的光電二極體及跨阻放大器，所述光電二極體與所述邊射型雷射二極體平行設置，所述光電二極體靠近所述第一鏡頭單元的一端設置有接收窗口，所述發射窗口正對靠近所述接收窗口的所述第一鏡頭單元的凸透鏡。
全文摘要
一種光電模組，其包括基板及固定於所述基板上的光發射模塊，所述光發射模塊包括固定於所述基板上的驅動集成電路及第一鏡頭單元。所述光電模組還包括固定於所述基板上的邊射型雷射二極體，所述驅動集成電路驅動所述邊射型雷射二極體發射光信號，所述第一鏡頭單元用於匯聚所述光信號，且所述邊射型雷射二極體發射的光信號與所述基板平行。所述光電模組的邊射型雷射二極體發射的光與所述基板平行，所述光信號不需要經過反射，從而減少了光信號的損失；同時，由於光信號不需要發生反射以改變傳輸方向，第一鏡頭單元內不需要設置反射鏡，使得第一鏡頭單元的結構更簡單。
文檔編號G02B6/42GK103163602SQ20111042659
公開日2013年6月19日 申請日期2011年12月19日 優先權日2011年12月19日
發明者吳開文 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司