玻璃蝕刻液再生方法及玻璃蝕刻方法
2023-06-28 13:38:41 1
玻璃蝕刻液再生方法及玻璃蝕刻方法
【專利摘要】一種玻璃蝕刻液再生方法，利用鉀離子化合物與老化的玻璃蝕刻液進行攪拌反應，通過過濾去除老化液中的可溶性玻璃渣。對老化液進行離子交換處理，金屬離子。此外，在老化液中加入適量的氫氟酸，進而再生出符合玻璃蝕刻要求的玻璃蝕刻液。本發明的還提供一種玻璃蝕刻方法，在玻璃蝕刻過程中使用鉀離子化合物去除玻璃蝕刻液中的可溶性玻璃渣。本發明可提高玻璃蝕刻的蝕刻率。
【專利說明】玻璃蝕刻液再生方法及玻璃蝕刻方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及一種玻璃蝕刻液再生方法及玻璃蝕刻方法。
【背景技術】
[0002] 玻璃蝕刻減薄的原理是利用氨氣酸跟玻璃（Si化）進行反應，並在反應過程中生成 老化物質氣娃酸（HsSiFe)及玻璃渣與娃酸(水玻璃)。隨著氨氣酸逐漸消耗W及老化物質濃 度的持續增加，會導致玻璃蝕刻槽的槽液老化，蝕刻率下降W及蝕刻不良率上升。此外，蝕 刻槽液老化至一定程度後，老化物質濃度過高會造成槽液不穩定，從而影像產品的品質。傳 統的解決上述問題的方法是將老化的槽液作廢酸處理排放並重新建浴調配蝕刻液。然而， 廢酸的處理W及重新建浴均需要較高的成本，且廢酸中大多都還存在較高濃度的氨氣酸 (HF),若直接對老化蝕刻液做廢酸排放處理，還會導致原料的浪費。
【發明內容】
[0003] 鑑於上述，有必要提出一種玻璃蝕刻液再生方法及玻璃蝕刻方法，可W有效降低 對老化蝕刻液做廢酸處理W及重新建浴液的成本。
[0004] 所述玻璃蝕刻液再生方法，包括W下步驟： (a) 在含有老化物質氣娃酸W及可溶性玻璃渣的玻璃蝕刻液中加入鍾離子化合物並進 行攬拌反應，使該玻璃蝕刻液中的可溶性玻璃渣濃度降至一預定範圍內； (b) 對攬拌反應之後的玻璃蝕刻液進行過濾處理，去除沉澱； (C)對過濾處理之後的玻璃蝕刻液進行離子交換處理，去除玻璃蝕刻液液中的金屬離 子，使得玻璃蝕刻液中的金屬離子濃度低於一預定值；及 (d)檢測離子交換處理後的玻璃蝕刻液中的氨氣酸濃度，並根據該氨氣酸濃度在該離 子交換處理後的玻璃蝕刻液中加入氨氣酸，使氨氣酸的濃度達到一預定濃度。
[0005] 所述玻璃蝕刻方法，包括W下步驟： 將裝有玻璃蝕刻液W及被蝕刻玻璃的蝕刻槽通過第一管道與一過濾機的入口連通，將 過濾機的輸出口通過一第二管道與蝕刻槽連通，並將裝有鍾離子化合物溶液的化合物容器 通過一第H管道與第一管道靠近蝕刻槽的一端連通； 持續取樣檢測蝕刻槽中可溶性玻璃渣濃度W及氨氣酸濃度； 當檢測到蝕刻槽中的可溶性玻璃渣濃度高於第一預定口檻值時，將蝕刻槽中的玻璃蝕 刻液和化合物容器中的鐘離子化合物溶液逐步輸出至第一管道進行反應； 將第一管道中反應後的玻璃蝕刻液經過過濾機進行過濾，去除沉澱；及 將經過濾之後的玻璃蝕刻液經第二管道輸入蝕刻槽中對玻璃進行蝕刻。
[0006] 相較於現有技術，本發明的玻璃蝕刻液再生方法可對老化液進行處理再生出能用 於蝕刻玻璃的玻璃蝕刻液，而無需對老化液進行廢棄處理，從而減少了對老化液進行廢棄 處理的成本，並避免了氨氣酸的浪費。同時，本發明提供的玻璃蝕刻方法，在蝕刻玻璃的同 時使用鍾離子化合物與玻璃蝕刻液進行反應，可使可溶性玻璃渣維持在一個較低的水平， 並有效去除老化物質氣娃酸，從而保證蝕刻率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0007] 圖1是本發明的玻璃蝕刻液再生方法的流程圖。
[0008] 圖2是實驗中分別加入四種鍾離子化合物時，可溶性玻璃渣濃度的變化示意圖。
[0009] 圖3是實驗中分別加入上述四種化合物時，老化液中總氨濃度(酸度）的變化示意 圖。
[0010] 圖4是實驗中新調製的玻璃蝕刻液、老化液處理後再生的玻璃蝕刻液W及未經處 理的老化液分別用於玻璃蝕刻時的蝕刻率（ER)比對圖。
[0011] 圖5是用於玻璃蝕刻過程的設備示意圖。
[0012] 圖6為本發明較佳實施例中的玻璃蝕刻方法的流程圖。
[0013] 圖7為實驗中在圖5的第一管道中排入玻璃蝕刻液和化合物溶液W及未對玻璃蝕 刻液做任何處理兩種情況下可溶性玻璃渣（TDS )濃度變化的對比圖。
[0014] 主要元件符號說明
【權利要求】
1. 一種玻璃蝕刻液再生方法，其特徵在於，該方法包括以下步驟： (a) 在含有老化物質氟矽酸以及可溶性玻璃渣的玻璃蝕刻液中加入鉀離子化合物並進 行攪拌反應，使該玻璃蝕刻液中的可溶性玻璃渣濃度降至一預定範圍內； (b) 對攪拌反應之後的玻璃蝕刻液進行過濾處理，去除沉澱； (c) 對過濾處理之後的玻璃蝕刻液進行離子交換處理，去除玻璃蝕刻液液中的金屬離 子，使得玻璃蝕刻液中的金屬離子濃度低於一預定值；及 (d) 檢測離子交換處理後的玻璃蝕刻液中的氫氟酸濃度，並根據該氫氟酸濃度在該離 子交換處理後的玻璃蝕刻液中加入氫氟酸，使氫氟酸的濃度達到一預定濃度。
2. 如權利要求1所述的玻璃蝕刻液再生方法，其特徵在於，該方法在步驟（a)之前還包 括： 對玻璃蝕刻液中所含的可溶性玻璃渣濃度進行檢測，當該可溶性玻璃渣濃度小於或等 於一閾值時，再進入步驟（a)。
3. 如權利要求2所述的玻璃蝕刻液再生方法，其特徵在於，所述閾值為30%。
4. 如權利要求1所述的玻璃蝕刻液再生方法，其特徵在於，所述鉀離子化合物為KOH、 KF、KCL以及KN03中的其中之一。
5. 如權利要求1所述的玻璃蝕刻液再生方法，其特徵在於，所述預定值為1%，所述預定 濃度大於8%。
6. -種玻璃蝕刻方法，其特徵在於，該方法包括以下步驟： 將裝有玻璃蝕刻液以及被蝕刻玻璃的蝕刻槽通過第一管道與一過濾機的入口連通，將 過濾機的輸出口通過一第二管道與蝕刻槽連通，並將裝有鉀離子化合物溶液的化合物容器 通過一第三管道與第一管道靠近蝕刻槽的一端連通； 持續取樣檢測蝕刻槽中可溶性玻璃渣濃度； 當檢測到蝕刻槽中的可溶性玻璃渣濃度高於第一預定門檻值時，將蝕刻槽中的玻璃蝕 刻液和化合物容器中的鉀離子化合物溶液逐步輸出至第一管道進行反應； 將第一管道中反應後的玻璃蝕刻液經過過濾機進行過濾，去除沉澱； 將經過濾之後的玻璃蝕刻液經第二管道輸入蝕刻槽中對玻璃進行蝕刻。
7. 如權利要求6所述的玻璃蝕刻方法，其特徵在於，該方法還包括： 對蝕刻槽中的玻璃蝕刻液進行升溫，使蝕刻槽中的玻璃蝕刻液維持在一預定溫度下。
8. 如權利要求7所述的玻璃蝕刻方法，其特徵在於，所述預定溫度為35°C。
9. 如權利要求6所述的玻璃蝕刻方法，其特徵在於，所述第一預定門檻值為3%。
10. 如權利要求6所述的玻璃蝕刻方法，其特徵在於，該方法還包括： 持續取樣檢測蝕刻槽中的氫氟酸濃度；及 當檢測到蝕刻槽中的氫氟酸濃度低於一第二預定門檻值時，向蝕刻槽中逐步加入氫氟 酸溶液，使蝕刻槽中的氫氟酸濃度達到一預定濃度範圍。
11. 如權利要求10所述的玻璃蝕刻方法，其特徵在於，所述第二預定門檻值為8%，所述 預定濃度範圍為8%-20%。
【文檔編號】C03C15/00GK104341111SQ201310318446
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2013年7月26日 優先權日:2013年7月26日
【發明者】張欣華, 黃慧清, 李沅達, 陳泓邑, 黃兆暢, 林瑞欽, 葉容凱, 張世群, 羅中育, 陳欽典, 簡文鴻 申請人:睿志達光電(深圳)有限公司, 正達國際光電股份有限公司