一種印記戒指的製作方法

2023-06-28 02:58:16 1

專利名稱：一種印記戒指的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種首飾，尤其是一種戒指。
背景技術：
戒指由於其佩戴時的一些特殊的涵義，已經成為了最普遍的一種首 飾，深為人們的喜愛，由於戒指的結構簡單，現在市面上的戒指多在樣 式及鑲嵌上進行設計，其樣式非常的繁多，但是現有的樣式及鑲嵌設計 '全部都是設於戒指的外表面，在人們取下戒指後不能在手指表面留下印 記。
發明內容
本實用新型的目的之一是提供能在取下戒指後在手指表面留下印記 的一種印記戒指。
為了實現上述目的，本實用新型採用如下技術方案 它包括一個戒指本體，所述戒指本體為一環狀結構，其改進在於 在該環狀結構的內表面上設有一在手指表面留下印記的印記結構。 優選地，所述印記結構為一凹陷的陰刻結構。 優選地，所述印記結構為一凸起的陽刻結構。 優選地，所述的陽刻結構的邊角出設有倒圓角結構。 優選地，所述的陰刻結構或陽刻結構為文字、符號和/或圖案。
3本實用新型的印記戒指通過在戒指的內表面上設置一印記結構，使 得在佩戴時與人們的手指表面相互作用，在人們取下戒指後，會在人們 的手指表面形成 一 個印記，該印記將在短時間內保留在人們的手指表面， 形成一種紀念或者是提醒，增加了戒指佩戴的情感意義和紀念意義，使 戒指具有專屬情感的含義。


圖l是本實用新型實施例的結構示意圖。
本實用新型目的、功能及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。
具體實施方式
如圖1所示，本實用新型的第一實施例包括一個戒指本體，所述戒
指本體1為一環狀結構，在該環狀結構的內表面2上設有一在手指表面 留下印記的印記結構3。
在本第一實施例中，所述印記結構3為一凹陷的陰刻結構。所述的 陰刻結構為文字、符號和/或圖案。在人們佩戴本第一實施例的印記戒指 後取下時，在人們的手指表面的皮膚上會留下凸起的文字、符號和/或圖 案的印記。
本實用新型還提供了第二實施例，參見圖l所示，在第二實施例中， 所述印記結構3為 一凸起的陽刻結構。所述的陽刻結構為文字和/或圖案。 在人們佩戴本第二實施例的印記戒指後取下時，在人們的手指表面的皮 膚上會留下凹陷的文字、符號和/或圖案的印記。
本實施例中，為了保護人們的手指表面的皮膚不被陽刻的文字和/或圖案所刮傷，在所述的陽刻結構的邊角處設有倒圓角結構。在人們佩戴 本實施例的戒指時，陽刻的文字和/或圖案結構與人們手指表面的皮膚 平滑的接觸，保證了人們佩戴和取下時的使用安全。
以上所述僅為本實用新型的優選實施例，並非因此限制本實用新型 的專利範圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或 等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括 在本實用新型的專利保護範圍內。
權利要求1、一種印記戒指，它包括一個戒指本體，所述戒指本體為一環狀結構，其特徵在於在該環狀結構的內表面上設有一在手指表面留下印記的印記結構。
2、 如權利要求1所述的印記戒指，其特徵在於所述印記結構為一凹陷 的陰刻結構。
3、 如權利要求1所述的印記戒指，其特徵在於所述印記結構為一凸起 的陽刻結構。
4、 如權利要求3所述的印記戒指，其特徵在於所述的陽刻結構的邊角 出設有倒圓角結構。
5、 如權利要求2-4中任一項所述的印記戒指，其特徵在於所述的陰刻 結構或陽刻結構為文字、符號和/或圖案。
專利摘要本實用新型涉及一種首飾，尤其是一種戒指。它包括一個戒指本體，所述戒指本體為一環狀結構，在該環狀結構的內表面上設有一在手指表面留下印記的印記結構。本實用新型的印記戒指通過在戒指的內表面上設置一印記結構，使得在佩戴時與人們的手指表面相互作用，在人們取下戒指後，會在人們的手指表面形成一個印記，該印記將在短時間內保留在人們的手指表面，形成一種紀念或者是提醒，增加了戒指佩戴的情感意義和紀念意義，使戒指具有專屬情感的含義。
文檔編號A44C9/00GK201388623SQ20092005471
公開日2010年1月27日 申請日期2009年4月16日 優先權日2009年4月16日
發明者潘海泉 申請人:潘海泉