一種水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物及其在微接觸印刷技術中的應用的製作方法

2023-06-14 13:48:16 1

一種水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物及其在微接觸印刷技術中的應用的製作方法
【專利摘要】本發明涉及一種水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物，本發明還提供了此種水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物在微接觸印刷技術中的應用。通過將二(5-(4』-羥基-3』-氨甲基苯基)-10，15，20-三苯基卟啉)配Ce水溶液作為微接觸印刷墨水在電子行業常用的聚合物基底表面製備金屬圖案，為微接觸印刷行業提供了新思路。
【專利說明】-種水溶性雙層H明治型Ce金屬BM林配合物及其在微接 觸巧刷技術中的應用

【技術領域】
[0001] 本發明屬於現代電子【技術領域】，特別涉及一種水溶性雙層H明治型Ce金屬撲晰 配合物作為綠色環保墨水在微接觸印刷技術中的應用。

【背景技術】
[0002] 表面微構建技術正逐漸體現出在重要應用價值，特別是微接觸印刷技術，其能夠 在小尺寸上微圖案化，在多個領域特別是現代電子【技術領域】具有重要意義。目前可供選擇 的微接觸印刷墨水較少，也局限了表面可進行微接觸印刷的材料，大量的材料無法用微接 觸印刷的方法製備表面圖案。因而開發新的、穩定的的墨水具有很大的意義。
[000引本 申請人:在已獲授權的專利（CN 102516841B)中公開了八（辛焼氧基）-駄菁 鋒作為墨水在聚對苯二甲酸己二醋、聚蔡二甲酸己二醋或聚醜亞胺基底進行微接觸印刷 的應用技術；在已獲授權的專利（CN 102964909B)中公開了水溶性的5，10，15,20-四 [4-(3'-丙氧基化巧漠化鹽）苯基]撲晰鋒在聚對苯二甲酸己二醋基底上進行微接觸印刷 中的應用技術；在已獲授權的專利（CN 102964910B)中公開了水溶性的5，10，15,20-四賴 酸軸苯基撲晰鋒在聚醜亞胺基底進行微接觸印刷的應用技術。
[0004] 為進一步豐富微接觸印刷墨水和基底的選擇，並且提升微接觸印刷質量，有必要 進一步開發金屬撲晰配合物在微接觸印刷中的應用。水溶性雙層H明治型Ce金屬撲晰配 合物性能穩定，成膜質量高，可W作為一種穩定的墨水應用於多種材料表面的微接觸印刷。 目前水溶性雙層H明治型Ce金屬撲晰配合物作為微接觸印刷墨水的應用未見報導。


【發明內容】

[0005] 本發明提供了一種水溶性雙層H明治型Ce金屬撲晰配合物及其在微接觸印刷技 術中的應用。
[0006] 本發明的技術方案如下：
[0007] -種水溶性雙層H明治型Ce金屬撲晰配合物，其特徵在於，所述配合物的結構式 為：
[0008]

【權利要求】
1. 一種水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物，其特徵在於，所述配合物的結構式 為：
該化合物的化學名稱：二（5-(4' -羥基-3' -氨甲基苯基）-10,15, 20-三苯基卟啉） 配Ce; 分子式=C9tlH66O2NltlCe; 相對分子量：1459. 7g/mol。
2. -種水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物在微接觸印刷技術中的應用，其特徵 在於，包括如下步驟： 1) 基底表面處理：將聚合物基底用乙醇超聲清洗1-2小時，取出後置於80-90°C真空 乾燥，乾燥後將聚合物基底置於1-3%的乙烯基三（β_甲氧基乙氧基）矽烷溶液中浸泡 24-36小時，取出乙醇超聲清洗1-2小時，取出後置於80-90°C真空乾燥，將聚合物基底、甲 基丙烯酸、偶氮二異丁腈和蒸餾水一起放入三頸瓶中，在80-90°C的溫度下反應1-2小時， 在聚合物基底表面引入羧基，得羧基化基底； 2) 製備二（5-(4'_羥基-3'-氨甲基苯基）-10,15, 20-三苯基卟啉）配Ce的水溶液： 將二（5-(4'-羥基-3'-氨甲基苯基）-10,15, 20-三苯基卟啉）配Ce用水溶解，得到濃度 為2-5g/L的二（5-(4'-羥基-3' -氨甲基苯基）-10,15, 20-三苯基卟啉）配Ce水溶液； 3) 微接觸印刷：將PDMS印章浸泡於二（-(4'-羥基-3'-氨甲基苯基）-10,15, 20-三 苯基卟啉）配Ce水溶液中30-40s，取出後於N2氣流中乾燥30-60s，將塗有二（-(4' -羥 基-3' -氨甲基苯基）-10,15, 20-三苯基卟啉）配Ce水溶液的PDMS印章蓋於羧基化基底 上，輕壓10-20s，將PDMS印章圖案轉移至羧基化基底表面，得到印有圖案的基底； 4) 化學鍍：將印有圖案的基底浸泡於0. 1-0. 3g/LPdCl2溶液中10-30s，取出後放於化 學鍍溶液中進行化學鍍，時間為Ι-lOmin，取出後在基底上得到精美的金屬圖案。
3. 如權利要求2所述的水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物在微接觸印刷技術中 的應用，其特徵在於，步驟1)中選用的聚合物基底材料為聚醯亞胺、聚四氟乙烯中的一種。
4. 如權利要求2所述的水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物在微接觸印刷技術中 的應用，其特徵在於，步驟1)中選用的乙醇與聚合物基底的質量百分比為1-1 : 5。
5. 如權利要求2所述的水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物在微接觸印刷技術中 的應用，其特徵在於，步驟1)聚合物基底、甲基丙烯酸、偶氮二異丁腈和蒸餾水的質量百分 比為 1000-3000 : 15-30 : 1 : 500-800。
6. 如權利要求2所述的水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物在微接觸印刷技術中 的應用，其特徵在於，步驟4)中化學鍍溶液可以為由4-6wt%硫酸銅、7-8wt%酒石酸鈉鉀、 6-lOwt%氫氧化鈉、32-36wt%甲醛和餘量的蒸餾水組成的化學鍍溶液。
7. 如權利要求2所述的水溶性雙層三明治型Ce金屬卟啉配合物在微接觸印刷技術中 的應用，其特徵在於，步驟4)中化學鍍溶液可以為由5-8wt%三氯化金、5-8wt%亞硫酸金 鈉、10-12Wt%亞硫酸鈉、15-18wt%檸檬酸鉀和餘量的蒸餾水組成的化學鍍溶液。
【文檔編號】C23C18/20GK104447820SQ201410619357
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年11月5日 優先權日:2014年11月5日
【發明者】蘇煒, 李培源, 陳今浩 申請人:廣西師範學院