塗布負反饋定位裝置的製作方法

2023-05-27 04:01:06

專利名稱：塗布負反饋定位裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種提高冷陰極螢光燈管(CCFL)製造設備塗布工藝控制的改良裝置，尤其是一種塗布負反饋定位裝置。
背景技術：
目前CCFL製造塗布高度控制採用的是真空系統吸附一次定位。利用真空系統將塗布液吸到所設定高度後關閉真空，由於真空慣性等因素，致使螢光粉塗附尺寸精度僅能控制在±1mm範圍內，給下道工序生產和產品質量上造成一定影響。

發明內容
本實用新型的目的是為了克服現有真空系統定位精度低的不足，提供一種有效解決真空一次定位精度所存在的問題，有效控制塗布尺寸在±0.3mm以內，使產品在外觀和提高良品率有很大改善，同時提高了設備自動化程度。
本實用新型的目的通過以下技術方案實現一種塗布負反饋定位裝置，在玻管待塗布位置上下設置一段光電管2和二段光電管3，玻管10與吸嘴1密封連接，吸嘴1通過管道分別與相互並聯的真空電磁閥6、破壞電磁閥4、氮氣電磁閥5連接，真空電磁閥6與真空發生器7相連，破壞電磁閥4與流量調節閥8相連。
採用上述結構，本實用新型利用真空將塗布液吸到一段光電管2的定位高度後，破壞電磁閥4打開，通過氣體流量調節閥8向真空系統釋放一定量的空氣，以減緩真空系統的吸力，使塗布液上升速度降慢，直至上升到二段光電管3的定位高度，真空系統關閉，同時氮氣電磁閥5打開，向真空系統充入氮氣(工藝需要)，塗布液上升停止，完成定位動作，由於採用光電開關二次定位，本實用新型有效克服真空管路慣性等一些因素的影響，使塗布尺寸控制在±0.3範圍內，大幅提高產品外觀質量及內在品質，同時提高了設備自動化程度。
以下結合附圖和實施例作進一步說明。


圖1是本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
如圖所示，一種塗布負反饋定位裝置，在玻管待塗布位置上下設置一段光電管2和二段光電管3，玻管10與吸嘴1密封連接，吸嘴1通過管道分別與相互並聯的真空電磁閥6、破壞電磁閥4、氮氣電磁閥5連接，真空電磁閥6與真空發生器7相連，破壞電磁閥4與流量調節閥8相連，真空電磁閥6、破壞電磁閥4、氮氣電磁閥5、一段光電管2和二段光電管3分別與PLC控制器連接。
玻管10經工位夾持在塗布吸嘴1上，當有玻管信號經PLC程序打開真空電磁閥6，通過真空將螢光液吸附在玻管10內壁上。一段光電開關2檢測到螢光液，光電開關檢測信號輸出到PLC，通過內部程序控制破壞電磁閥4打開，將經過流量調節閥8調節後的一定量空氣摻入真空管路，以減弱真空吸力，使螢光液的上升速度減慢，以減弱上升的慣性，真空液上升到二段光電開關3位置，檢測信號經過PLC程序控制真空電磁閥6關閉，同時氮氣電磁閥5打開，真空系統處於正壓狀態。螢光液上升立即停止，完成螢光液吸附高度定位。
權利要求1.一種塗布負反饋定位裝置，其特徵在於在玻管(10)待塗布位置上下設置一段光電管(2)和二段光電管(3)，玻管(10)與吸嘴(1)密封連接，吸嘴(1)通過管道分別與相互並聯的真空電磁閥(6)、破壞電磁閥(4)、氮氣電磁閥(5)連接，真空電磁閥(6)與真空發生器(7)相連，破壞電磁閥(4)與流量調節閥(8)相連。
專利摘要本實用新型公開了一種塗布負反饋定位裝置，在玻管待塗布位置上下設置一段光電管和二段光電管，玻管與吸嘴密封連接，吸嘴通過管道分別與相互並聯的真空電磁閥、破壞電磁閥、氮氣電磁閥連接，真空電磁閥與真空發生器相連，破壞電磁閥與流量調節閥相連，本實用新型採用光電開關二次定位，有效克服真空管路慣性等一些因素的影響，使塗布尺寸控制在±0.3範圍內，大幅提高產品外觀質量及內在品質，同時提高了設備自動化程度。
文檔編號B05C11/10GK2905238SQ200620095778
公開日2007年5月30日 申請日期2006年3月23日 優先權日2006年3月23日
發明者周文峰, 楊森 申請人:宜昌勁森照明電子有限公司