一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率的方法

2023-05-26 21:55:56

專利名稱：一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率的方法
技術領域：
本發明涉及顯影機臺領域，特別是涉及一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率的 方法。
背景技術：
在塗膠顯影機臺的使用中，需要監測曝光後烘烤(PEB :Post Exposure Bake)過 程中使用的熱板的斜率，傳統地，使用乙酸醛基類DUV光刻膠來監測熱板斜率，即將乙酸醛 基類DUV光刻膠塗覆在晶片上，在PEB的熱板上加熱，然後用膜厚測量機臺測量光刻膠的厚 度，測量時，如圖1所示，在水平方向(X方向)和垂直方向(Y方向)各監測9個點，然後運 用EXCEL中斜率計算公式計算出X方向、Y方向的斜率值，以確定熱板的傾斜程度是否在規 定範圍內。在生產實踐中，我們發現，退火型光刻膠對PEB熱板的溫度比乙酸醛基類DUV光刻 膠更加敏感，因此能夠更加敏感的監測到熱板的傾斜。

發明內容
針對現有技術的缺陷，本發明的目的是提出一種能更加敏感地監測顯影機臺曝光 後烘烤熱板斜率的方法。為了達到本發明的上述目的，本發明提出一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率 的方法，包括以下步驟首先，在晶片上塗覆退火型光刻膠後將所述晶片置於曝光後烘烤熱板上進行烘烤；然後，用膜厚測量機臺根據測量方法測量烘烤後的上述光刻膠的厚度；所述測量方法為選取上述光刻膠上在圓周內均勻分布的多個點為測量點，測試 上述各測量點的厚度，通過計算上述厚度的最大值和最小值的差值來衡量曝光後烘烤熱板 的斜率。作為上述方案的優選，上述測量方法還包括通過膜厚測量機臺顯示的3D圖，直 接判斷顯影機臺曝光後烘烤熱板傾斜的方向。作為上述方案的優選，上述測量方法中的測量點為25個。本發明提出的一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率的方法，由於採用了對PEB 溫度更加敏感的退火型光刻膠及更好的測量方法，因此能敏感的監測到熱板是否傾斜，並 能直觀地觀察到熱板傾斜的方向及程度。下面結合附圖，對本發明的具體實施方式
作進一步的詳細說明。對於所屬技術領 域的技術人員而言，從對本發明的詳細說明中，本發明的上述和其他目的、特徵和優點將顯 而易見。


圖1為現有技術中使用乙酸醛基類DUV光刻膠監測PEB熱板斜率的方法示意圖； B 型 其中，hv為催化劑。由於選用了不同於現有技術中使用的光刻膠來監測熱板的斜率，因此，測量斜率 的方法也有所不同。使用膜厚測量機臺測量光刻膠的厚度時，在光刻膠上選取多個測試點，如圖2所 示，選取25個測量點，上述25個測量點分布在圓心和兩個同心圓的圓周上，這樣的分布能 更好地示出整個光刻膠的表面。然後利用膜厚測量機臺測量光刻膠在每個測量點處的厚 度，得到上述各個測量點處光刻膠的厚度值，若熱板傾斜，則上述厚度值中肯定存在最大值
4圖2為本發明提出的一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率的測量方法示意圖。
具體實施例方式為使本發明的上述目的、特徵和優點能更明顯易理解，下面結合本發明的優選實 施例，作詳細說明如下。本發明提出的一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率的方法的優選實施例包括 以下步驟首先，在晶片上均勻地塗覆退火型光刻膠(High Activation Energy Resist)，此 處塗膠的方法可以採用現有技術中任意一種塗膠方法；然後，將塗覆上光刻膠的晶片放置在需要監測的顯影機臺PEB熱板上，並進行烘 烤；在烘烤過程中，若PEB熱板有傾斜，那麼塗覆在晶片上的光刻膠也會隨著熱板的傾斜方 向而變得不均勻。最後，烘烤完畢後，將晶片移至膜厚測量機臺，用膜厚測量機臺測量塗覆在上述晶 片上的光刻膠的厚度。其中，監測熱板斜斜率使用的退火型光刻膠(High Activation Energy Resist) 與慣用的乙酸醛基類DUV光刻膠(Low Activation Energy Resist)相比具有更加耐蝕亥lj， 並且對PEB的溫度更加敏感的特性。兩種類型的退火型光刻膠的化學反應式如下所示A型和最小值，通過計算上述最大值和最小值的差值來衡量PEB熱板的傾斜程度。在本發明另一優選實施例中，可以根據上述測量到的各個測試點的厚度值，利用 膜厚測量機臺上顯示的可供觀察的3D圖來直觀地判斷顯影機臺PEB熱板傾斜的方向，如圖 2中的3D圖所示。當然，本發明還可有其他實施例，在不背離本發明之精神及實質的情況下，所屬技 術領域的技術人員當可根據本發明作出各種相應的改變，但這些相應的改變都應屬於本發 明權利要求的保護範圍。
權利要求
一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率的方法，其特徵在於，包括以下步驟首先，在晶片上塗覆退火型光刻膠後將所述晶片置於曝光後烘烤熱板上進行烘烤；然後，用膜厚測量機臺根據測量方法測量烘烤後的上述光刻膠的厚度；所述測量方法為選取上述光刻膠上在圓周內均勻分布的多個點為測量點，測試上述各測量點的厚度，通過計算上述厚度的最大值和最小值的差值來衡量曝光後烘烤熱板的斜率。
2.根據權利要求1所述的一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率的方法，其特徵在 於，上述測量方法還包括通過膜厚測量機臺顯示的3D圖，直接判斷顯影機臺曝光後烘烤 熱板傾斜的方向。
3.根據權利要求1所述的一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率的方法，其特徵在 於，上述測量方法中的測量點為25個。
全文摘要
本發明提出一種監測顯影機臺曝光後烘烤熱板斜率的方法，包括以下步驟首先，在晶片上塗覆退火型光刻膠後將所述晶片置於曝光後烘烤熱板上進行烘烤；然後，用膜厚測量機臺根據測量方法測量烘烤後的上述光刻膠的厚度；所述測量方法為選取上述光刻膠上在圓周內均勻分布的多個點為測量點，測試上述各測量點的厚度，通過計算上述厚度的最大值和最小值的差值來衡量曝光後烘烤熱板的斜率。本發明由於採用了對PEB溫度更加敏感的退火型光刻膠及更好的測量方法，因此能敏感的監測到熱板是否傾斜，並能直觀地觀察到熱板傾斜的方向及程度。
文檔編號G03F7/38GK101900954SQ200910142349
公開日2010年12月1日 申請日期2009年6月1日 優先權日2009年6月1日
發明者吳廣州, 陳鵬 申請人:和艦科技(蘇州)有限公司