雷射經緯儀測量用反光膜裝置的製作方法
2023-08-04 17:37:21
專利名稱：雷射經緯儀測量用反光膜裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型屬於一種雷射測量設備的附件，具體是雷射經緯儀測量用的反光
膜裝置o
背景技術：
在實際工作中，大型工業設備，如軋鋼機械，鍛壓機械，大型工具機等，在 安裝使用一段時間後，機架往往發生變生和基礎的沉降等。因此就有必要對大 型設備進行必要的測量，以便制定更合理的生產工藝，也能為設備的維修，維 護和補救提供可靠的數據。這些測量工作目前均是通過雷射經緯儀實現的。
測量時，測量大型設備的變形時，用反光稜鏡緊貼在設備的表面，雷射經 緯儀發射出雷射照射在反光稜鏡的中心點上，雷射經稜鏡中心點反射回雷射測 量儀器，雷射測量儀器經計算後，得出稜鏡中心點到雷射測量儀器中心的三維
坐標數據。
但現有的雷射經諱儀的反光稜鏡不能很好的與設備的工作面相接，定位精 度低，造成了測量結果的不準確，而且操作不方便，大大影響了工作效率，同 時也進一步的影響了測量精度。因此有必要對現有反光設備進行進一歩的改造 和創新。
實用新型內容
本實用新型的目的是提供一種雷射經緯儀測量用反光膜裝置，採用反光膜 作為反光膜裝置，對雷射有很好的反射，通過磁鐵塊作為吸附大型設備的載體， 可很好的保證測量精度，操作非常簡便。
本實用新型的技術方案如下
雷射經緯儀測量用反光膜裝置，其特徵在於採用下列結構(1)、方形或矩 形磁塊或磁片表面貼有反光膜；或者(2)、直角形磁塊的兩內側表面分別貼有 反光膜。
本實用新型把反光薄膜粘貼固定在經過精密加工的磁性體上，在測量時把 磁性體直接吸附在被測大型設備的機架上，可很好的保證測量精度，操作非常
方便，效率較高，節省人力。
圖1為本實用新型一種結構示意圖。
圖2為本實用新型另一種結構示意圖。
圖3為本實用新型再一種結構示意圖。
具體實施方式
例l
參見圖l。
雷射經緯儀測量用反光膜裝置，在立方體磁塊1表面貼有反射膜2。當測量 大型設備正面時，用磁塊1的底面吸附在測量面上，測量側面時用磁塊1的側 面吸附。可方便固定，效率高，能很好的保證測量精度。 例2
參見圖2。
雷射經緯儀測量用反光膜裝置，在磁片3表面貼有反射膜2。測量大型設備 正面時，將磁片3吸附在測量面上，以進行固定。 例3
參見圖3。
雷射經緯儀測量用反光膜裝置，直角形磁塊4的兩內側表面分別貼有反光膜 2。可用於大型設備正面和側面的測量，也可用於間隙的測量。
權利要求1、雷射經緯儀測量用反光膜裝置，其特徵在於採用下列結構(1)、方形或矩形磁塊或磁片表面貼有反光膜；或者(2)、直角形磁塊的兩內側表面分別貼有反光膜。
專利摘要本實用新型公開了一種雷射經緯儀測量用反光膜裝置，其特徵在於採用下列結構(1)方形或矩形磁塊或磁片表面貼有反光膜；或者(2)直角形磁塊的兩內側表面分別貼有反光膜。本實用新型把反光薄膜粘貼固定在經過精密加工的磁性體上，在測量時把磁性體直接吸附在被測大型設備的機架上，可很好的保證測量精度，操作非常方便，效率較高，節省人力。
文檔編號G01C1/00GK201191182SQ20082003395
公開日2009年2月4日 申請日期2008年3月27日 優先權日2008年3月27日
發明者勝 吳, 翔 李, 李長宏, 李黎明, 王道遠, 程丙貴, 黃貞益 申請人:南京鋼鐵股份有限公司;安徽工業大學