升降式真空破壞閥的製作方法

2023-07-08 21:09:56 2

專利名稱：升降式真空破壞閥的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種閥門，具體地指一種升降式真空破壞閥。
背景技術：
在管道系統中，當系統運行壓力發生突變或停止運行時，往往會產生負壓，造成回流汙染。因此，相關國家標準均要求採取措施防止回流汙染的產生，其中真空破壞閥是防止此類回流汙染的主要措施之一。但現有真空破壞閥吸氣量小，不能快速響應負壓快速吸氣，從而不能瞬時破壞系統內真空，導致回流汙染；而且因結垢等原因，常出現密封卡阻現象。
發明內容本實用新型的目的是針對上述問題提供一種升降式真空破壞閥，該閥能快速響應負壓、快速吸氣，且吸氣量大，密封可靠的同時開關無卡阻。為實現上述目的，本實用新型採用的方案是:一種真空破壞閥，包括閥體，所述閥體的上端設有閥座，所述閥座的頂端設有閥蓋，所述閥座與閥蓋間設有進氣口，所述閥座上固定連有自密封副結構，所述閥體內頂端設有上導向座，所述閥體內底端設有下導向座，所述上導向座和下導向座間滑動連有導向軸，所述導向軸上設有閥瓣，所述閥瓣與所述下導向座間的導向軸上套有彈簧。本實用新型採用可以適應高、低壓密封環境的自密封副結構，該自密封副結構使得閥門低壓密封時需要的密封比壓很低，進而用於關閉閥門的彈簧壓力很小，從而實現了當管線出現負壓時閥門能迅速響應負壓，快速大量吸氣，徹底消除管線真空；自密封副結構強度高，承壓性好，避免了在管線高壓時被損壞影響低壓密封性能；本實用新型通過導向軸和上、下導向座的滑動配合實現了上、下雙嚮導向，其中，上導向為精密導向，下導向為非精密導向，有效實現了閥瓣與閥座之間的密封接觸，並且避免了導向軸因為結垢等原因引起的卡阻現象；本實用新型結構簡單緊湊，故障率小。進一步地，所述自密封副結構為橡膠密封圈，其外周固定在所述閥座的內壁上，其內周上部設有環形錐面，其內周下部設有環形凸塊，所述環形凸塊與所述環形錐面之間開有環形凹槽。該自密封副結構在環形凸塊與其上端的環形凹槽的配合作用下可以實現高、低壓密封，具有良好的自密封特性，錐面密封可以有效修正加工及裝配偏差；真空度達到-0.002MPa時閥門開啟，在0.02MPa正壓力下就可實現低壓密封，在一定範圍定，正壓力越大密封性越好。再進一步地，所述閥瓣的外周呈錐面狀。閥瓣的外周錐面與自密封副結構的環形錐面相配合，實現錐面密封，而自密封副結構內側下部的環形凸塊抵在閥瓣的外周錐面上，實現自密封。更進一步地，所述彈簧上端頂託所述閥瓣的底面，所述彈簧下端固定在所述下導向座上。通過彈簧的壓緊與回位實現導向軸的上下滑動，從而實現閥瓣的上下移動，使閥門關閉或開啟。
圖1為升降式真空破壞閥的正剖結構示意圖。圖2為圖1中閥瓣與自密封副結構密封處的放大結構示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步的詳細說明，便於更清楚地了解本實用新型，但它們不對本實用新型構成限定。如圖1所示，本升降式真空破壞閥，包括閥體1，所述閥體I的上端設有閥座2，所述閥座2的頂端設有閥蓋3，所述閥座2與閥蓋3間設有進氣口 4，所述閥座2上固定連有自密封副結構5,該自密封副結構5為一橡膠密封圈，自密封副結構5的外周固定在所述閥座
2的內壁上，自密封副結構5的內周上部設有環形錐面501，其內周下部設有環形凸塊502，所述環形凸塊502與所述環形錐面501之間開有環形凹槽503 (如圖2)，所述閥體I內頂端設有上導向座6，所述閥體I內底端設有下導向座7，所述上導向座6和下導向座7間滑動連有導向軸8，所述導向軸8上設有閥瓣9，閥瓣9的外周面呈錐面，閥瓣9下方的導向軸8上套有彈簧10，彈簧10的上端頂託所述閥瓣9的底面，彈簧10的下端固定在所述下導向座7上。本實用新型的工作過程如下:正常情況下，彈簧10頂託閥瓣9，使閥門處於關閉狀態，此時，環形凸塊502被擠壓變形向其上端的環形凹槽503內擴展，使得自密封副結構5實現良好的自密封性能，而彈簧10的壓力則很小，在0.02MPa正壓力下就可實現低壓密封；當管線排水或其他原因導致管道出現負壓，真空度達到-0.002MPa時，因之前彈簧10壓縮形變量小，可迅速響應真空，使得閥瓣9被外界大氣壓推壓迅速下降，閥門開啟，大量吸氣，從而破壞管道真空、消除管道負壓，以防止管道凹裂損壞，而上、下雙嚮導向形式相比傳統的單向導向密封更可靠，能保障閥門的開啟或關閉無卡阻。
權利要求1.一種真空破壞閥，包括閥體(I)，所述閥體(I)的上端設有閥座(2)，所述閥座(2)的頂端設有閥蓋(3)，所述閥座⑵與閥蓋(3)間設有進氣口(4)，其特徵在於:所述閥座(2)上固定連有自密封副結構(5)，所述閥體⑴內頂端設有上導向座(6)，所述閥體⑴內底端設有下導向座(7)，所述上導向座(6)和下導向座(7)間滑動連有導向軸(8)，所述導向軸⑶上設有閥瓣(9)，所述閥瓣(9)與所述下導向座(7)間的導向軸⑶上套有彈簧(10)。
2.根據權利要求1所述的真空破壞閥，其特徵在於:所述自密封副結構(5)為橡膠密封圈，其外周固定在所述閥座(2)的內壁上，其內周上部設有環形錐面(501)，其內周下部設有環形凸塊(502)，所述環形凸塊(502)與所述環形錐面(501)之間開有環形凹槽(503)。
3.根據權利要求1所述的真空破壞閥，其特徵在於:所述閥瓣(9)的外周呈錐面狀。
4.根據權利要求1所述的真空破壞閥，其特徵在於:所述彈簧(10)上端頂託所述閥瓣(9)的底面，所述彈簧(10)下端固定在所述下導向座(7)上。
專利摘要本實用新型公開了一種升降式真空破壞閥，包括閥體，所述閥體的上端設有閥座，所述閥座的頂端設有閥蓋，所述閥座與閥蓋間設有進氣口，所述閥座上固定連有自密封副結構，所述閥體內頂端設有上導向座，所述閥體內底端設有下導向座，所述上導向座和下導向座間滑動連有導向軸，所述導向軸上設有閥瓣，所述閥瓣與所述下導向座間的導向軸上套有彈簧。本實用新型能快速響應負壓快速吸氣，且吸氣量大，能迅速徹底地消除管線真空；上、下兩端雙導向結構確保閥門可靠密封同時實現了閥門可靠開啟或關閉無卡阻；本實用新型結構簡單緊湊，故障率小。
文檔編號F16K17/04GK203023558SQ20122070855
公開日2013年6月26日 申請日期2012年12月20日 優先權日2012年12月20日
發明者李習洪, 何銳 申請人:武漢大禹閥門股份有限公司