帶升降式對中裝置的離心機的製作方法
2023-08-10 21:10:46 2
專利名稱：帶升降式對中裝置的離心機的製作方法
技術領域：
本發明涉及半導體領域，具體為一種帶升降式對中裝置的離心機，它是在半導體工業中，需要旋轉加工的時候所使用的離心機。
背景技術：
隨著半導體工藝的發展，有些工藝對膠膜的均勻性和膠膜厚度的要求都很高，膠膜不均勻的主要原因之一就是在旋轉塗覆膠膜的過程中，晶片中心和離心機中心不一致。 在新工藝開發和實驗階段，一般都採用簡易的手動實驗臺，這就需要一種簡易的對中裝置， 通過機械配合以達到中心定位的目的。
發明內容
本發明的目的在於提供一種帶升降式對中裝置的離心機，當工藝要求對中要求較高時，可以使用本發明的離心機，保證晶片中心和離心機的旋轉中心一致，消除晶片和離心機中心不一致對膠膜均勻性產生的影響。本發明解決其技術問題所採用的技術方案是一種帶升降式對中裝置的離心機，該離心機的真空吸盤外側設置可升降的對中裝置，放置晶片時，晶片置於對中裝置內側，對中裝置在上位，晶片背面與真空吸盤接觸，真空吸盤與磁流體密封裝置相連。所述的帶升降式對中裝置的離心機，對中裝置是由對中支架和擋柱組成，擋柱沿圓周均勻的分布在對中支架上，晶片處於擋柱形成的圓環中間。所述的帶升降式對中裝置的離心機，對中支架為圓盤結構。所述的帶升降式對中裝置的離心機，磁流體密封裝置通過聯軸器與離心電機相連，磁流體密封裝置中的真空管路與真空閥連通。所述的帶升降式對中裝置的離心機，還設有軸套，軸套位於磁流體密封裝置與無油襯套之間，對中裝置位於可沿磁流體密封裝置和無油襯套上下滑動的軸套上。本發明的有益效果是1、在使用手動離心機時，對晶片的加工過程中，當需要塗覆的膠膜均勻性要求較高時，由於傳統的離心單元沒有對中裝置，在晶片的加工過程中，晶片中心和旋轉中心不一致，導致晶片表面膠膜無法達到要求。本發明離心機設有對中裝置，對中裝置可上下移動， 對中裝置中心設有真空吸盤，可以牢牢地把晶片吸住。2、本發明能夠使手動放置在真空吸盤上的晶片中心和離心機旋轉中心保持一致。3、本發明對中裝置可上下移動，旋轉塗膠時，對中裝置置於晶片下方。4、本發明結構在晶片加工過程中，不會出現變形、碎片的情況。5、本發明使用升降式對中，沒有橫向位移，可以提高對中精度，離心機部分固定在本體上不動，這樣就提高了離心機的穩定性，減少了震動。同時，由於只有一個對中的上下動作，能節約機構運動的時間，提高設備產能。
圖1是本發明的結構示意圖。圖2是對中裝置的俯視圖。圖中，1離心電機；2聯軸器；3底座；4軸套；5排風口 ；6真空吸盤；7罩杯；8磁流體密封裝置；9無油襯套；10排液口 ； 11對中裝置；12擋柱；13對中支架；14晶片。
具體實施例方式下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明。如圖1所示，本發明帶升降式對中裝置的離心機主要包括離心電機1、聯軸器2、 底座3、軸套4、排風口 5、真空吸盤6、罩杯7、磁流體密封裝置8、對中裝置11等。真空吸盤 6外側設置對中裝置11，對中裝置11是由圓盤結構的對中支架13和擋柱12組成，擋柱12 沿圓周均勻的分布在對中支架13上(圖幻。底座3內側依次設置無油襯套9、軸套4和磁流體密封裝置8，對中裝置11位於軸套4上，軸套4位於磁流體密封裝置8和無油襯套9之間，軸套4可以沿磁流體密封裝置8和無油襯套9上下滑動，進一步帶動對中裝置11升降。 晶片14置於對中裝置11內側，使晶片14完全處於擋柱12形成的圓環中間，晶片14背面與真空吸盤6接觸，真空吸盤6與磁流體密封裝置8相連，磁流體密封裝置8通過聯軸器2 與離心電機1相連，磁流體密封裝置8中的真空管路與真空閥連通，保證晶片14旋轉的時候真空吸盤6有足夠的真空。真空吸盤6外部設有罩杯7，罩杯7上開有排液口 10和排風口 5，防止在塗膠過程中膠液飛濺，廢膠通過排液口 10排出，罩杯7內部通過排風口 5進行排風。本發明的工作過程如下放置晶片的時候，對中裝置11在上位，晶片14放在真空吸盤6上，並且置於對中裝置11上面的擋柱12內側，真空閥打開，通過對磁流體密封裝置8中的真空管路抽真空， 把晶片14牢牢的吸在真空吸盤6上。完成對中後，對中裝置下降，對中裝置11下降到最低位，離心電機1開始旋轉進行膠膜的塗覆。加工完成後，關閉真空，對中裝置升起，取走晶片，放入新的待加工晶片等待加工。為了滿足工藝要求，旋轉加工的時候，需要晶片中心和旋轉中心儘量一致，本發明帶簡易對中裝置的離心機，這種帶簡易對中裝置的設計符合這種需求。在放置晶片的時候， 對中裝置在上位，當晶片旋轉塗膠時，對中裝置下降，停留在晶片下方，能使晶片在加工的時候，晶片中心和離心機旋轉中心保持一致，提高塗膠均勻性，機構可靠性高，晶片吸附穩定，不會出現偏移、掉片等情況。
權利要求
1.一種帶升降式對中裝置的離心機，其特徵在於該離心機的真空吸盤外側設置可升降的對中裝置，放置晶片時，晶片置於對中裝置內側，對中裝置在上位，晶片背面與真空吸盤接觸，真空吸盤與磁流體密封裝置相連。
2.按照權利要求1所述的帶升降式對中裝置的離心機，其特徵在於對中裝置是由對中支架和擋柱組成，擋柱沿圓周均勻的分布在對中支架上，晶片處於擋柱形成的圓環中間。
3.按照權利要求2所述的帶升降式對中裝置的離心機，其特徵在於對中支架為圓盤結構。
4.按照權利要求1所述的帶升降式對中裝置的離心機，其特徵在於磁流體密封裝置通過聯軸器與離心電機相連，磁流體密封裝置中的真空管路與真空閥連通。
5.按照權利要求1所述的帶升降式對中裝置的離心機，其特徵在於還設有軸套，軸套位於磁流體密封裝置與無油襯套之間，對中裝置位於可沿磁流體密封裝置和無油襯套上下滑動的軸套上。
全文摘要
本發明涉及半導體領域，具體為一種帶升降式對中裝置的離心機，它是在半導體工業中，需要旋轉加工的時候所使用的離心機。該離心機的真空吸盤外側設置可升降的對中裝置，放置晶片時，晶片置於對中裝置內側，對中裝置在上位，晶片背面與真空吸盤接觸，真空吸盤與磁流體密封裝置相連。當工藝要求對中要求較高時，可以使用本發明的離心機，保證晶片中心和離心機的旋轉中心一致，消除晶片和離心機中心不一致對膠膜均勻性產生的影響。本發明使用升降式對中，沒有橫向位移，可以提高對中精度，離心機部分固定在本體上不動，這樣就提高了離心機的穩定性，減少了震動，同時，由於只有一個對中的上下動作，能節約機構運動的時間，提高設備產能。
文檔編號B05C11/08GK102151643SQ20101056564
公開日2011年8月17日 申請日期2010年11月30日 優先權日2010年11月30日
發明者王衝 申請人:瀋陽芯源微電子設備有限公司