超白玻璃的減反射膜及超白玻璃製品的製作方法

2023-07-06 11:02:46 1

專利名稱:超白玻璃的減反射膜及超白玻璃製品的製作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種超白玻璃的減反射膜，所述減反射膜是通過磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成的Ti-Si-O膜層。所述Ti-Si-O膜層結構由裡到外依次為ZnO膜、SiOX膜、TiSiOX膜及TiOX膜。本實用新型還提供一種超白玻璃製品，包括超白玻璃基板以及形成於超白玻璃基板表面的減反射膜，所述減反射膜是如上述的減反射膜。所述玻璃基板是超白壓花玻璃。本實用新型使用磁控濺射工藝在玻璃表面形成Ti-Si-O膜層，所得減反射膜膜厚均勻，消除了由於膜厚不均勻出現的色彩不均現象，且容易控制減反射膜層厚度，批量生產過程操作簡單，且克服了膜層不均勻所致的彩虹、色彩不均等缺陷，膜層質量好。
【專利說明】超白玻璃的減反射膜及超白玻璃製品

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及超白玻璃【技術領域】，尤其涉及一種超白玻璃的減反射膜及超白玻璃製品。

【背景技術】
[0002]當前，通常會在超白玻璃表面形成減反射膜，可減少太陽光反射。現有的在超白玻璃表面形成減反射膜的方式是使用輥塗機把減反射溶液塗敷於玻璃基板的表面。這種生產方式形成的減反射膜由於減反射溶液的液體特性，形成的膜層多有缺陷:膜層塗敷不均勻致使膜面出現彩虹現象、由於溶液的表面張力使玻璃邊部的膜層出現帶狀不均勻現象、使用機器宏觀不易控制膜層厚度和溶液的最佳使用時間等生產問題。
實用新型內容
[0003]本實用新型所要解決的技術問題在於，提供一種超白玻璃的減反射膜，便於批量生產，且能有效消除膜厚不均勻導致的彩虹、色彩不均等缺陷。
[0004]本實用新型進一步所要解決的技術問題在於，提供一種超白玻璃製品，其便於批量生產，且能有效消除膜厚不均勻導致的彩虹、色彩不均等缺陷。
[0005]為解決上述技術問題，本實用新型提供如下技術方案:一種超白玻璃的減反射膜，所述減反射膜是通過磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成的T1-S1-O膜層。
[0006]進一步地，所述T1-S1-O膜層結構由裡到外依次為ZnO膜、S1j莫、TiS1 J莫及T1J1
[0007]進一步地，所述ZnO膜的膜厚為10?20nm，折射率為1.45?1.59。
[0008]進一步地，所述S1J莫的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0009]進一步地，所述TiS1J莫的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0010]進一步地，所述T1J莫的膜厚為10?20nm，折射率為1.20?1.35。
[0011]另一方面，本實用新型還提供一種超白玻璃製品，包括超白玻璃基板以及形成於超白玻璃基板表面的減反射膜，所述減反射膜是如上任一項所述的減反射膜。
[0012]進一步地，所述超白玻璃基板是超白壓花玻璃。
[0013]採用上述技術方案後，本實用新型至少具有如下有益效果:本實用新型使用磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成T1-S1-O膜層，所得減反射膜膜厚均勻，消除了由於膜厚不均勻出現的色彩不均現象，且容易控制減反射膜層厚度，批量生產過程操作簡單，且克服了膜層不均勻所致的彩虹、色彩不均等缺陷，膜層質量好。

【附圖說明】

[0014]圖1是本實用新型超白玻璃製品的結構示意圖。

【具體實施方式】
[0015]需要說明的是，在不衝突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特徵可以相互結合，下面結合附圖和具體實施例對本申請作進一步詳細說明。
[0016]如圖1所示，本實用新型提供一種超白玻璃製品，包括超白玻璃基板I以及形成於超白玻璃基板I表面的減反射膜2。
[0017]在一個實施例中，所述超白玻璃基板I可以採用超白壓花玻璃製成。
[0018]所述減反射膜2是通過磁控濺射工藝在超白玻璃基板I表面形成的T1-S1-O膜層。在如圖1所示的優選實施例中，所述T1-S1-O膜層結構由裡到外依次為ZnO膜20、Si0x膜 22、TiS1J莫 24 及 T1 ^莫 26。
[0019]優選地，所述ZnO膜20的膜厚為10?20nm，折射率為1.45?1.59。
[0020]優選地，所述S1J莫22的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0021]優選地，所述TiS1J莫24的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0022]優選地，所述T1J莫26的膜厚為10?20nm，折射率為1.20?1.35。
[0023]本實用新型超白玻璃製品及減反射膜的生產過程如下:
[0024]1、採用常規超白玻璃生產工藝生產超白玻璃基板；
[0025]2、採用磁控濺射工藝在超白玻璃基板的表面依次濺射形成減反射膜2由內至外的各層結構，濺射時，濺射裝備的本地真空度低於3.0E-6mbar，超白玻璃基板溫度為100?150°C，超白玻璃基板傳送走速為320cm/min，形成各層結構時的具體濺射參數為:
[0026]ZnO膜:使用鋅靶材(純度為99.9% )，用高純(純度為99.999%)氣體OjPAr的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術參數:濺射功率40KW ;氬氣流量600sCCm ;氧氣流量900sCCm ；
[0027]S1x膜:使用矽靶材(純度為99.9 % )，用高純(純度為99.999 % )氣體02和Ar的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術參數:濺射功率200KW ;氬氣流量600sCCm ;氧氣流量700sccm ；
[0028]TiS1x膜:使用氧化矽(摻10%的鈦)鈀材，用高純(純度為99.999%)氣體02和Ar的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術參數:濺射功率4200KW ;氬氣流量600sCCm ;氧氣流量700sccm ；
[0029]T1x膜:使用氧化鈦靶材，用高純(純度為99.999%)氣體OjPAr的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術參數:濺射功率功率35KW ;氬氣流量1200SCCm ;氧氣流量lOOsccm。
[0030]儘管已經示出和描述了本實用新型的實施例，對於本領域的普通技術人員而言，可以理解在不脫離本實用新型的原理和精神的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本實用新型的範圍由所附權利要求及其等同範圍限定。
【權利要求】
1.一種超白玻璃的減反射膜，包括，其特徵在於，所述減反射膜是通過磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成的T1-S1-O膜層。2.如權利要求1所述的超白玻璃的減反射膜，其特徵在於，所述T1-S1-O膜層結構由裡到外依次為ZnO膜、S1J莫、TiS1 x膜及T1 x膜。3.如權利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特徵在於，所述ZnO膜的膜厚為10?20nm，折射率為1.45?1.59。4.如權利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特徵在於，所述S1J莫的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。5.如權利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特徵在於，所述TiS1x膜的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。6.如權利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特徵在於，所述T1J莫的膜厚為10?20nm，折射率為1.20?1.35。7.一種超白玻璃製品，包括超白玻璃基板以及形成於超白玻璃基板表面的減反射膜，其特徵在於，所述減反射膜是如權利要求1飛中任一項所述的減反射膜。8.如權利要求7所述的超白玻璃製品，其特徵在於，所述超白玻璃基板是超白壓花玻璃。
【文檔編號】C03C17-23GK204281595SQ201420646329
【發明者】董清世, 黃石娟 [申請人]信義光伏產業(安徽)控股有限公司