包含氟乙烯基醚官能化芳族部分的芳族聚醯胺膜的製作方法
2023-12-03 18:29:21
專利名稱:包含氟乙烯基醚官能化芳族部分的芳族聚醯胺膜的製作方法
技術領域:
本發明涉及由芳族聚醯胺聚合物製成的膜。所述聚合物包含氟乙烯基醚官能化芳族二甲醯氯與芳族二胺的縮合產物的重複單元,以及製備所述芳族聚醯胺聚合物的方法。與常規的膜相比,所述膜具有降低的對油的表面易感性。
背景技術:
氟化材料具有許多用途。具體地,它們用於聚合物相關產業中,並且更具體地用於纖維相關產業中以賦予防垢性和防油性。一般來講,這些材料作為局部處理劑被施用,但是由於材料經由磨損和清洗而損耗,因此它們的有效性隨時間的推移而降低。需要提供具有改善的防垢性和防油性的聚合物材料。
發明內容
在一個方面,本發明提供了包含氟乙烯基醚官能化芳族重複單元的聚合物,所述重複單元由結構(I)表示
權利要求
1.包含聚合物的膜,所述聚合物包含由結構(I)表示的氟乙烯基醚官能化芳族重複單元
2.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,Ar為苯基。
3.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,每個R為H。
4.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,一個R由結構(II)表示,並且剩餘的兩個R各自為H。
5.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,每個R1為H。
6.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,X為O。
7.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,X為CF2。
8.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,Y為O。
9.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,Y為CF2。
10.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,Z為Cl。
11.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,一個R由結構(II)表示,一個Z為H,並且一個Z為Cl。
12.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,Rf1為CF2。
13.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,Rf2為CF2。
14.根據權利要求1 所述的膜,其中在所述聚合物中,P= O並且Y為CF2。
15.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,Ar為苯基,每個R為H,Z為Cl,每個R1為H,X為O,Y為O,Rf1為CF2,並且Rf2為全氟丙烯基,並且q = I。
16.根據權利要求1所述的膜,其中在所述聚合物中,還包含由結構(V)表示的芳族聚醯胺重複單元,
17.根據權利要求16所述的膜,其中在所述聚合物中,全部R2為H,並且全部R3為H。
全文摘要
本發明提供了芳族聚醯胺聚合物、由所述聚合物製成的膜以及製備所述膜的方法,所述聚合物包含氟乙烯基醚官能化芳族二甲醯氯與芳族二胺的縮合產物重複單元。
文檔編號C08G65/323GK103080195SQ201080068820
公開日2013年5月1日 申請日期2010年9月23日 優先權日2010年9月1日
發明者N.E.德裡斯戴爾, K.G.莫羅伊, F.內德伯格, J.M.波利諾, J.C.裡特 申請人:納幕爾杜邦公司