有機材料的穩定和表面改性的製作方法

2023-12-03 10:02:01

專利名稱：有機材料的穩定和表面改性的製作方法
有機材料的穩定和表面改性本發明涉及包含有機材料，優選聚合物或滑潤劑的組合物，還涉及苯並氧硫雜環 己烷衍生物及其用於穩定有機材料以抵抗氧化降解、熱降解或光誘導降解和/或作為有機 材料表面能降低劑的用途。已知的穩定劑沒有在各方面滿足穩定劑需要滿足的高要求，特別是針對保存期 限、水吸收、水解靈敏度、加工穩定、色彩性能、揮發度、遷移行為、相容性和抗光防護改進方 面的高要求。因此持續需要用於對氧化降解、熱降解和/或光誘導降解敏感的有機材料的 有效穩定劑和/或滿足作為有機材料表面能降低劑的條件，例如增加有機材料的油和水排 斥性。現已發現苯並氧硫雜環己烷衍生物特別適合用作對氧化降解、熱降解或光誘導降 解敏感的有機材料的穩定劑和/或用作有機材料表面能降低劑。因此，本發明涉及一種包含如下組分的組合物a)對氧化降解、熱降解或光誘導降解敏感的有機材料，和b)至少一種式I的化合物
權利要求
1. 一種包含如下組分的組合物a)對氧化降解、熱降解或光誘導降解敏感的有機材料，和b)至少一種式I的化合物
2.根據權利要求1的組合物，其中R1和R2各自獨立地為氫，C1-C18烷基，C2-C18烯基，未取代或被C1-C4烷基取代的苯 基，未取代或被C1-C4烷基取代的C7-C9苯基烷基，-CH (R7) -S (0) n-R8或-CH (R7a) -S (0) [CH2-CH(R7b)-R9;R3和R4各自獨立地為氫、C1-C18烷基、未取代或被C1-C4烷基取代的苯基；R5和R6各自獨立地為氫，C1-C18烷基，被氧間斷的C2-C18烷基，未取代或被C1-C4烷基取代的苯基，滷素
3.根據權利要求1的組合物，其中R1和R2各自獨立地為氫、C1-C12烷基、苯基、苄基、-CH(R7)-S ((^-&或-CH(R7a)-S(O) [CH2-CH(R7b)-R9;R3和R4各自獨立地為氫、C1-C12烷基或苯基；RjPR6各自獨立地為氫、C1-C12烷基、苯基、滷素、
4.根據權利要求1的組合物，其中R1 為 C「C4 烷基、-CH (R7) -S (0) n-R8 或-CH (R7a) -S (0) n_CH2-CH (R7b) -R9 ； R2 為 C「C4 烷基、-CH (R7) -S (0) n-R8 或-CH (R7a) -S (0) n_CH2-CH (R7b) -R9 ；R3為氫； R4為氫或苯基； R5為氫； R6為氫或苯基； R7> R7a和R7b各自獨立地為氫； R8 為-CH2-CH2- (CF2) 3CF3 或-CH2-CH2- (CF2) 7CF3 ； OR9 為
5.根據權利要求1的組合物，其包含天然、半合成或合成聚合物作為組分(a)。
6.根據權利要求1的組合物，其包含熱塑性聚合物作為組分(a)。
7.根據權利要求1的組合物，其包含聚烯烴作為組分(a)。
8.根據權利要求1的組合物，其中組分(b)基於組分(a)的重量以0.0005-10%的量存在。
9.根據權利要求1的組合物，其除組分(a)和(b)外額外包含其它添加劑。
10.根據權利要求9的組合物，其包含酚類抗氧化劑、光穩定劑和/或加工穩定劑作為 其它添加劑。
11.一種式I的化合物
12.根據權利要求11的化合物，其中R1 為 C「C4 烷基、-CH (R7) -S (0) n-R8 或-CH (R7a) -S (0) n_CH2-CH (R7b) -R9 ；R2 為 C「C4 烷基、-CH (R7) -S (0) n-R8 或-CH (R7a) -S (0) n_CH2-CH (R7b) -R9 ；R3為氫；R4為氫或苯基；R5為氫；R6為氫或苯基；R7> R7a和R7b各自獨立地為氫；R8 為-CH2-CH2- (CF2) 3CF3 或-CH2-CH2- (CF2) 7CF3 ；R9 為
13.一種式II的化合物
14.一種穩定有機材料以抵抗氧化降解、熱降解或光誘導降解和/或降低有機材料表 面能的方法，其包括將至少一種根據權利要求1的式I化合物摻入有機材料中或施用至有 機材料上。
15.根據權利要求1的式I化合物作為有機材料穩定劑以抵抗氧化降解、熱降解或光誘 導降解和/或作為有機材料表面能降低劑的用途。
全文摘要
本發明涉及對氧化降解、熱降解或光誘導降解擁有傑出穩定性和/或能夠降低有機材料表面能的有機材料，其包含至少一種式I的化合物，其中通用符號如權利要求1中所定義。
文檔編號C07C323/15GK102007111SQ200980113458
公開日2011年4月6日 申請日期2009年3月31日 優先權日2008年4月17日
發明者M·格斯特, M·米哈裡克 申請人:巴斯夫歐洲公司