吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用的製作方法
2023-12-06 14:57:46
專利名稱：吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用的製作方法
技術領域：
本發明涉及頻率片的加工領域，特別是一種吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用。
背景技術：
隨著超大規模集成電路的迅速發展，晶片的集成度越來越高，元器件的尺寸越來 越小，因器件的高密度、小尺寸引發的各種效應對各步工藝製作結果的影響日益突出，對各 步工藝的要求也隨之越來越嚴格，如對生產頻率片中的清洗要求就越來越高。目前，頻率片 清洗後使用酒精脫水，再放入100度左右的烘箱中乾燥。酒精脫水時需要上下迴旋搖動清 洗10分鐘，浸泡10分鐘，乾燥10分鐘。這種頻率片的清洗乾燥方式耗費時間長，生產效率 低，同時在搖動清洗時容易造成缺損的產生，而且酒精脫水不徹底還容易造成髒汙。普通的 清洗乾燥方式已經不能滿足現代快速高效生產的需要。因此，如何進行快速高效的進行頻 率片清洗乾燥工作，降低頻率片髒汙的發生率成為該技術領域亟待解決的問題。
發明內容
為了提高頻率片清洗乾燥的生產速度，降低頻率片髒汙發生率，本發明提供以下 技術方案一種吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用，其特徵在於將吸引乾燥的方式 應用於頻率片清洗乾燥工程。作為本發明的一種優選方案，吸引乾燥的方式應用於頻率片清洗乾燥工程的步驟 為A、用純水將頻率片進行清洗；B、將清洗後的頻率片放入吸引乾燥機中，乾燥10分鐘，溫度條件為60度，壓強條 件為20KPa ；C、頻率片乾燥完成，進行下一工序。作為本發明的另一種優選方案，所述純水的電阻率小於18. 3ΜΩ · cm。作為本發明的又一種優選方案，所述吸引乾燥機可同時乾燥500片頻率片。本發明與現有技術相比，其優點在於1.本發明吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用，將普通的酒精脫水的方式進行 乾燥替換為吸引乾燥，省去了酒精使用的環節，同時避免了酒精儲存和回收工作；2.本發明吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用，將原來酒精脫水乾燥的30分 鍾工作時間降低到10分鐘，提高了清洗效率，同時將髒汙發生率從0. 5%降為0 ；3.本發明吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用，通過吸引乾燥對清洗後的頻率 片進行乾燥，避免了酒精脫水乾燥過程中，上下迴旋搖動對頻率片產生的損毀。
具體實施例方式下面對本發明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特徵能更易於被本領域技術人員理解，從而對本發明的保護範圍做出更為清楚明確的界定。本發明吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用，主要特徵在於將吸引乾燥的方 式應用於頻率片清洗乾燥工程。其中，吸引乾燥的方式應用於頻率片清洗乾燥工程的步驟為A、用純水將頻率片進行清洗；B、將清洗後的頻率片放入吸引乾燥機中，乾燥10分鐘，溫度條件為60度，壓強條 件為20KPa ；C、頻率片乾燥完成，進行下一工序。此外，所述純水的電阻率小於18. 3ΜΩ ·_。所述吸引乾燥機可同時乾燥500片頻率片。以上所述，僅為本發明的具體實施方式
，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何 熟悉本領域的技術人員在本發明所揭露的技術範圍內，可不經過創造性勞動想到的變化或 替換，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。因此，本發明的保護範圍應該以權利要求書所限 定的保護範圍為準。
權利要求
1.一種吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用，其特徵在於將吸引乾燥的方式應用 於頻率片清洗乾燥工程。
2.根據權利要求1所述的吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用，其特徵在於吸引 乾燥的方式應用於頻率片清洗乾燥工程的步驟為A、用純水將頻率片進行清洗；B、將清洗後的頻率片放入吸引乾燥機中，乾燥10分鐘，溫度條件為60度，壓強條件為 20KPa ；C、頻率片乾燥完成，進行下一工序。
3.根據權利要求2所述的吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用，其特徵在於所述 純水的電阻率小於18. 3ΜΩ · cm。
4.根據權利要求3所述的吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用，其特徵在於所述 吸弓I乾燥機可同時乾燥500片頻率片。
全文摘要
本發明提供了一種應用於頻率片加工領域的頻率片的清洗乾燥工藝。一種吸引乾燥在頻率片清洗乾燥工程的應用，其特徵在於將吸引乾燥的方式應用於頻率片清洗乾燥工程。吸引乾燥的方式應用於頻率片清洗乾燥工程的步驟為A、用純水將頻率片進行清洗；B、將清洗後的頻率片放入吸引乾燥機中，乾燥5-15分鐘，溫度條件為40-70度，壓強條件為10-30KPa；C、頻率片乾燥完成，進行下一工序。本發明優點在於將普通的酒精脫水的方式進行乾燥替換為吸引乾燥，提高了清洗效率，同時將髒汙發生率從0.5％降為0；避免了酒精脫水乾燥過程中，上下迴旋搖動對頻率片產生的損毀。
文檔編號F26B5/12GK102072614SQ20101061734
公開日2011年5月25日 申請日期2010年12月31日 優先權日2010年12月31日
發明者任劍鋒 申請人:蘇州普銳晶科技有限公司