透明導電膜的製造方法及通過該方法製造的透明導電膜的製作方法
2023-05-01 03:37:56
專利名稱：透明導電膜的製造方法及通過該方法製造的透明導電膜的製作方法
技術領域：
本發明涉及工序簡單，能夠製造電導率、透射率、耐彎曲性及粘接力優異且具有低霧度(Haze)的透明導電膜的透明導電膜的製造方法及通過該方法製造的透明導電膜。
背景技術：
通常透明導電膜用作顯示元件的電源施加用；家電設備的電子波阻斷膜；LCD、OLED、FED、TOP、柔性顯示器；電子紙等各種顯示器領域的透明電極等電氣電子裝備的必要構成要素，目前主要使用的透明導電膜原料有IT0(Indium-Tin oxide)>AT0(Antimony-Tin0xide)、AZ0 (Antimony-Zinc Oxide)等無機氧化物導電性原料。如果將上述原料利用通常使用的濺射法、離子束法或真空蒸鍍法等製造透明導電膜，則能夠製造高導電性和透射率優異的導電膜，但是真空裝備導致的設備投資費用大，大量生產及大型化存在困難，尤其是對塑料膜之類的需要低溫工序的透明基板而言存在限制。通過濺射工序蒸鍍時，根據氧氣分壓和溫度等條件，透明導電膜的組成發生變化，從而發生薄膜的透射率和阻抗急劇變化的現象。因此，提出了適合低價格化和大型化的利用旋塗、噴塗、沉積塗覆、印刷等溼式塗覆法進行塗覆後煅燒而使用透明導電膜的方法，例如韓國專利公開號第1999-011487號中公開了利用金屬微粒和結合劑的透明導電膜；韓國專利公開號第1999-064113號中公開了氧化錫中添加中空型碳化微纖維製得的透明導電膜用組合物；韓國專利公開號第2000-009405號中公開了氧化錫或氧化銦中添加氧化釹製得的透明導電性光選擇吸收被膜形成用塗覆溶液。此外，日本專利第2003-213441號中公開了有關含有金或銀等金屬微粒的透明導電層形成液的製造方法的內容。通過所述方法製造的透明導電膜的表面阻抗大；且發生根據周圍環境變化而表面阻抗隨時間增加等經時變化，因此存在不能維持初期導電性的問題；透射率低而用作導電膜時受限；還由於複雜而大量的工序而存在生產率降低的問題。
發明內容
本發明的目的在於提供工序簡單，能夠製造電導率、透射率、耐彎曲性及粘接力優異且具有低霧度(Haze)的透明導電膜的透明導電膜的製造方法及通過該方法製造的透明導電膜。本發明提供一種透明導電膜的製造方法，其特徵在於，包括:a)在基材上形成透明複合導電層的步驟，即，形成包含透明導電性氧化物、導電性金屬體和導電性聚合物的有機-無機混合型透明複合導電層的步驟；以及b)將所述透明複合導電層進行乾燥和煅燒的步驟。本發明還提供一種透明導電膜的製造方法，其特徵在於，包括:a)在基材上形成透明複合導電層的步驟，即，形成具有透明導電性氧化物層及包含導電性金屬體和導電性聚合物的有機-無機混合層的透明複合導電層，且與順序無關地形成所述透明導電性氧化物層和所述有機-無機混合的步驟；以及b)將所述透明複合導電層進行乾燥和煅燒的步驟。本發明還提供一種透明導電膜的製造方法其特徵在於，包括:a)在基材上形成透明複合導電層的步驟，即，形成包含透明導電性氧化物層、導電性金屬體層和導電性聚合物層的透明複合導電層，且與順序無關地形成所述透明導電性氧化物層、所述導電性金屬體層和所述導電性聚合物層步驟；以及b)將所述透明複合導電層進行乾燥和煅燒的步驟。本發明還提供通過上述方法製造的透明導電膜。根據本發明可提供工序簡單，能夠製造電導率、透射率、耐彎曲性及粘接力優異且具有低霧度(Haze)的透明導電膜的透明導電膜的製造方法及通過該方法製造的透明導電膜。
圖1是根據本發明實施例1的透明導電膜的結構示意圖。圖2是根據本發明實施例2的透明導電膜的結構示意圖。圖3是根據本發明實施例3的透明導電膜的結構示意圖。
具體實施例方式根據本發明實施例1的透明導電膜的製造方法包括:a)在基材上形成透明複合導電層的步驟，即，形成包含透明導電性氧化物、導電性金屬體和導電性聚合物的有機-無機混合型透明複合導電層的步驟；以及b)將所述透明複合導電層進行乾燥和煅燒的步驟。根據實施例1的透明導電膜如圖1所示，可以由基材及有機-無機混合型透明複合導電層(包含透明導電性氧化物、導電性金屬體、導電性聚合物的層)構成。所述有機-無機混合型透明複合導電層可在能確保透射率的範圍內具備多個。所述a)步驟的所述基材只要是通過塗覆或印刷工序容易形成薄膜或圖案，就可以使用多種的基板。例如，可以使用聚醯亞胺(PI)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚碸(PES)、尼龍(Nylon)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚醚醚銅(PEEK)、聚碳酸酯(PC)、聚芳酯(PAR)等透明塑料膜或玻璃基板。但是基材的種類並不限於此。此外，根據本發明的透明導電膜的製造方法在所述a)步驟之前還可以包括將所述基材進行前處理的步驟。 具體地，可以將所述基材進行水洗及脫脂後使用，或進行特別的前處理而使用，前處理方法例如有等離子體、離子束、電暈、氧化或還原、熱、蝕刻、紫外線(UV)照射以及使用所述粘結劑或添加劑的底漆(primer)處理方法，但並不限於此。所述a)步驟的所述有機-無機混合型透明複合導電層中，透明導電性氧化物可以以片或納米片狀(fkake )包含在所述有機-無機混合型透明複合導電層中。所述透明導電性氧化物可以以厚度900nm以下及直徑IOym以下的片狀添加。優選厚度及直徑為I μ m以下，更優選IOOnm以下，但不限於此。此外，所述導電性金屬體可以以線、杆或纖維形態被包含在所述有機-無機混合型透明複合導電層中。可以使用直徑ΙΟμπι以下的導電性金屬體。優選Iym以下，更優選IOOnm以下,但不限於此。所述a)步驟的所述有機-無機混合型透明複合導電層可以由含有所述透明導電性氧化物、所述導電性金屬體和所述導電性聚合物的I液型有機-無機混合溶液形成。例如，可以由包含透明導電性氧化物溶液、導電性金屬體溶液和導電性聚合物溶液而製造的I液型有機-無機混合溶液形成。具體地，可以由包含透明導電性氧化物分散液、導電性金屬體水溶液和導電性聚合物水溶液的I液型有機-無機混合溶液形成。但不限於此。所述透明導電性氧化物分散液中，所述透明導電性氧化物可以以厚度900nm以下及直徑10 μ m以下的片狀添加分散而成。優選厚度及直徑I μ m以下，更優選IOOnm以下，但不限於此。所述透明導電性氧化物分散液可以將透明導電性氧化物片與溶劑混合，以使透明導電性氧化物片均勻分散在溶劑中而製造。此外，還可以利用通過溶膠凝膠合成法製造納米分散體的方法，以使能夠進行溼式塗覆。在此，溶劑可以使用有機或無機樹脂或醇、水或有機溶劑等溶劑中的一種或它們的混合物。此時，除了溶劑以外還可以添加結合劑及/或分散劑。作為所述結合劑，可以舉出乙基羥乙基纖維素與丙烯酸-丙烯醯胺共聚物的混合物、聚環氧乙烷與聚乙烯醇的混合物、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸酯-甲基丙烯酸酯共聚物、丙烯酸-丙烯醯胺共聚物及丙烯酸-丙烯醯胺共聚物與聚環氧乙烷的混合物。所述分散劑可以主要使用聚羧酸或其衍生物之類的有機化合物。聚羧酸或其衍生物的例子可舉出丙烯酸或甲基丙烯酸的鹼金屬鹽之類的丙烯酸鹽或甲基丙烯酸鹽的均聚物及共聚物；丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯或甲基丙烯酸異丁酯之類的丙烯酸酯或丙烯酸甲酯的均聚物及共聚物。但不限於此。此外，所述透明導電性氧化物分散液除了所述的添加劑以外，根據需要還可以在穩定劑、薄膜助劑、粘結樹脂、表面活性劑、溼潤劑(wetting agent)、觸變劑(thixotropicagent)、流平劑(levelling)及還原劑中的添加劑中進行選擇而添加。所述透明導電性氧化物(TCO, Transparent Conductive Oxide)是指光的透射性高且具有導電性質的物質。所述透明導電性氧化物可以使用例如選自氧化錫(tin oxide, Sn02)、氧化錫銻(antimony tin oxide,ΑΤΟ)、慘氟二氧化錫(fluoro tinoxide,FT0)、氧化鋒(ZnO)、氧化鋒In (aluminum zinc oxide, ΑΖ0)、氧化嫁鋒(GZ0, Gallium Zinc Oxide)、慘硼氧化鋒(ΒΖ0,Boron Zinc 0xide)、SZ0 (Si02_Zn0)、氧化銦(In203)、氧化銦錫(IT0, Indium Tin Oxide)及氧化銦鋅(ΙΖ0，Indium Zinc Oxide)中的一種以上。其中，ITO容易製造具有低阻抗的透明導電膜而優選，但不限於此。所述導電性金屬體水溶液中可添加直徑10 μ m以下的導電性金屬體。優選，I μ m以下；更優選IOOnm以下，但不限於此。還可以添加線、杆或纖維型導電性金屬體。所述導電性金屬體水溶液的所述導電性金屬體可以從銀納米線、金納米線及金-銀合金納米線中選擇使用。具體地，優選使用電導率比較優異、價格低廉且能夠進行大量生產的銀納米線。銀納米線的主材料銀通常是不透明的原料，但是其大小小至納米單位時顯示透明性。特別是，為了在可是光線區域(400 700nm)具有透明性，直徑或厚度在IOOnm以下才能確保透明性。就導電性部分的銀的電阻率的增加而言，當直徑或厚度降低到IOnm以下時，發生電阻率的急劇增大，因此銀納米線的直徑優選IOnm lOOnm。就所述銀納米線而言，主要通過將硝酸銀和聚乙烯比咯烷酮溶解在乙二醇之類的溶劑中，加熱攪拌進行還原的多元醇還原法製造銀納米線，製造水分散狀態的銀納米線水分散液。所述導電性聚合物水溶液中的所述導電性聚合物可以使用選自聚乙塊(polyacetylene)、聚苯胺(polyaniline)、聚卩比咯(polypyrrole)、聚噻吩(poIythiophene)、聚硫化氮(polysulfurnitride)、聚苯硫醚(polyphenylenesulfide)、聚苯撐(polyphenylene)聚呋喃(polyfuran)、聚對苯撐乙烯(polyphenylenevinylene)、聚噻吩乙塊(polythienylenevinylene)、聚(異硫卻)(polyisothianaphthen)、PEDOT (聚乙烯二氧噻吩(polyethylenedioxythiophene)) (PEDOT)及 PED0T/PSS (聚苯乙烯橫酸(poIystyrenesulfonate))中的 I 種以上。其中，PED0T/PSS (poIystyrenesulfonate)的導電性及透明性優異而可以優選使用，但不限於此。所述透明導電性氧化物分散液、導電性金屬體水溶液及導電性聚合物水溶液的製造可以通過在本發明所述領域中公知的方法來製造。所述I液型有機-無機混合溶液還可以包含選自去離子水、有機溶劑和表面活性劑中的I種以上。所述有機溶劑可以為甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇之類的醇類；乙二醇、甘油之類的二元醇類；乙酸乙酯、醋酸丁酯、卡必醇醋酸酯之類的醋酸酯類；二乙醚、四氫呋喃、二P惡烷之類的醚類；甲基乙基酮、丙酮之類的酮類；己烷、庚烷之類的烴類；苯、甲苯之類的芳香族；以及氯仿或二氯甲烷、四氯化碳之類的滷素取代溶劑或它們的混合溶劑，但不限於此。所述表面活性劑可以使用非離子性表面活性劑，例如，所述非離子性表面活性劑可以選自烷氧基化C4 C22-醇、烷基多糖苷、N-烷基多糖苷、N-烷基葡糖醯胺、脂肪酸烷氧基化物、脂肪酸聚乙二醇酯、脂肪酸胺烷氧基化物、任意封端的脂肪酸醯胺烷氧基化物、脂肪酸烷醇醯胺烷氧基化物、N-烷氧基多羥基-脂肪酸醯胺、N-芳氧基多羥基-脂肪酸醯胺、聚異丁烯/馬來酸酐衍生物、脂肪酸甘油酯、脫水山梨糖醇酯、多羥基-脂肪酸衍生物、多烷氧基-脂肪酸衍生物及二甘油脂。具體地，優選使用Dupont公司的產品Zonyl FSO之類的非離子性表面活性劑。但不限於此，只要是本發明所屬領域中公知的非離子性表面活性劑均可以使用。所述I液型有機-無機混合溶液可以通過將所述導電性金屬體溶液和所述導電性聚合物溶液與所述有機溶劑混合的步驟；添加所述透明導電性氧化物溶液混合的步驟；及添加所述去離子水、所述有機溶劑及表面活性劑混合的步驟而製造。用所述I液型有機-無機混合溶液形成所述a)步驟中的所述透明複合導電層的方法可以選自旋(spin)塗、棍(roll)塗、噴塗、浸(dip)塗、流(flow)塗、刮刀(doctor blade)法、點膠(dispensing)、噴墨印刷、膠版印刷、絲網印刷、移印(pad printing)、凹版印刷、柔版(f Iexography)印刷、模版印刷、壓印(imprinting)、靜電印刷(xerography)及平版印刷(lithography)方法。
所述b)步驟的乾燥和煅燒通過熱處理實現。例如在熱處理步驟中通常在80 400°C下進行；優選90 300°C ;更優選100 150°C進行熱處理。或在所述範圍內，在低溫和高溫2階段以上進行熱處理。例如，在80 150°C處理I 30分鐘，在150°C 300°C處理I 30分鐘。以下，在實施例1和實施例3的說明中，對於與實施例1相同的技術內容省略具體說明。根據本發明實施例2的透明導電膜的製造方法包括:a)在基材上形成透明複合導電層的步驟，即，形成具有透明導電性氧化物(TCO, Transparent Conductive Oxide)層及包含導電性金屬體和導電性聚合物的有機-無機混合層的透明複合導電層，且與順序無關地形成所述透明導電性氧化物層和所述有機-無機混合層的步驟；以及b)將所述透明複合導電層進行乾燥和煅燒的步驟。所述透明導電性氧化物層可包含透明導電性氧化物片。根據實施例2的透明導電膜如圖2中所示，可由基材及透明複合導電層構成，其中所述透明複合導電層可由所述透明導電性化合物層及所述有機-無機混合層(含有導電性金屬體、導電性聚合物的層)構成。所述透明導電性氧化物層及所述有機-無機混合層的層疊順序不限於如圖2所示的順序，也可以是所述有機-無機混合層位於所述基材層之上，所述透明導電性氧化物層位於所述有機-無機混合層上。此外，在能確保透射率的範圍內，所述透明導電性氧化物層及所述有機-無機混合層可分別具備多個。以所述透明導電性氧化物層及所述有機-無機混合層的順序層疊時，可以在所述透明導電性氧化物層上形成所述有機-無機混合層之前，將所述透明導電性氧化物層進行開裂(cracking)，在所述透明導電性氧化物層上形成裂紋後，形成所述有機_無機混合層。由於所述透明導電性氧化物層開裂時以片狀(flake)開裂，因此所述透明導電性氧化物層可以以包含透明導電性氧化物片的透明導電性氧化物片層形成。此時，所述開裂的所述透明導電性氧化物層可以以150nm至500nm的厚度形成。所述透明導電性氧化物層的厚度超過150nm時，開裂發生良好，因此需要裂紋時以該範圍形成後進行開裂。此外，所述透明導電性氧化物層由所述透明導電性氧化物溶液形成，所述有機-無機混合層由包含所述導電性金屬體溶液及導電性聚合物溶液而製造的有機-無機混合溶液形成。此時所述透明導電性氧化物溶液可包含透明導電性氧化物片。另外，所述導電性金屬體溶液可包含線、杆或纖維形態的導電性金屬體。例如，所述透明導電性氧化物層由所述透明導電性氧化物分散液形成，所述有機-無機混合層由包含所述導電性金屬體水溶液及導電性聚合物水溶液的有機-無機混合溶液形成。此時，有機-無機混合溶液還可以包含選自去離子水、有機溶劑及表面活性劑中的一種以上。所述有機-無機混合溶液可以通過將所述導電性金屬體溶液及所述導電性聚合物溶液與所述有機溶劑混合的步驟；及添加所述去離子水、所述有機溶劑及表面活性劑進行混合的步驟而製造。所述有機-無機混合溶液塗覆到所述形成裂紋的所述透明導電性氧化物層上時，填埋所述裂紋時能夠起到確保導電性及透射率的作用。與實施例2不同，可以與順序無關地在基材上由包含導電性金屬體及透明導電性氧化物的層形成I層；由導電性聚合物層形成2層。各層的個數在能確保透射率的範圍內可以形成多個。或者，可以與順序無關地在基材上由導電性金屬體層形成I層；由包含導電性聚合物及透明導電性氧化物的層形成2層。各層的個數在能確保透射率的範圍內可以形成多個。根據本發明實施例3的透明導電膜的製造方法包括a)在基材上形成透明複合導電層的步驟，即，形成包含透明導電性氧化物(TCO, Transparent Conductive Oxide)層、導電性金屬體層和導電性聚合物層的透明複合導電層，且與順序無關地形成所述透明導電性氧化物層、所述導電性金屬體層和所述導電性聚合物層的步驟；以及b)將所述透明複合導電層進行乾燥和煅燒的步驟。所述透明導電性氧化物層可包含透明導電性氧化物片，所述導電性金屬體層可包含線、杆或纖維形態的導電性金屬體。此時，根據實施例3的透明導電膜如圖3所示，可由基材及透明複合導電層構成，此時，所述透明複合導電層由所述透明導電性氧化物層、所述導電性金屬體層及所述導電性聚合物層構成。所述透明導電性氧化物層、所述導電性金屬體層及所述導電性聚合物層的層疊順序不限於圖3所示的順序，當然可以將所述3層以多種組合變更層疊順序。此外，在能確保透射率的範圍內，所述透明導電性氧化物層、所述導電性金屬體層及所述導電性聚合物層可以分別具備為多個。以所述透明導電性氧化物層、所述導電性金屬體層及所述導電性聚合物層的順序層疊時，可將所述透明導電性氧化物層進行開裂(cracking)後，在開裂的所述透明導電性氧化物層上形成所述導電性金屬體層。由於所述透明導電性氧化物層開裂時以片(flake)狀開裂，因此所述透明導電性氧化物層可以以包含透明導電性氧化物片的透明導電性氧化物片層形成。後述的導電性金屬體溶液塗覆到形成所述裂紋的所述透明導電性氧化物層上時，能夠填埋所述裂紋，從而能夠起到確保導電性及透射率的作用。此時，所述開裂的所述透明導電性氧化物層可以以150nm至500nm的厚度形成。所述透明導電性氧化物層的厚度超過150nm時，開裂發生良好，因此需要裂紋時以該範圍形成後進行開裂。或者，所述透明導電性氧化物層由透明導電性氧化物溶液形成；所述導電性金屬體層由導電性金屬體溶液形成；所述導電性聚合物層由導電性聚合物溶液形成。此時，所述導電性金屬體溶液可包含線、杆或纖維形態的導電性金屬體。此外，所述透明導電性氧化物溶液可包含透明導電性氧化物片。例如，所述透明導電性氧化物層由透明導電性氧化物分散液形成；所述導電性金屬體層由導電性金屬體水溶液形成；所述導電性聚合物層由導電性聚合物水溶液形成。
此時，所述透明導電性氧化物層的厚度為10 150nm，所述導電性金屬體層的厚度為10 300nm，所述導電性聚合物層的厚度為10 300nm。但不限於此。為了導電性的提高，所述實施例1 3的透明複合導電層還可以包含CNT、CNF、石
墨烯等。以下通過實施例進一步詳細說明本發明，但本發明的範圍不限於此。實施例1I) I液型有機-無機混合溶液在玻璃容器中將5%銀納米線水分散液(直徑30nm，縱橫比彡1000 ) 20g、10%PEDT:PSS水溶液IOg與甲醇20g混合，緩慢攪拌。在此混合10%IT0片(厚度20nm，直徑1口111)分散液1(^，緩慢攪拌。在此添加去離子水IOg和甲醇30g、Zonyl FSO 0.0lg進行緩慢攪拌，得到I液型有機-無機混合溶液。2 )透明基材的前處理透明導電膜用基材使用了 SK公司的SH82 (PET膜)製品，為了增加親水性進行了常壓等離子體處理。氣體流量調節為氮氣2001pm、氧氣41pm，等離子體的放電輸出調節為12kw，並以10mm/S的速度進 行處理。以整數基準接觸角35°進行測定。3)透明導電膜製造將所述I液型有機-無機混合溶液利用旋塗塗覆到作為基材的經過前處理的PET膜上。旋塗條件以IOOOrpm進行5秒，在對流烘箱中150°C下進行3分鐘的乾燥和煅燒。由此得到了由PET膜和有機-無機混合型透明複合導電層構成的透明導電膜(參照圖1)。實施例2I)透明導電性氧化物分散液及有機-無機混合溶液為了形成透明導電性氧化物層，準備了與實施例1中所使用的相同的10%IT0納米片(厚度20nm,直徑I μ m)分散液IOgo 為了形成有機-無機混合層，在玻璃容器中將5%銀納米線水分散液(直徑30nm，縱橫比> 1000) 20g、10%PEDT:PSS水溶液IOg與甲醇20g混合，緩慢攪拌後，在此添加去離子水IOg和甲醇40g、Zonyl FSO 0.0lg進行緩慢攪拌，得到有機-無機混合溶液。2)透明導電膜用基材透明導電膜用基材使用了 SK公司的SH82 (PET膜)製品，為了增加親水性進行了常壓等離子體處理。氣體流量調節為氮氣2001pm、氧氣41pm，等離子體的放電輸出調節為12kw，並以10mm/S的速度進行處理。以整數基準接觸角35°進行測定。3)透明導電膜的製造在作為基材的經過前處理的PET膜上利用旋塗依次塗覆用於形成透明導電性氧化物層的所述10%IT0納米片(厚度20nm，直徑I μ m)分散液及用於形成有機-無機混合層的所述有機-無機混合溶液。旋塗條件以IOOOrpm進行5秒鐘，在對流烘箱中150°C下進行3分鐘的乾燥和煅燒。由此得到了由PET膜、透明導電性氧化物層及有機-無機混合層構成的透明導電膜(參照圖2)。實施例3I)透明導電性氧化物分散液、導電性金屬體水溶液、導電性聚合物水溶液的製造分別準備了與實施例1中所使用的相同的10%IT0納米片(厚度20nm，直徑I μ m)分散液、5%銀納米線水分散液(直徑30nm，縱橫比彡1000)及10%PEDT:PSS水溶液。2)透明導電膜用基材透明導電膜用基材使用了 SK公司的SH82 (PET膜)製品，為了增加親水性進行了常壓等離子體處理。氣體流量調節為氮氣2001pm、氧氣41pm，等離子體的放電輸出調節為12kw，並以10mm/S的速度進行處理。以整數基準接觸角35°進行測定。3)透明導電膜的製造在作為基材的經過前處理的PET膜上利用旋塗依次塗覆用於形成透明導電性氧化物層的所述10%IT0納米片(厚度20nm，直徑ιμπι)分散液、用於形成導電性金屬體層的所述5%銀納米線水分散液(直徑30nm，縱橫比> 1000)及用於形成導電性聚合物層的所述10%PEDT:PSS水溶液。旋塗條件以IOOOrpm進行5秒鐘，在對流烘箱中150°C下進行3分鐘的乾燥和煅燒。由此得到了由PET膜、透明導電性氧化物層、導電性金屬體層及導電性聚合物層構成的透明導電膜 (參照圖3)。
權利要求
1.一種透明導電膜的製造方法，其特徵在於，包括: a)在基材上形成透明複合導電層的步驟，即，形成包含透明導電性氧化物、導電性金屬體和導電性聚合物的有機-無機混合型透明複合導電層的步驟；以及 b)將所述透明複合導電層進行乾燥和煅燒的步驟。
2.根據權利要求1所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述透明導電性氧化物以片狀包含在所述有機-無機混合型透明複合導電層中。
3.根據權利要求1所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述有機-無機混合型透明複合導電層由含有所述透明導電性氧化物、所述導電性金屬體和所述導電性聚合物的I液型有機-無機混合溶液形成。
4.根據權利要求1所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述有機-無機混合型透明複合導電層由I液型有機-無機混合溶液形成，所述I液型有機-無機混合溶液包含透明導電性氧化物溶液、導電性金屬體溶液和導電性聚合物溶液而製造。
5.根據權利要求4所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述I液型有機-無機混合溶液進一步包含選自去離子水、有機溶劑和表面活性劑中的I種以上而製造。
6.根據權利要求5所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述有機-無機混合溶液通過以下步驟而製造:將所述導電性金屬體溶液和所述導電性聚合物溶液與所述有機溶劑混合的步驟；添加所述透明導電性氧化物溶液進行混合的步驟；以及添加所述去離子水、所述有機溶劑和所述表面活性劑進行混合的步驟。
7.—種透明導電膜的製造方法，其特徵在於，包括: a)在基材上形成透明復 合導電層的步驟，即，形成具有透明導電性氧化物層及包含導電性金屬體和導電性聚合物的有機-無機混合層的透明複合導電層，且與順序無關地形成所述透明導電性氧化物層和所述有機-無機混合層的步驟；以及 b)將所述透明複合導電層進行乾燥和煅燒的步驟。
8.根據權利要求7所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，以所述透明導電性氧化物層和所述有機-無機混合層的順序進行層疊時，將所述透明導電性氧化物層進行開裂後，在開裂的透明導電性氧化物層上形成所述有機-無機混合層。
9.根據權利要求8所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述透明導電性氧化物層進行開裂時以片狀進行開裂，從而所述透明導電性氧化物層以包含透明導電性氧化物片的透明導電性氧化物片層的方式形成。
10.根據權利要求7所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述透明導電性氧化物層由透明導電性氧化物溶液形成，所述有機-無機混合層由包含導電性金屬體溶液和導電性聚合物溶液而製造的有機-無機混合溶液形成。
11.根據權利要求10所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述有機-無機混合溶液還包含選自去離子水、有機溶劑和表面活性劑中的I種以上而製造。
12.根據權利要求11所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述有機-無機混合溶液通過以下步驟而製造:將所述導電性金屬體溶液和所述導電性聚合物溶液與所述有機溶劑進行混合的步驟；以及添加所述去離子水、所述有機溶劑和所述表面活性劑進行混合的步驟。
13.—種透明導電膜的製造方法，其特徵在於，包括:a)在基材上形成透明複合導電層的步驟，即，形成包含透明導電性氧化物層、導電性金屬體層和導電性聚合物層的透明複合導電層，且與順序無關地形成所述透明導電性氧化物層、所述導電性金屬體層和所述導電性聚合物層的步驟；以及 b)將所述透明複合導電層進行乾燥和煅燒的步驟。
14.根據權利要求13所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，以所述透明導電性氧化物層、所述導電性金屬體層和所述導電性聚合物層的順序進行層疊時，所述透明導電性氧化物層進行開裂後，在開裂的透明導電性氧化物層上形成所述導電性金屬體層。
15.根據權利要求14所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述透明導電性氧化物層進行開裂時以片狀開裂，從而所述透明導電性氧化物層以包含透明導電性氧化物片的透明導電性氧化物片層的方式形成。
16.根據權利要求13所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述透明導電性氧化物層由透明導電性氧化物溶液形成，所述導電性金屬體層由導電性金屬體溶液形成，所述導電性聚合物層由導電性聚合物溶液形成。
17.根據權利要求13所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述導電性金屬體由包含線、杆或纖維形態的導電性金屬體的導電性金屬體溶液形成。
18.根據權利要求1或7所述 的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述導電性金屬體以線、杆或纖維形態包含在所述有機-無機混合型透明複合導電層中。
19.根據權利要求7或13所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述透明導電性氧化物層由包含透明導電性氧化物片的透明導電性氧化物片溶液形成。
20.根據權利要求4、10和16中任一項所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述透明導電性氧化物溶液包含透明導電性氧化物片。
21.根據權利要求4、10和16中任一項所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述導電性金屬體溶液包含線、杆或纖維形態的導電性金屬體。
22.根據權利要求1、7和13中任一項所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述基材為聚醯亞胺(PI)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚碸(PES)、尼龍(Nylon)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚醚醚銅(PEEK)、聚碳酸酯(PC)、聚芳酯(PAR)或玻璃。
23.根據權利要求1、7和13中任一項所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，在所述a)步驟之前，還包括對所述基材進行前處理的步驟。
24.根據權利要求1、7和13中任一項所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，在所述a)步驟中形成所述透明複合導電層的方法選自旋塗、輥塗、噴塗、浸塗、流塗、刮刀法、點膠、噴墨印刷、膠版印刷、絲網印刷、移印、凹版印刷、柔版印刷、模版印刷、壓印、靜電印刷和平版印刷方法。
25.根據權利要求1、7和13中任一項所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述透明導電性氧化物為選自氧化錫、氧化錫銻、摻氟二氧化錫、氧化鋅、氧化鋅鋁、氧化鎵鋅、摻硼氧化鋅、SiO2-ZnO、氧化銦、氧化銦錫和氧化銦鋅中的一種以上。
26.根據權利要求1、7和13中任一項所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述導電性金屬體為選自銀納米線、金納米線和金-銀合金納米線中的一種以上。
27.根據權利要求1、7和13中任一項所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述導電性聚合物為選自聚乙炔、聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩、聚硫化氮、聚苯硫醚、聚苯撐聚呋喃、聚對苯撐乙烯、聚噻吩乙炔、聚(異硫茚)、聚乙烯二氧噻吩、以及聚乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸中的I種以上。
28.根據權利要求1、7和13中任一項所述的透明導電膜的製造方法，其特徵在於，所述b)步驟的乾燥和煅燒包含熱處理步驟。
29.—種透明 導電膜，是通過權利要求1、7和13中任一項所述的製造方法製造的。
全文摘要
本發明提供透明導電膜的製造方法及通過該方法製造的透明導電膜，所述透明導電膜的製造方法的特徵在於，在基材上形成包含透明導電性氧化物、導電性金屬體和導電性聚合物的透明複合導電層；或在基材上形成包含透明導電性氧化物層、導電性金屬體層和導電性聚合物層的透明複合導電層；或在基材上形成具有透明導電性氧化物層和包含導電性金屬體及導電性聚合物的有機-無機混合層的透明複合導電層。
文檔編號H01B1/22GK103140899SQ201180037660
公開日2013年6月5日 申請日期2011年7月28日 優先權日2010年7月30日
發明者鄭光春, 趙顯南, 柳志勳, 鄭潤浩 申請人:印可得株式會社