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地質結構描述標尺的製作方法

2023-05-06 02:07:11

地質結構描述標尺的製作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種地質結構描述標尺,其能夠準確地比對出巖樣的粒度大小和粒級,降低了粒度描述難度和對人員經驗的依賴,而且結構簡單、操作方便、易於攜帶,而且不會磨損刻度。所述地質結構描述標尺由透明基板和透明蓋板粘合構成,在該透明基板上標刻有圖例區和刻度區,該透明蓋板扣蓋在透明基板的有刻度區和圖例區的一側,在該地質結構描述標尺的透明蓋板拐角處樞設有在透明蓋板上部轉動的放大鏡。
【專利說明】地質結構描述標尺

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及用於地質結構描述的地質結構描述標尺,特別涉及在野外地質露頭考察、巖心描述及井下巖心薄片觀察中對各類巖石的結構進行快速準確的描述的地質結構描述標尺。

【背景技術】
[0002]在野外地質露頭考察、地下巖心柱描述過程及巖心薄片的鏡下觀察過程中,通常會對巖石的粒度、分選度、磨圓度及接觸角度等進行定性或定量的描述。目前對此類描述的方法基本為有地質專業背景的人員進行人工目測,描述結果的不確定性較大,受描述人員的經驗豐富程度影響嚴重。特別是對於顆粒粒度的描述,分級較多較細,即使對於經驗較為豐富的地質專業人士,也難免出現較嚴重偏差。
實用新型內容
[0003]為解決地質描述中的此類問題,本實用新型提供一種地質結構描述標尺,其能夠準確地比對出巖樣的粒度大小和粒級,降低了粒度描述難度和對人員經驗的依賴,而且結構簡單、操作方便、易於攜帶,而且不會磨損刻度。
[0004]具體技術方案如下:
[0005]一種地質結構描述標尺,其特徵在於,所述地質結構描述標尺由透明基板和透明蓋板粘合構成,在該透明基板上標刻有圖例區和刻度區,該透明蓋板扣蓋在透明基板的有刻度區和圖例區的一側,
[0006]在該地質結構描述標尺的透明蓋板拐角處樞設有在透明蓋板上部轉動的放大鏡。
[0007]所述圖例區包括粒度圖例區、分選度圖例區和磨圓度圖例區,該粒度圖例區內的粒度圖例呈圓弧狀分布在地質結構描述標尺的左側;分選度圖例區位於地質結構描述標尺中段上部;磨圓度圖例區位於地質結構描述標尺中段下部,
[0008]所述刻度區包括位於地質結構描述標尺上部且橫向的長度刻度和位於地質結構描述標尺右側的呈半圓狀的角度刻度,
[0009]所述放大鏡由臂部和凸透鏡構成,臂部的一端能夠轉動地固定於透明蓋板,在臂部的自由端安裝有凸透鏡,
[0010]放大鏡轉動中凸透鏡所經過的軌跡與所述粒度圖例重疊。
[0011 ] 在放大鏡的臂部中央兩側形成有卡槽,通過該卡槽與設在透明蓋板上的突起卡珠卡合限制放大鏡的轉動範圍。
[0012]所述放大鏡的臂部和凸透鏡邊緣由耐磨塑料包圍,在凸透鏡下部的耐磨塑料與透明蓋板之間形成有間隙。
[0013]本實用新型能夠獲得以下有益效果:
[0014](I)通過設置可旋轉的放大鏡結構,能夠在比對巖樣時將圖例區和巖樣同時放大,從而即使在巖樣較細時也能夠準確地比對出巖樣的粒度大小和粒級,降低了粒度描述難度和對人員經驗的依賴。
[0015](2)通過利用兩片透明板將刻度區和圖例區夾在中間,能夠對刻度進行保護,防止刻度區和圖例區在使用時磨損。
[0016](3)上述地質結構描述標尺集多種測量於一身,方便地質描述工作的有效進行。
[0017](4)上述地質結構描述標尺結構簡單、操作方便、易於攜帶。
[0018](5)由於利用耐磨塑料包圍了放大鏡,所以有效地保護了放大鏡,並且通過形成間隙,放大鏡轉動過程中劃傷蓋板,保證了透明蓋板下粒度圖例的清晰度。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]圖1是本實用新型的地質結構描述標尺的主視圖。
[0020]圖2是本實用新型的地質結構描述標尺的放大鏡處的剖視圖。
[0021]標號說明
[0022]1:粒度圖例區;
[0023]2:分選度圖例區;
[0024]3:磨圓度圖例區;
[0025]4:角度刻度;
[0026]5:長度刻度;
[0027]6:放大鏡;
[0028]61:臂部;
[0029]62:凸透鏡;
[0030]63:卡槽;
[0031]64:轉軸;
[0032]65:間隙;
[0033]7:突起卡珠:
[0034]8:透明基板;
[0035]9:透明蓋板。

【具體實施方式】
[0036]以下,參照圖1和圖2對本實用新型的地質結構描述標尺(以下,也簡稱為「標尺」)優選的實施方式進行說明。
[0037]本實施方式的地質結構描述標尺由透明基板8和透明蓋板9粘合構成,該透明基板8和透明蓋板9例如是塑料或有機玻璃等。在透明基板8上標刻有如圖1所示的各種刻度區和圖例區。透明蓋板9扣蓋在上述透明基板8的有刻度區和圖例區的一側。從而,透明基板8和透明蓋板9將用於測量巖樣的各種刻度和圖例夾在中間,使它們免於在使用中磨損。
[0038]通過將該標尺覆蓋在巖樣上,對巖樣和標尺上的刻度區和圖樣區進行比對,來對巖樣進行地質結構描述。
[0039]如圖1所示,所述圖例區包括:
[0040]粒度圖例區1,其呈圓弧狀分布在地質結構描述標尺的左側,將巖樣大小與粒度圖例區I中圓形顆粒大小做比較,根據大小相似的圓形顆粒對應的刻度來確定巖樣中顆粒的大小(礫巖(粒度大於2毫米)、巨砂巖、粗砂巖、中砂巖、細砂巖、粉砂巖及泥巖(粒度小於0.125暈米)等);
[0041]分選度圖例區2,其位於標尺中段上部,透過分選度圖例區2觀察巖樣中顆粒,並將其顆粒大小分布情況與分選圖例做比較,根據比較結果可定性判斷巖樣的顆粒分選度(極好、好、中、差、極差等);
[0042]磨圓度圖例區3,其位於標尺中段下部,將巖樣與標尺的磨圓度圖例區3做比較,可定性判斷巖樣的磨圓度(尖稜角狀、稜角狀、次稜角狀、次圓狀、圓狀、滾圓狀等)。
[0043]所述刻度區包括所述刻度區包括位於地質結構描述標尺上部且橫向的長度刻度4和位於地質結構描述標尺右側的呈半圓狀的角度刻度5。
[0044]本實用新型的地質結構描述標尺集多種測量於一身,方便地質描述工作的有效進行。
[0045]另外,在本實施方式中,在粒度圖例I上方還設置有放大鏡6,下面參照圖1和圖2對其進行更詳細的說明。
[0046]粒度圖例區I內的粒度圖例呈圓弧狀分布,在本實施方式中,從上至下,粒度圖例逐漸變大。
[0047]在粒度圖例所在區域的透明蓋板9上樞設有放大鏡6,該放大鏡6由臂部61和凸透鏡62構成。
[0048]臂部61的一端通過轉軸64固定於透明蓋板9,並且臂部61能夠以轉軸64為中心旋轉。轉軸64位於上述粒度圖例區I中的圓弧狀分布的圖例的圓心位置。臂部61的另一端為自由端,並安裝有凸透鏡62,凸透鏡62處於粒度圖例區I之上,用於將圖例放大。從而當凸透鏡62隨著臂部61轉動時,凸透鏡62的旋轉軌跡與粒度圖例區I重疊。
[0049]從而,工作人員可以通過轉動放大鏡6來針對性地放大粒度圖例區I中的圖例。這樣,在判斷巖樣粒度時,利用放大鏡能夠將粒度圖例區I中的粒度圖例和粒度圖例下的巖樣同時放大,即使在巖樣較細時也能夠準確地比對出巖樣的粒度大小和粒級,降低了粒度描述難度和對人員經驗的依賴。
[0050]另外,在放大鏡6的臂部61的兩側形成有卡槽63。當放大鏡6旋轉到粒度最小或粒度最大的位置時,上述卡槽63分別與設於透明蓋板9上的突起卡珠7卡合。從而限制了放大鏡6的轉動範圍。從而,有效地保護了放大鏡6。
[0051]在放大鏡6的臂部61和凸透鏡62邊緣由耐磨塑料包圍,這也保護了放大鏡6免於磨損。同時,在凸透鏡62下部的耐磨塑料與透明蓋板9之間(粒度圖例區I正上方)形成有間隙65 (例如,I毫米高),以防止放大鏡6轉動過程中劃傷透明蓋板9,保證了蓋板9下粒度圖例區I的清晰度。
[0052]另外,上述實施方式只是用於實施本實用新型的一個例子,不用於具體限定本實用新型的範圍,其中的結構存在各種變更。例如,地質結構描述標尺中所包含的各種刻度區和圖例區不限於上述實施方式,也並非必須包括所有刻度和圖例,技術人員可以根據需要進行選擇。而且放大鏡的結構不限於以上旋轉結構,只要能夠將圖例和圖例下的巖樣放大即可,可以是固定於透明板且覆蓋所有刻度的結構,也可以是以其他方式移動來具體放大某一區域刻度的結構。另外,也可以在其他的刻度區或圖例區設置放大鏡,或者使放大鏡能夠對全部的刻度區和圖例區進行放大。
【權利要求】
1.一種地質結構描述標尺,其特徵在於,所述地質結構描述標尺由透明基板和透明蓋板粘合構成,在該透明基板上標刻有圖例區和刻度區,該透明蓋板扣蓋在透明基板的有刻度區和圖例區的一側, 在該地質結構描述標尺的透明蓋板拐角處樞設有在透明蓋板上部轉動的放大鏡。
2.根據權利要求1所述的地質結構描述標尺,其特徵在於, 所述圖例區包括粒度圖例區、分選度圖例區和磨圓度圖例區,該粒度圖例區內的粒度圖例呈圓弧狀分布在地質結構描述標尺的左側;分選度圖例區位於地質結構描述標尺中段上部;磨圓度圖例區位於地質結構描述標尺中段下部, 所述刻度區包括位於地質結構描述標尺上部且橫向的長度刻度和位於地質結構描述標尺右側的呈半圓狀的角度刻度, 所述放大鏡由臂部和凸透鏡構成,臂部的一端能夠轉動地固定於透明蓋板,在臂部的自由端安裝有凸透鏡, 放大鏡轉動中凸透鏡所經過的軌跡與所述粒度圖例重疊。
3.根據權利要求2所述的地質結構描述標尺,其特徵在於, 在放大鏡的臂部中央兩側形成有卡槽,通過該卡槽與設在透明蓋板上的突起卡珠卡合限制放大鏡的轉動範圍。
4.根據權利要求2或3所述的地質結構描述標尺,其特徵在於, 所述放大鏡的臂部和凸透鏡邊緣由耐磨塑料包圍,在凸透鏡下部的耐磨塑料與透明蓋板之間形成有間隙。
【文檔編號】G01B5/24GK204255806SQ201420675862
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2014年11月6日 優先權日:2014年11月6日
【發明者】高嚴, 李保柱, 田昌炳, 朱怡翔, 張為民, 宋本彪, 錢其豪, 李水靜 申請人:中國石油天然氣股份有限公司

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