光記錄再現方法、光記錄介質的製作方法

2023-04-27 09:27:41 2

專利名稱：光記錄再現方法、光記錄介質的製作方法
技術領域：
本發明涉及對具有多層記錄再現層的光記錄介質的光記錄再現方法等。
背景技術：
在現有技術中，為了視聽數字動畫內容或記錄數字數據，廣泛利用著CD-DA、 CD-ROM、CD-R、CD-RW、DVD-ROM、DVD-R、DVD+/-RW、DVD-RAM、Blu-ray Disc(BD)等光記錄介質。其中，就所謂下一代DVD標準之一的BD而言，將用於記錄再現的雷射的波長縮短至 405nm,將物鏡的數值孔徑設定為0. 85。就符合BD標準的光記錄介質而言，以0. 32 μ m的間距形成軌道。這樣，通過光記錄介質上的1層記錄再現層，能夠實現25GB以上的記錄再現。然而，預計今後動畫或數據的容量會日益增大。因此，正研究著如下方法使光記錄介質採用多層的記錄再現層，從而使光記錄介質的容量增大。關於BD標準的光記錄介質，也已提出了如下技術設置6層 8層的記錄再現層，以此實現都達到200GB的超大容量(參照非專利文獻1、2)。另一方面，就光記錄介質採用多層記錄再現層而言，在各記錄再現層上形成有凹槽(groove)/平臺(land)等循軌控制(tracking control)用凹凸，所以每設置各層都必須使用用於形成該凹凸的作為母版的壓模。因此，其層數越多則該壓模的使用次數越多，所以可能會使製造成本增大。於是，近年來提出了如下技術在光記錄介質上分別獨立地設置伺服層和記錄再現層，一邊利用伺服專用雷射從伺服層獲取循軌信號，一邊利用記錄用雷射在記錄再現層上記錄信息(參照專利文獻1、2、3)。若採用這個技術，則各記錄再現層不再需要用於賦予循軌信息的凹凸(溝槽)，所以在製造時也無需使用記錄再現層用壓模，從而能夠大幅度地降低成本。現有技術文獻專利文獻專利文獻1 JP特開2008-97693號公報專利文獻2 JP特開2008-97694號公報專利文獻3 JP特開2008-108383號公報非專利文獻非專利文獻1 I. Ichimura et. al.，Appl. Opt，45，1974-1803 (2006)非專利文獻2 :Κ· Mishima et. al,, Proc. of SPIE,6282,628201 (2006)發明要解決的課題在專利文獻1、2、3所記載的光記錄介質中，為了在記錄完信息後，只利用形成於記錄再現層上的記錄標記的信息就能夠進行再現，作為各數據而記錄有地址信息和內容信
肩、^^ ο然而，要使記錄再現層的層數增多，則存在如下問題必須參照所有記錄再現層， 對各記錄再現層都分別確認某一處是否已記錄結束，所以再現前的尋道(seek)動作所需的時間變長。進而，在對記錄再現層進行記錄的情況下，也存在如下問題必須參照所有記錄再現層來確認在某一記錄再現層的某一地址上能否進行追加記錄，所以記錄前的準備所需的時間變長。

發明內容
本發明是鑑於上述問題而提出的，其目的在於，提供一種針對具有伺服層和記錄再現層的光記錄介質迅速地取得必要的記錄再現層信息以縮短再現時及追加記錄時的尋道時間的技術。用於解決課題的手段通過本發明的發明者們的專心研究，利用如下手段來實現了上述目的。S卩，用於實現上述目的的本發明是一種光記錄再現方法，利用伺服用光束照射上述伺服層來進行循軌控制，同時利用記錄再現用光束照射上述記錄再現層來進行信息記錄，上述光記錄介質包括不具有再現循軌控制用凹凸的平面結構的多層記錄再現層、形成有循軌控制用凹凸的伺服層，其特徵在於，當在上述記錄再現層上記錄信息時，在上述伺服層上記錄對上述記錄再現層的下一次記錄再現所需的管理信息，當對上述記錄再現層進行下一次以後的記錄再現時，參照上述伺服層上的上述管理信息。用於實現上述目的的光記錄再現方法的特徵在於，在上述發明中，在上述伺服層上所記錄的上述管理信息包括上述記錄再現層的內容信息、出錯信息、追加記錄相關信息中的至少一種信息。用於實現上述目的的光記錄再現方法的特徵在於，在上述發明中，利用對上述伺服層進行循軌控制的上述伺服用光束，在上述伺服層上記錄上述管理信息。用於實現上述目的的光記錄再現方法的特徵在於，在上述發明中，利用對上述記錄再現層進行記錄再現的上述記錄再現用光束，在上述伺服層上記錄上述管理信息。用於實現上述目的的光記錄再現方法的特徵在於，在上述發明中，將上述記錄再現用光束的波長設定為與上述伺服用光束的波長大致相等。用於實現上述目的的光記錄再現方法的特徵在於，在上述發明中，將上述記錄再現用光束的波長設定為比上述伺服用光束的波長短。用於實現上述目的的光記錄再現方法的特徵在於，在上述發明中，將上述伺服層設置在比上述記錄再現層更遠離光入射面的一側，並使上述記錄再現層對上述伺服用光束具有透光特性，利用上述伺服用光束透過上述記錄再現層來照射上述伺服層，由此進行循軌控制。用於實現上述目的的光記錄再現方法的特徵在於，在上述發明中，將上述伺服層和與該伺服層相鄰的上述記錄再現層之間的層間距離，設定為多個上述記錄再現層的層間距離中的任一層間距離相等。用於實現上述目的的光記錄再現方法的特徵在於，在上述本發明中，將上述伺服層上的軌道間距設定為想要記錄在上述記錄再現層上的軌道間距的2倍。用於實現上述目的的光記錄再現方法的特徵在於，在上述發明中，將上述伺服層設置在比上述記錄再現層更靠近光入射面的一側，並使上述伺服層對上述記錄再現用光束具有透光特性，利用上述記錄再現用光束透過上述伺服層照射上述記錄再現層，由此進行記錄或再現。 用於實現上述目的的本發明是一種光記錄介質，包括不具有循軌控制用凹凸的平面結構的多層記錄再現層、形成有循軌控制用凹凸的伺服層，而且，在利用上述伺服層來進行循軌控制的同時，在上述記錄再現層上記錄信息，其特徵在於，上述伺服層具有伺服側管理信息記錄區域，該伺服側管理信息記錄區域是指，當在上述記錄再現層上記錄信息時，記錄對該記錄再現層的下一次以後的記錄再現所需的管理信息的伺服側的區域。用於實現上述目的的光記錄介質的特徵在於，在上述發明中，在上述伺服側管理信息記錄區域上能夠記錄的上述管理信息包含上述記錄再現層的內容信息、出錯信息、追加記錄相關信息中的至少一種信息。發明效果若採用本發明，則能夠迅速獲取必要的記錄再現層信息，所以能夠縮短再現時及追加記錄時的尋道時間。


圖1是示出了對本發明實施方式的光記錄介質進行記錄再現的光讀寫頭的結構的框圖。圖2是示出了上述光記錄介質的疊層結構的剖視圖。圖3是局部放大示出了上述光記錄介質的伺服層的立體圖。圖4A及圖4B是放大示出了上述光記錄介質的疊層結構和記錄步驟的剖視圖。圖5是示出了本發明實施方式的其他例的光記錄介質的疊層結構的剖視圖。
具體實施例方式下面，參照附圖，對本發明實施方式進行說明。圖1示出了本發明實施方式的光記錄介質10、用於對該光記錄介質10進行記錄再現的光讀寫頭90的結構。光讀寫頭90具有第一光學系統100和第二光學系統200。第一光學系統100是對光記錄介質10的記錄再現層組14進行記錄再現的光學系統。第二光學系統200是指，在第一光學系統100對記錄再現層組14記錄信息時，利用後述的伺服層18 來進行循軌控制的光學系統。從第一光學系統100的光源101出射且具有相對短的藍色波長380 450nm(在此為405nm)的發散光束170，透過具有球面像差修正單元193的準直透鏡153，並透過第二光學系統200的波長選擇濾光片260後入射至偏振分束器152。入射至偏振分束器152的光束170透過偏振分束器152，進而透過1/4波片IM而變換為圓偏振光，然後被物鏡156 變換為會聚光束。該光束170會聚於在光記錄介質10的內部所形成的多層記錄再現層組 14中任一層記錄再現層上。物鏡156的口徑受到光闌155的限制，其數值孔徑NA為0. 70 0. 90 (在此為 0. 85)。例如，被記錄再現層組14反射的光束170透過物鏡156、1/4波片154，變換為與往路相差90度的直線偏振光，然後被偏振分束器152反射。此外，該偏振分束器152具有波長選擇特性，反射來自第一光學系統100的光源101的光束170，而始終使後述的第二光學系統200的具有相對長的紅色波長的光束270透過。被偏振分束器152反射的光束170透過聚光透鏡159而變換為會聚光，並經由柱面透鏡157入射至光檢測器132。光束170在透過柱面透鏡157時被賦予像散 (astigmatism)0光檢測器132具有未圖示的4個受光部，各受光部分別輸出與接收到的光量相對應的電流信號。利用這些電流信號來能夠生成如下信號，即，藉助像散法來測得的聚焦誤差 (下面，稱之為「FE」)信號、藉助只限於再現時的推挽方式(push-pull method)來測得的循軌誤差(下面，稱之為「TE」)信號、在光記錄介質10上記錄的信息的再現信號等。將FE 信號及TE信號放大至所期望的電平以及接受相位補償，然後反饋至致動器(actuator) 191 及192來執行聚焦控制及循軌控制。此外，只在再現時利用藉助第一光學系統100的循軌控制。第二光學系統200的光源201出射的波長為630 680nm(在此為650nm)的紅色發散光束270，透過具有球面像差修正單元四3的準直透鏡253，併入射至偏振分束器252。 入射至偏振分束器252的光束270透過偏振分束器252，進而透過第二光學系統用的1/4波片2M而變換為圓偏振光，然後被波長選擇濾光片260反射，並透過與第一光學系統100共享的偏振分束器152。該光束270進而被物鏡156變換為會聚光束，會聚於在光記錄介質10 的內部形成的伺服層18上。被伺服層18反射的光束270透過物鏡156及偏振分束器152 後被第二光學系統200的波長選擇濾光片沈0反射，並在1/4波片2M變換為與往路相差 90度的直線偏振光，然後被偏振分束器252反射。被偏振分束器252反射的光束270透過聚光透鏡259而變換為會聚光，並經由柱面透鏡257入射至光檢測器232。光束270在透過柱面透鏡257時被賦予像散。光檢測器232具有未圖示的4個受光部，各受光部分別輸出與接收到的光量相對應的電流信號。利用這些電流信號來能夠生成如下信號，即，藉助像散法來測得的聚焦誤差 (FE)信號、藉助推挽方式來測得的循軌誤差(TE)信號。此外，在伺服層18上也記錄有信息的情況下，也能夠生成再現信號。在利用第一光學系統100對記錄再現層組14記錄信息時，將第二光學系統200的 TE信號放大至所期望的電平以及進行相位補償，然後反饋至致動器191及192來進行循軌控制。其結果，基於第二光學系統200的循軌控制，第一光學系統100對記錄再現層組14 記錄信息。此外，在本實施方式中，當對已記錄在記錄再現層組14中的信息進行再現時，第一光學系統100利用記錄再現層組14上的記錄標記來獨自進行循軌控制。另一方面，當然也可以利用該第二光學系統200的循軌控制來進行再現。圖2放大示出了本實施方式的光記錄介質10的剖面結構。光記錄介質10採用外徑約為120mm且厚度約為1. 2mm的圓盤形狀。該光記錄介質10從光入射面IOA側起依次具有覆蓋層11、記錄再現層組14及中間層組16、間隔層17、 伺服層18、支撐基板12。 在本實施方式中，記錄再現層組14具有第一 第六記錄再現層14A 14F，分別採用能夠記錄信息的結構。該第一 第六記錄再現層14A 14F採用不具有循軌控制用凹凸的平面結構，若從第一光學系統100向該平面結構照射高能量的記錄用光束170，則在該平面結構上形成記錄標記。此外，該記錄再現層組14的種類，有雖能夠追加記錄信息但無法擦寫的寫一次型記錄再現層和能夠擦寫信息的可擦寫型記錄再現層。支撐基板12是厚度為1. Omm且直徑為120mm的圓盤形狀的基板，用於確保光記錄介質應具備的厚度(約1. 2mm)，在該支撐基板12的光入射面IOA—側的面上形成有伺服層 18。具體地說，在支撐基板12的光入射面IOA —側，從其中心部附近向外緣部以螺旋狀形成有平臺18A及凹槽18B。該平臺18A及凹槽18B成為循軌控制用凹凸(溝槽)，用於引導第二光學系統200的光束270。此外，支撐基板12可以採用各種各樣的材料，例如，可以採用玻璃、陶瓷、樹脂。從成型容易的觀點來看，在這些材料中應優先採用樹脂。樹脂可以採用聚碳酸酯樹脂、烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、矽樹脂、氟類樹脂、ABS 樹脂、聚氨酯樹脂等。從可加工性等觀點來看，在這些樹脂中，應更優先採用聚碳酸酯樹脂或烯烴樹脂。此外，支撐基板12不會成為光束270的光路，所以該支撐基板12沒有必要具有高的透光特性。通過在支撐基板12的表面上形成記錄層，來在支撐基板12上形成伺服層18。因此，該伺服層18成為具有循軌控制用凹凸(平臺18A及凹槽18B)的記錄層，如果利用第二光學系統200來照射高能量的光束270，則化學或物理特性發生變化，從而使光反射率發生變化，由此實現信息記錄。理所當然地，伺服層18也發揮循軌控制用光反射膜的功能。此外，記錄層的種類不受特殊的限定，例如可以是使用無機材料、有機色素材料等的記錄層。 另外，就記錄層的記錄技術而言，也可以適當採用寫一次型或可擦寫型等技術。在伺服層18上形成有伺服側管理信息記錄區域，該伺服側管理信息記錄區域用於記錄對記錄再現層組14的記錄再現所需的管理信息。記錄於該伺服側管理信息記錄區域的管理信息包括向記錄再現層組14記錄了信息的結果；對記錄再現層組14的下一次記錄再現所需的信息。管理信息例如為，在記錄再現層組14上所記錄的數據的內容信息、 數據記錄時的出錯信息等追加記錄相關信息。尤其是，在該管理信息所包含的信息上，還賦予有表示該信息為與記錄再現層組14的哪一記錄再現層相關的信息的事項。其結果，在下一次記錄再現時，通過參照伺服層18的伺服側管理信息記錄區域，能夠快速檢測到某一記錄再現層處於什麼樣的狀態。附帶說一下，該伺服層18除了具有伺服側管理信息記錄區域之外，還可以與該伺服側管理信息記錄區域相獨立的伺服側數據記錄區域。可以將該伺服側數據記錄區域用作為與記錄再現層組14上的數據記錄區域同樣的一般的用於記錄數據的區域。此外，在對伺服層18記錄管理信息等的情況下，一邊利用第二光學系統200的紅色波長區域的光束270照射伺服層18來進行循軌，一邊利用該紅色波長區域的光束270來對伺服層18上的平臺18A及/或凹槽18B進行信息記錄。也可以使伺服層18上的記錄間距與記錄再現層組14上的記錄間距相同。理所當然地，也可以利用第一光學系統100的藍色波長區域的記錄用光束170照射該伺服層18上的平臺18A凹槽18B來進行記錄。在本實施方式中，伺服層18上的平臺18A及凹槽18B的軌道間距Pl設定為小於 0. 74 μ Hi0其中，該軌道間距Pl是指，相鄰的平臺18Α彼此之間的距離，或相鄰的凹槽18Β 彼此之間的距離。具體地說，優先將軌道間距Pl設定在0. 6 μ m 0. 7 μ m的範圍內，更優先設定為0. 64 μ m左右。另一方面，在記錄再現層14A 14F上所記錄的記錄標記的軌道間距P2設定為平臺18A及凹槽18B的軌道間距Pl的一半(1/2)的值。即，記錄標記間的軌道間距P2設定為小於0. 37 μ m,優先設定在0. 30 μ m 0. 35 μ m的範圍內，更優先設定為0. 32 μ m左右。其結果，記錄在記錄再現層14A 14F上的軌道間距P2變為與BD標準具有兼容性的0. 32 μ m左右。另一方面，若採用伺服層18上的平臺18A之間/凹槽18B之間的間距 Pl (0. 64 μ m左右)，則即時利用相對長的紅色波長區域的光束270也足夠能夠實現循軌。雖後面詳細敘述，但在本實施方式中，利用平臺18A和凹槽18B這兩者來進行循軌，所以記錄於記錄再現層14A 14F上的記錄標記的循軌間距P2顯然為伺服層18上的間距Pl的一半的值即0. 32 μ m左右。即使不縮小伺服層18上的間距，也能夠使記錄再現層組14的記錄標記的軌道間距縮小一半，所以能夠容易地使記錄容量增大。進而，在伺服層18上，以預格式化(pre-format)的方式記錄應預先在媒體製造時保持的基本信息，如記錄再現層組14的地址信息、包括記錄再現功率等的記錄條件、記錄再現層14A 14F的位置或層間距離等。另外，如在圖3中放大示出那樣，在平臺18A或凹槽18B，具有以規定的周期沿著徑向以正弦波狀彎曲延伸的抖動軌道(wobble) 18W。利用該抖動軌道18w的相位變化，向平臺18A或凹槽18B嵌入有地址信息、時鐘信息(timing clock)。雖下面再敘述詳細內容，但該平臺18A、凹槽18B、抖動軌道18W是在射出成形支撐基板12時同時形成的。此外，在本實施方式中，示出了利用抖動軌道18W等來以預格式化方式在伺服層18上記錄基本信息的情形，但本發明並不僅限定於此，也可以通過其他方法來在製造時向伺服層18嵌入基本信息。另外，如已說明過那樣，在相當於伺服側管理信息記錄區域的平臺18A及凹槽18B這兩者上，形成有與管理信息向對應的記錄標記18F。間隔層17由具有透光特性的丙烯酸類紫外線固化樹脂構成，在本實施方式中，將其膜厚設定為90 μ m。在間隔層17的光入射面IOA —側所層疊的第一 第六記錄再現層14A 14F，分別採用在寫一次型記錄膜的兩外側層疊有介電膜的3層結構(省略圖示)。此外，就該第一 第六記錄再現層14A 14F而言，這些記錄再現層對於第一光學系統100的藍色波長區域(短波長)的光束170的光反射率、吸收率、透過率等得以優化，另一方面，能夠使第二光學系統200的紅色波長區域(長波長)的光束270充分地透過。各記錄再現層的介電膜除了保護寫一次型記錄膜的基本功能之外，還發揮使在形成記錄標記之前和之後的光學特性之差擴大的作用。此外，在照射了光束170的情況下，若被介電膜吸收的能量多，則容易使記錄靈敏度降低。因此，為了防止這樣的問題，這些介電膜優先選用在380nm 450nm(尤其是405nm) 的波長區域內具有低吸收係數(k)的材料。此外，在本實施方式中，作為介電膜的材料採用 Ti02。夾在介電膜之間的寫一次型記錄膜是用於形成不可逆的記錄標記的膜，形成有記錄標記的部分和此外的部分(空白區域)對光束170的反射率大不相同。其結果，能夠對數據進行記錄再現。此外，該寫一次型記錄膜也在循軌用的第二光學系統200的光束270 的紅色波長區域內具有高透光性。寫一次型記錄膜的主要成分為含有Bi及0的材料。該寫一次型記錄膜發揮無機反應膜的功能，因接收雷射的熱量而發生化學變化或物理變化，使得在發生變化前後的反射率大不相同。作為其具體的材料，優先將Bi-O作為主要成分，或者將Bi-M-0(其中，M是選自 Mg、Ca, Y、Dy、Ce、Tb、Ti、Zr、V、Nb、Ta, Mo、W、Mn、Fe、Zn、Al、In、Si、Ge、Sn、Sb、Li、Na、 K、Sr、Ba、Sc、La、Nd、Sm、Gd、Ho、Cr、Co、Ni、Cu、Ga、Pb 中的至少一種元素)作為主要成分。
此外，在本實施方式中，作為寫一次型記錄膜的材料採用Bi-Ge-0。此外，在此，示出了第一 第六記錄再現層14A 14F採用寫一次型記錄膜的情形，但也可以採用能夠實現反覆記錄的相變記錄膜。在這樣的情況下的相變記錄膜優先將釙TeGe作為主要成分。中間層組16從離光入射面IOA遠的一側起依次具有第一 第五中間層16A 16E，這些中間層分別層疊在第一 第六記錄再現層14A 14F之間。各中間層16A 16E 由丙烯酸類或環氧類的紫外線固化樹脂構成。該中間層16A 16E的膜厚分別為第一中間層16A為16μπι;第二中間層16Β為12μπι;第三中間層16C為16 μ m ；第四中間層16D為 12μm;第五中間層16E為16μm。也就是說，交替層疊有兩種膜厚(16 μ m、12 μ m)的中間層。其結果，就第一 第六記錄再現層14A 14F的層間距離而言，從光入射面一側起依次交替地設定有第一距離(16μπι)及與該第一距離不同的第二距離(12μπι)。另外，將第一距離和第二距離之差設定為4 μ m。覆蓋層11也與中間層組16同樣地由具有透光特性的丙烯酸類紫外線固化樹脂構成，而且其膜厚設定為38 μ m。光記錄介質10如上所述那樣構成，其結果，伺服層18位於與光入射面IOA相距 0. 2mm(200 μ m)處，而且，在記錄再現層組14中離光入射面IOA最遠的第一記錄再現層14A 位於與光入射面IOA相距0. Ilmm(IlOym)處，離光入射面IOA最近的第六記錄再現層14F 位於與光入射面IOA相距38 μ m處。另外，記錄再現層組14整體的厚度(第一記錄再現層 14A 第六記錄再現層14F之間的距離)為72 μ m。另外，在本實施方式的光記錄介質10中，伺服層18配置在比記錄再現層組14更遠離光入射面IOA的位置。因此，能夠減弱循用於軌控制的平臺18A及凹槽18B對於照射至記錄再現層組14上的記錄再現用光束170的不良影響。接下來，對本實施方式的光記錄介質10的製造方法進行說明。首先，通過使用金屬壓模的聚碳酸酯樹脂的射出成型法，製作出形成有平臺18A 或凹槽18B的支撐基板12。利用射出成形模具，以預格式化方式在該支撐基板12上記錄應預先在媒體製造時保持的基本信息，如記錄再現層組14的地址信息、包括記錄再現功率等的記錄條件、記錄再現層14A 14F的位置或層間距離等。具體地說，利用平臺18A或凹槽 18B的抖動軌道(wobble) 18W，以預成形(preform)方式記錄基本信息。此外，支撐基板12 的製作並不僅限定於射出成型法，也可以通過2P法或其他方法來製作。然後，在支撐基板12的設有凹槽及平臺的一側的表面上形成伺服層18。例如通過濺射法等來形成使用無機材料的記錄層，由此形成該伺服層18。進而，在伺服層18之上形成間隔層17。例如，通過旋塗法等來將調整過粘度的丙烯酸類或環氧類的紫外線固化樹脂塗敷成膜，並利用紫外線照射該膜以使其固化，由此形成間隔層17。此外，也可以採用由透光樹脂而成的透光片來代替紫外線固化樹脂，並使用粘接劑或膠黏劑等來將該透光片粘貼在伺服層18之上，由此形成間隔層17。其結果，伺服層18具有用於對記錄再現時所需的管理信息進行記錄的伺服側管理信息記錄區域。接下來，形成第一記錄再現層14A。具體地說，通過氣相生長法來依次形成介電膜、寫一次型記錄膜、介電膜。其中，優先採用濺射法。然後，在第一記錄再現層14A之上形成第一中間層16A。例如，通過旋塗法等來將調整過粘度的紫外線固化樹脂塗敷成膜，然後利用紫外線照射該紫外線固化樹脂以使其固化，由此形成第一中間層16A。通過重複執行該步驟，依次層疊第二記錄再現層14B、第二中間層16B、……。若到第六記錄再現層14F為止形成完畢，則在其上形成覆蓋層11，由此完成該光記錄介質10。其中，例如，通過旋塗法等來將調整過粘度的丙烯酸類或環氧類的紫外線固化樹脂塗敷成膜，並利用紫外線照射該膜以使其固化，由此形成覆蓋層11。此外，在本實施方式中對上述製造方法進行了說明，但本發明並不特別限定於上述製造方法，而也可以採用其他製造技術。接下來，參照圖4A及圖4B，說明利用光讀寫頭90來對光記錄介質10進行信息的記錄再現的光記錄再現方法。在該光記錄介質10上記錄信息的情況下，首先，利用第二光學系統200的紅色波長區域的記錄用光束270來照射伺服層18，讀取在伺服側管理信息記錄區域所記錄的管理信息。其結果，在光讀寫頭90側，能夠以與各記錄再現層14A 14F相對應的狀態，一同取得對記錄再現層組14進行信息的記錄再現所需的信息，如光束170的功率信息、記錄再現層組14的位置信息、與層間距離相關的規則、地址信息、內容信息、出錯信息、追加記錄相關信息等。因此，在進行信息的追加記錄的情況下，能夠預先識別應該從哪一記錄再現層的哪一位置開始進行記錄。此外，在此，假設能夠對第一記錄再現層14A進行追加記錄。接下來，利用第一光學系統100的藍色波長區域的記錄用光束170照射第一記錄再現層14A。此時，利用第二光學系統200的紅色波長區域的光束270照射伺服層18來進行循軌。具體地說，如圖4A所示，利用光束270的光點照射伺服層18上的平臺18A (參照圖4B)、凹槽18B(參照圖4A)來進行循軌。其結果，能夠一邊利用伺服層18上的平臺18A 和凹槽18B這兩者來進行循軌，一邊在第一記錄再現層14A上記錄信息。其結果，在記錄再現層14A上所記錄的記錄標記的軌道間距P2成為伺服層18上的軌道間距Pl的1/2。接著，在必要信息的記錄結束後，將包含這次的追加記錄相關信息(與記錄相關的地址信息、內容信息、出錯信息等)的記錄再現層的管理信息記錄在伺服層18側的伺服側管理信息記錄區域並結束動作。下一次進行記錄再現時參照該管理信息。此外，在對伺服層18進行記錄的情況下，一邊利用紅色光束270來進行循軌，一邊利用相同的紅色光束 270來進行記錄。此外，這裡未特別作出圖示，但在利用藍色光束170照射伺服層來進行循軌的情況下，也可以利用該藍色光束170來在伺服層上記錄管理信息。另外，在進行管理信息的記錄時，只要採用平臺18A和凹槽18B中的任一種即可，但如圖3所示，也可以採用平臺18A及凹槽18B這兩者。接下來，在對已記錄於第一記錄再現層14A上的信息進行再現的情況下，首先，利用第二光學系統200的紅色波長區域的記錄用光束270來照射伺服層18，讀取之前所記錄的管理信息(例如，之前記在第一記錄再現層14A上的內容信息等追加記錄相關信息)。其結果，能夠從伺服層18預先取得想要再現的內容信息等，所以事先就能夠識別出想要再現的內容記錄在該第一記錄再現層14A上。其結果，能夠利用第一光學系統100的光束170訪問第一記錄再現層14A上的規定地址來進行再現。在進行再現時，已明確知道在第一記錄再現層14A上已記錄有信息，所以只要利用該記錄標記的反射光來進行循軌即可。因此，在內容再現的過程中，可以不利用第二光學系統200的光束270。如上所述，若採用本實施方式的光記錄介質10及光記錄再現方法，則在記錄再現層組14上記錄信息時，能夠在伺服層18上的伺服側管理信息記錄區域上記錄對記錄再現層組14的下一次記錄再現所需的管理信息。因此，在下一次進行記錄再現時，通過參照該伺服層18上的管理信息，能夠與各記錄再現層14A 14F相對應地同時掌握如下信息，如某一記錄再現層上記錄有什麼內容等內容信息、記錄再現時的出錯信息等，所以與對各記錄再現層分別進行尋道動作的情形相比，能夠提高記錄再現效率。另外，可以將原來的主要利用目的為循軌控制的伺服層18用作為伺服側管理信息記錄區域，所以無需對記錄再現層組14記錄管理信息，從而也能夠有效利用記錄再現層組14側的數據區域。另外，可以將伺服層18上的伺服側管理信息記錄區域之外的其他區域用作為與記錄再現層組14相同的伺服側數據記錄區域，所以也能夠使記錄容量增大。進而，在伺服層18上，通過抖動軌道18W，以預格式化的方式記錄有記錄再現層組 14的地址信息、記錄條件等基本信息。因此，在伺服層18上，在取得上述管理信息的同時還能夠取得這些基本信息，所以進一步能夠縮短記錄再現前的尋道時間。另外，在本實施方式中，利用伺服用紅色光束270，在伺服層18上記錄管理信息。 因此，在利用紅色光束270進行循軌的情況下的對記錄再現層組14的記錄操作結束後，能夠直接利用該紅色光束270來在伺服層18上快速記錄管理信息。進而，在本實施方式中，通過伺服用長波長光束270，利用伺服層18上的平臺18A 及凹槽18B這兩者來進行循軌。其結果，在記錄再現層組14上，能夠實現伺服層18上的軌道間距Pl的1/2的記錄間距。例如，將伺服層18所利用的光束270的波長設定在紅色波長區域630nm 680nm 的範圍內，將記錄再現用的光束170的波長設定在藍色波長區域380nm 450nm的範圍內， 由此能夠實現高密度的記錄。另外，例如也優先將平臺18A及凹槽18B的軌道間距Pl設定為0. 6 μ m 0.74!11(具體地說是0.644111左右)。其結果，記錄再現層組14側的軌道間距P2取 0. 30 μ m 0. 35 μ m(具體地說是0. 32 μ m左右)的值，從而能夠使其與BD標準相匹配。此外，優先將伺服層18側的軌道間距設定為0. 64 μ m。這樣，第二光學系統200幾乎可以直接使用符合DVD標準的現有製品。另外，記錄再現層組14的軌道間距為0. 32 μ m, 所以第一光學系統100幾乎可以直接使用符合BD標準的現有製品。即，就光讀寫頭90側而言，不存在重新開發的負擔，所以在有效利用現有部件的情況下，能夠與本光記錄介質系列相匹配。另外，在本實施方式中，將伺服層18設置在比記錄再現層組14更遠離光入射面的一側，並使紅色光束270透過記錄再現層組14來照射伺服層18以實現循軌。因此，在製造光記錄介質10時，只要預先將平臺18A及凹槽18B形成在支撐基板12側即可，所以能夠大幅度降低製造成本。另外，在本實施方式的光記錄介質10中，只示出了將伺服層18配置在以光入射面 IOA為基準時比記錄再現層組14更遠的一側的情形，但本發明並不僅限定於此。另外，作為記錄再現層組14，只示出了具有6層以上記錄再現層的情形，但本發明並不僅限定於此。進而，在本實施方式中，示出了在伺服層18上形成了與伺服用的紅色波長光束270的規格相匹配的凹槽/平臺的情形，但本發明並不僅限定於此。作為其他實施例的光記錄介質10，在圖5中示出了如下情形伺服層18配置在比 4層記錄再現層組14更靠近光入射面IOA側的位置，而且就該伺服層18上的平臺18A及凹槽18B的規格而言、能夠利用藍色波長的伺服用光束270來進行循軌控制。在該光記錄介質10中，伺服層18也由與記錄再現層組14同樣的記錄層構成，利用藍色光束270、170，均能夠實現循軌控制和記錄再現這兩者。在這樣的情況下，平臺18A及凹槽18B的軌道間距Pl設定在0. 30 μ m 0. ；35 μ m 的範圍內。在對記錄再現層組14進行信息記錄的情況下，優先通過伺服用的藍色光束270， 僅利用平臺18A和凹槽18B中任一種來進行循軌，而且，在進行該循軌的同時，利用記錄再現用的藍色光束170，透過伺服層18來照射記錄再現層組14，由此在記錄再現層組14上進行記錄。另外，在對伺服層18記錄管理信息的情況下，優先通過伺服用的藍色光束270和記錄再現用的藍色光束170中的任一種光束，僅利用平臺18A和凹槽18B中的任一種來記錄管理信息。這樣，伺服層18靠近光入射面10A，所以能夠提高循軌精度。另外，在本實施方式中，示出了在記錄再現層組上交替設定有兩種層間距離 (16μπι、12μπι)的情形，但本發明並不僅限定於此，也可以組合使用3種以上的層間距離。還有，在本實施方式中，將伺服層18配置在與光入射面IOA相距0.2mm處，而可以將該伺服層18配置在比該0. 2mm處更遠離光入射IOA的位置，也可以將該伺服層18配置在比該0. 2mm處更靠近光入射面IOA的位置。可以將伺服層18配置在與光入射面IOA相距0. 6mm處。此時，例如可以使伺服層18和與該伺服層18相鄰的第一記錄再現層14A之間的層間距離，與記錄再現層組14的層間距離(S卩，16μπι和12μπι之一)相同。因此，能夠將伺服層18作為記錄再現層組14中的一個記錄再現層來加以管理。另外，在本實施方式中，示出了利用紅色光束270來對伺服層18進行循軌控制及管理信息的記錄的情形，但可以利用藍色光束170來進行這些動作。若利用藍色光束170，則能夠使記錄標記的尺寸變小，所以在伺服層18上的平臺18Α及凹槽18Β這兩者上，能足夠輕鬆地記錄(形成)管理 fn息等。另外，在本實施方式中，示出了伺服層配置在比記錄再現層組更遠離光入射面的位置上的情形，但本發明並不僅限定於此，也可以將伺服層配置在比記錄再現層組更靠近光入射面一側的位置上。另外，在本實施方式中，將長波長側的光束270作為紅色波長區域，將短波長側的光束170作為藍色波長區域，但本發明並不僅限定於此。例如，在屬於同一個藍色波長區域內的情況下，可以將長波長側設定為光束270，將短波長側設定為光束170。產業上的可利用性本發明的光記錄介質及光記錄再現方法能夠應用於具有伺服層和記錄再現層的各種光記錄介質中。
權利要求
1.一種光記錄再現方法，利用伺服用光束照射上述伺服層來進行循軌控制，同時利用記錄再現用光束照射上述記錄再現層來進行信息記錄，上述光記錄介質包括不具有再現循軌控制用凹凸的平面結構的多層記錄再現層、形成有循軌控制用凹凸的伺服層，其特徵在於，當在上述記錄再現層上記錄信息時，在上述伺服層上記錄對上述記錄再現層的下一次記錄再現所需的管理信息，當對上述記錄再現層進行下一次以後的記錄再現時，參照上述伺服層上的上述管理信息ο
2.如權利要求1所述的光記錄再現方法，其特徵在於，在上述伺服層上所記錄的上述管理信息包括上述記錄再現層的內容信息、出錯信息、追加記錄相關信息中的至少一種信息ο
3.如權利要求1或2所述的光記錄再現方法，其特徵在於，利用對上述伺服層進行循軌控制的上述伺服用光束，在上述伺服層上記錄上述管理信息。
4.如權利要求1或2所述的光記錄再現方法，其特徵在於，利用對上述記錄再現層進行記錄再現的上述記錄再現用光束，在上述伺服層上記錄上述管理信息。
5.如權利要求1至4中任一項所述的光記錄再現方法，其特徵在於，將上述記錄再現用光束的波長設定為與上述伺服用光束的波長大致相等。
6.如權利要求1至4中任一項所述的光記錄再現方法，其特徵在於，將上述記錄再現用光束的波長設定為比上述伺服用光束的波長短。
7.如權利要求1至6中任一項所述的光記錄再現方法，其特徵在於，將上述伺服層設置在比上述記錄再現層更遠離光入射面的一側，並使上述記錄再現層對上述伺服用光束具有透光特性，利用上述伺服用光束透過上述記錄再現層來照射上述伺服層，由此進行循軌控制。
8.如權利要求1至6中任一項所述的光記錄再現方法，其特徵在於，將上述伺服層設置在比上述記錄再現層更靠近光入射面的一側，並使上述伺服層對上述記錄再現用光束具有透光特性，利用上述記錄再現用光束透過上述伺服層照射上述記錄再現層，由此進行記錄或再現。
9.如權利要求1至8中任一項所述的光記錄再現方法，其特徵在於，將上述伺服層和與該伺服層相鄰的上述記錄再現層之間的層間距離，設定為多個上述記錄再現層的層間距離中的任一層間距離相等。
10.如權利要求1至9中任一項所述的光記錄再現方法，其特徵在於，將上述伺服層上的軌道間距設定為想要記錄在上述記錄再現層上的軌道間距的2倍。
11.一種光記錄介質，包括不具有循軌控制用凹凸的平面結構的多層記錄再現層、形成有循軌控制用凹凸的伺服層，而且，在利用上述伺服層來進行循軌控制的同時，在上述記錄再現層上記錄信息，其特徵在於，上述伺服層具有伺服側管理信息記錄區域，該伺服側管理信息記錄區域是指，當在上述記錄再現層上記錄信息時，記錄對該記錄再現層的下一次以後的記錄再現所需的管理信息的伺服側的區域。
12.如權利要求11所述的光記錄介質，其特徵在於，在上述伺服側管理信息記錄區域上能夠記錄的上述管理信息包含上述記錄再現層的內容信息、出錯信息、追加記錄相關信息中的至少一種信息。
全文摘要
提供一種光記錄再現方法及光記錄介質，能夠迅速獲取必要的記錄再現層的信息，從而能夠縮短再現時及追加記錄時的尋道時間。該光記錄再現方法是對於具有多層記錄再現層(14)和伺服層(18)的光記錄介質的光記錄再現方法，利用伺服用光束照射伺服層來進行循軌控制，同時利用記錄再現用光束照射記錄再現層(14)來進行信息的記錄再現，當在記錄再現層(14)上記錄信息時，在伺服層(18)上記錄對記錄再現層(14)的下一次以後的記錄再現所需的管理信息。當進行下一次以後的記錄再現時，參照伺服層(18)上的管理信息，並對記錄再現層(14)進行記錄再現。
文檔編號G11B7/24GK102163440SQ20111004382
公開日2011年8月24日 申請日期2011年2月22日 優先權日2010年2月22日
發明者井上素宏, 小須田敦子, 平田秀樹, 菊川隆 申請人:Tdk股份有限公司