投影黑板及其製造方法

2023-05-17 15:58:41 3

專利名稱：：投影黑板及其製造方法
技術領域：
：本發明涉及表面上形成搪瓷層的黑板(也稱為粉筆板)，特別涉及兼具優異的黑板功能和優異的屏幕功能的搪瓷製的黑板。本發明中所迷的"優異的黑板功能"是指容易用粉筆書寫文字、描繪圖像等，觀看清晰，並且具有使書寫的文字、圖像等容易抹去的功能。"優異的屏幕功能"是指在用投影儀、OHP等投影文字等影像時，具有文字等影像可鮮明地投影的功能。
背景技術：
：以往黑板(粉筆板)具有可用粉筆在表面上可抹去地書寫文字、圖像等的功能，用作各種說明、講義、講演等的輔助工具。因此，以往的黑板(粉筆板)如JISS6007所規定，為了容易地用粉筆(白粉筆)書寫、抹去文字、圖像等，使用使表面適當增粗，且為了使得用粉筆(白粉筆)書寫的文字、圖像等容易觀看而使用暗色系的材料。但是近年來，通常是利用幻燈機、OHP等各種投影機，將預先準備的資料投影在屏幕上，用指示棒等邊指示邊進行說明等。利用各種投影儀進行說明等時，必須準備投影用的屏幕和為了補充說明而可以用粉筆(白粉筆)進行書寫和抹去文字等的黑板兩者，其準備以及收拾過程中需很多麻煩。這是由於如果用各種投影儀在以往的黑板上投影影像，則畫質昏暗，不鮮明，因此無法將以往的黑板用作屏幕。另一方面，作為以用各種投影儀投影影像為主要目的的反射屏幕，為了提高其反射特性而使用白色系或者高亮度色系的材料。因此，在屏幕上用粉筆(白粉筆)書寫，則對比度低，文字、圖像等的識別特性低，並且玻珠幕、白塑幕等通常的屏幕表面硬度低，用粉筆(白粉筆)書寫、抹去，則屏幕有磨損問題，因此，例如日本特開平02-153080號公報、日本特開平04-229299號公報所示，屏幕即使是可用作用記號筆進行書寫抹去的標記板，也無法用作粉筆板。針對上述問題，例如日本實開昭57-183190號公報中提出了在釉料中混入藍色系的染料，在鋼板上形成亮度8-4的粗面搪瓷層的兼用作投影屏幕的搪瓷黑板。
發明內容但是，根據日本實開昭57-183190號公報所記栽的技術製造的黑板中，反射亮度低，影像不鮮明的傾向強，特別是使用亮度低的投影儀時，難以獲得鮮明的影像等，無法充分滿足作為屏幕最近所需求的特性。本發明有利地解決了上述以往技術的問題，其目的在於提供兼具優異的黑板功能和優異的屏幕功能的投影黑板及其製造方法，該投影黑板容易用粉筆(白粉筆)書寫文字，描繪圖像等且容易觀看，粉筆文字的識別性優異，可容易地抹去用粉筆(白粉筆)書寫的文字、圖像等、粉筆文字的識別性，粉筆文字的書寫*抹去性均優異，且可鮮明地投影影像，影像識別性優異。本發明的目標投影黑板是在金屬基板的外表面具有至少一層搪瓷層的搪瓷製的黑板。本發明人為實現上述課題，對影響搪瓷製的黑板的粉筆文字識別性、粉筆書寫抹去性和影像識別性的因素進行了深入研究。結果認識到為了確保與以往的黑板具有同等或以上的粉筆文字識別性、粉筆文字書寫.抹去性，黑板表面的搪瓷層製備為具有規定範圍的亮度、規定範圍的表面粗度，同時為了使影像識別性進一步提高而形成具有規定值或以上的峰值增益(匕°一夕少'O)的反射特性，這是關鍵。還新發現上述表面搪瓷層通過將所使用的釉料製成在通常的粉筆板釉料一一透明無光釉料中至少配合適量的被覆氧化鈦的顆粒、或進一步配合氧化鈦釉料的釉料，將燒成條件調節至適當範圍即可生成。由此認識到黑板可兼具優異的黑板功能和優異的屏幕功能。本發明是根據上述認識進行進一步深入的研究而完成的。即，本發明的要旨如下。(1).投影黑板，該投影黑板是在金屬基板上具有至少一層搪瓷層的黑板，其特徵在於上迷搪瓷層中，最外層的表面搪瓷層具有在JISZ8721-1993中規定的亮度V為3.0-7.0的色調、在JISB0601-2001中規定的表面粗度Rz為5-25pm的表面特性、峰值增益為0.28或以上的反射特性。(2).(l)的投影黑板，其特徵在於上述表面搪瓷層是使用搪瓷面釉形成的搪瓷層，所述搪瓷面釉是在透明無光釉料中至少配合被覆氧化鈦的顆粒、或者進一步配合氧化鈦釉料、或者進一步配合透明光澤釉料得到的。(3).(1)或(2)的投影黑板，其特徵在於上述表面搪瓷層具有黑色系、綠色系、褐色系中的任意一種顏色。(4).(1)-(3)中任一項的投影黑板，其特徵在於上迷表面搪瓷層的JISZ8741-1997所規定的75度鏡面光澤度Gs(75。)為1-30%。(5).(1)-(4)中任一項的投影黑板，其特徵在於上迷被覆氧化鈦的顆粒是在雲母顆粒的表面被覆氧化鈦而成的顆粒。(6).投影黑板的製造方法，其特徵在於在金屬基板的表面上塗布搪資底釉，燒成，形成底層搪瓷層，然後或者無需形成底層搪瓷層，接著塗布搪瓷面釉，在400-800'C下燒成，形成表面搪瓷層；其中所述搪免面釉是在透明無光釉料中至少配合被覆氧化鈦的顆粒、或者進一步配合氧化鈦釉料、或者進一步配合透明光澤釉料得到的。(7).(6)的投影黑板的製造方法，其特徵在於上述金屬基板是冷軋鋼板、或鍍鋁鋼板或鍍Zn-Al合金鋼板。(8).(6)或(7)的投影黑板的製造方法，其特徵在於上述被覆氧化鈦的顆粒是在雲母顆粒的表面被覆氧化鈦而成的顆粒。根據本發明，可以低成本地製造粉筆文字識別性以及粉筆文字抹去性均優異、同時影像識別性也優異，容易應用、施工性也優異的投影黑板，在產業上有特別大的效果。附圖簡述圖l是表示反射特性曲線的一個例子的圖表。圖2是表示反射亮度測定方法的概略說明圖。符號說明1入射光2反射光3s被測定黑板(樣品)10光源11亮度計200580051475.2說明書第4/ll頁具體實施方式本發明的投影黑板是在金屬基板上具有至少一層搪瓷層的黑板。本發明中，所使用的金屬基板的種類沒有特別限定，優選冷禮鋼板。為了提高金屬基板與釉料的貼合性，作為金屬基板使用的冷軋鋼板優選實施鍍Ni。冷禮鋼板可例舉低碳鋼板、不鏽鋼鋼板等。低碳鋼板的C含量以質量％計優選為0.0200°/。或以下，更優選0.0100%或以下，進一步優選0.0050%或以下。金屬基板可以製成鍍鋁鋼板或鍍Zn-Al合金鋼板。鍍Zn-Al合金鋼板可例舉具有含有Al含量4-70質量％、餘量Zn和不可避免的雜質的鍍層的鍍鋼板。鍍層中當然可以含有用於提高鍍層皮膜特性的添加物。上述的在金屬基板上形成的搪瓷層中，最外層的表面搪瓷層具有JISZ8721-1993規定的亮度V為3.0-7.0的色調、JISB0601-2001規定的表面粗度Rz為5-25iam的表面特性、峰值增益為0.28或以上的反射特性。本發明中所述的亮度V採用按照JISZ8722-2000所規定的顏色測定方法進行測定、按照JISZ8721-1993規定的顏色表示方法表示的值。本發明的投影黑板首先必須保持與以往的黑板具有同等或以上的粉筆文字識別性、粉筆文字抹去性，還必須保持優異的黑板功能。為此，首先，為了使用粉筆書寫的文字、描繪的圖像等容易觀看，即，確保粉筆文字識別性，本發明中，將表面搪瓷層製成按照JISz8721-1993規定的亮度V為3.0-7.0,優選黑色系、綠色系、褐色系、藏青色系其中任一種，進一步優選黑色系、綠色系、褐色系的任一種的暗色系色調的搪瓷層。亮度V偏離到上述範圍的下方，則過暗，投影影像時的影像識別性低，而亮度V偏離至上迷範圍的上方，則過亮，粉筆文字識別性降低。搪殼層的色調、亮度可通過添加顏料的種類、添加量來調節。為了將亮度V調節至3.0-7.0，顏料優選將Co、Cr、Ti的金屬或它們的氧化物單獨或複合添加。亮度V優選4.0-6.0。本發明的投影黑板中，為了確保用粉筆容易書寫文字、圖像等或容易抹去的粉筆文字書寫.抹去性，要將表面搪瓷層的表面特性調節為按照JISB0601-2001規定的表面粗度Rz為5-25pm。優選10-22拜，進一步優選14-18pm。表面搪資層的表面粗度Rz偏離上述範圍接近於平坦時，則粉筆打滑，粉筆書寫性降低，同時影像識別性降低。另一方面，偏離上迷範圍凹凸過大時，則粉筆文字的抹去性降低，同時影像識別性降低。如後所述，上述表面搪瓷層的表面特性可通過使塗布在金屬基板上的釉料的組成、塗布釉料後的燒成條件的組合而使其在適當範圍內來實現。本發明的投影黑板中，表面搪瓷層具有上述色調和表面特性，保持優異的黑板功能，同時具有峰值增益為0.28或以上、優選半增益("一7^47)為15或以上的反射特性。被測定板的反射特性如下求出例如如圖2所示，由光源10沿垂直方向向被測定板S中心照射入射光1,用亮度計11測定由中心點向同一圓弧左右各75。的範圍內每移動5。的點的反射光2的大小(反射亮度)，通過所得到的反射特性曲線(參照圖1)求出。本發明中所說的"峰值增益"是指對被測定黑板照射光時的反射亮度相對於在相同條件下標準白板(完全漫射板燒結有硫酸鋇的純白板)的反射亮度的比例，這種情況下通常是採用視角5。下的反射亮度。本發明中所述的"半增益"是指反射特性曲線中反射亮度為峰值的1/2時的視角寬(度)。峰值增益低於0.28，則投影的影像暗，影像識別性變差，無法滿足作為投影黑板的要求，因此，0.28為峰值增益的下限值。峰值增益優選0.5-1.0。為了獲得寬視角，優選半增益為15或以上。因此，本發明中，要製成具有0.28或以上的峰值增益和優選15或以上的半增益的反射特性的表面搪瓷層。如後所述，上述的表面搪資層的反射特性可通過向塗布在金屬基板上的釉料中適量添加具有適當粒徑分布的被覆氧化鈦的顆粒、優選被覆氧化鈦的雲母顆粒，將燒成溫度調節至適當範圍來實現。具有上述特性的表面搪資層優選具有JISZ8741-1997規定的75度鏡面光澤度Gs(75。)為1-30%表面光澤。Gs(75。)低於1%,則粉筆文字抹去性差，同時反射亮度減小，影像不鮮明。而Gs(75。)超過30%，則粉筆文字書寫性變差，同時容易發生暈影，視角變狹窄。更優選Gs(75°)為15-25%。表面搪乾層含有被覆氧化鈦的顆粒。通過使表面搪瓷層含有被覆氧化鈦的顆粒，影像鮮明性得到提高，同時在表面形成凹凸，擴散反射性提高，暈影得到抑制，反射特性提高。本發明中，表面搪瓷層優選相對於表面搪瓷層總量以質量％計含有2-40%、進一步優選含有3-20%被覆氧化鈦的顆粒。被覆氧化鈦的顆粒低於2質量％，則反射特性提高效果小。被覆氧化鈦的顆粒超過40質量％含有，則表面粗度Rz過大，粉筆文字抹去性差，同時亮度過大，粉筆文字的識別性降低。被覆氧化鈦的顆粒優選具有100pm或以下的平均粒徑。進一步優選5-80pm。被覆氧化鈦的顆粒的平均粒徑低於5nm，則擴散反射性降低，而被覆氧化鈦的顆粒的平均粒徑超過100nm，則表面搪資層的表面粗度過大，粉筆文字抹去性降低。這裡所述的顆粒的平均粒徑是指利用雷射衍射式粒度分布測定裝置測定的50%累積粒徑。被覆氧化鈦的顆粒優選為在雲母顆粒的表面被覆氧化鈦的顆粒，更優選雲母顆粒為薄板狀雲母顆粒。具有上述特性的表面搪瓷層優選為使用搪瓷面釉形成的搪瓷層，所述搪瓷面釉是在透明無光釉料中至少配合被覆氧化鈦的顆粒、或者進一步配合氧化鈦釉料、或者進一步配合透明光澤釉料形成的。表面搪瓷層的厚度從剝離性的角度考慮優選為200pm或以下，更優選150pm或以下。使用上述搪瓷面釉形成的表面搪瓷層優選為以下的搪瓷層所述搪瓷層含有以質量％計，以包括被覆氣化鈦的顆粒中的氧化鈦的氧化鈦合計量為Ti02的形式，Ti02:0.5-15%,更優選低於0.5-10%，進一步優選2-5%,並且，Si02:15-45%、A1203:5-30%、選自Na20、K20、Li20的1種或2種或以上的合計為2-20°/。、B203:2-20%。本發明中，為了獲得所希望的顏色，黑板的表面搪瓷層中當然可以以合計20質量％或以下含有選自黑色系顏料、綠色系顏料、黃色系顏料中的顏料。下面，對本發明的投影黑板的優選製造方法進行說明。本發明的投影黑板優選通過在金屬基板的表面塗布搪瓷底釉，燒成，形成底層搪瓷層，或者不形成底層搪瓷層，接著塗布搪瓷面釉，在400-85(TC下燒成，形成表面搪瓷層的製造方法製造。其中所述搪瓷面釉是在透明無光釉料中至少配合被覆氣化鈦的顆粒、或者進一步配合氧化鈦釉料、或者進一步配合透明光澤釉料得到的。金屬基板優選冷軋鋼板、或鍍鋁鋼板或鍍Zn-Al合金鋼板。使用冷軋鋼板作為金屬基板時，優選對冷軋鋼板實施鍍Ni，然後在冷禮鋼板(金屬基板)表面塗布搪瓷底釉，燒成，形成底層搪瓷層。搪瓷底釉並沒有特別限定，只要是以往在搪瓷製的黑板中使用的搪瓷底釉均8可。搪瓷底釉的塗布可採用任意的噴塗、輥塗等公知的塗布方法。搪瓷底釉例如優選為Si02系釉料，以相對於固形物總量的質量％含有Si02:20-80%，餘量含有Ti02:0-15%、Zr02:0畫20%、B203:0-25%、A1203:0-25%、Na20:0-20%、Li20:0-20%、K20:0-20%、PbO:0-40%、ZnO:0-50%、BaO:0-15%、CaO:0-15%、CaF2:0-10%、CoO:0-20%、NiO:0-20%、MnO:0-20%等。在所得的底層搪瓷層的表面塗布搪瓷面釉，然後在600-850。C下進行燒成，形成表面搪瓷層。搪瓷面釉的塗布可採用任意的噴塗、輥塗等z^知的塗布方法。搪瓷面釉優選製成以下釉料在透明無光釉料(玻璃料)中，或者在相對於100質量份透明無光釉料(玻璃料)添加100-20重量份氧化鈦釉料(玻璃料)、或進一步添加20重量份或以下透明光澤釉料(玻璃料)所得的釉料中添加適量的被覆氧化鈦的顆粒而成。被覆氧化鈦的顆粒的添加量是相對於100重量份(換算為燒成後的重量)透明無光釉料或混合的釉料(泥釉)，優選為1-25重量份。搪瓷面釉是在透明無光釉料的玻璃料，或透明無光釉料、氧化鈦釉料或進一步透明光澤釉料的玻璃料，與根據需要添加的各種添加物和顏料，以及水的混合物經粉碎得到的泥狀物(泥釉)中添加並混合適量的被覆氧化鈦的顆粒粉末所得的。顏料必須是結合黑板所需的色調單獨或者複合添加任意的黑色系顏料、綠色系顏料、黃色系顏料。顏料的添加量優選相對於100重量份泥釉(換算為燒成後的重量)以總量計為20重量份或以下。添加量多至超過20重量份，泥釉的流動性降低.透明無光釉料(玻璃料)優選為下述釉料所述釉料按照相對於固形物總量的質量％，含有Si02:30-45%、A1203:20-35%、B203:5-15%、K20:5-15%、Na20:10-25%，餘量含有BaO:0-15%、CaO:0-15%、F2:0-10%、Ti02:0-10%等。氧化鈦釉料(玻璃料)優選為下述釉料所述釉料按照相對於固形物總量的質量o/。，含有10-30%Ti02,餘量含有Si02:0-80%、A1203:0-20%、B203:0-25%、Na20:0-20%、K20:0-20%、Li20:0-20%、P205:0-10%、Zr02:0-20%、BaO:0-15%、CaO:0-15%、MgO:0-5%、PbO:0-400/o、ZnO:0-50%、CaF2:0-10%等。還可以使用氧化鋯、氣化銻、氧化鋅中的1種或2種或以上顏料代替氧化鈦釉料的顏料——氧化鈦。透明光澤釉料(玻璃料)優選為下述釉料所述釉料按照相對於固形物總量的質量。/。，含有Si。2:40-65%,餘量含有B203:5-20%,Na20、K20、Li20的任意一種或以上合計為5-40%,F2:0-10%，A1203:0-10%,CaO:0-10%,Ti02:0-10%,ZnO:0畫10%、MgO:0-5%等。還可以以氧化鋯、氧化銻、氣化鋅中的l種或2種或以上顏料替代氧化鈦釉料的顏料——氧化鈦。燒成溫度低於600'C則表面粗度過粗，反射特性差。而超過850'C則表面過於平滑，粉筆文字識別性、粉筆文字書寫.抹去性降低。使用鍍鋁鋼板或鍍Zn-Al合金鋼板作為金屬基板時，優選在金屬基板表面塗布搪資面釉，在400-600。C下燒成，形成表面搪資層。這種情況下，從防止鍍層熔解的角度考慮，必須使用低熔點的搪瓷面釉。因此，優選在配合有磷酸的釉料中配合被覆氧化鈦的顆粒、或者進一步配合氧化鈦釉料形成的搪瓷面釉代替上述透明無光釉料。配合有磷酸的釉料中的磷酸的含量為40質量％或以上，優選80質量％或以下，進一步優選70%或以下。配合有磷酸的釉料(玻璃料)優選為下述釉料所述釉料按照相對於固形物總量的質量％，含有P205:40-80%,餘量含有Si02:0-40%、A1203:0-50%、B203:0-25%、Na20:0-20%、K20:0-20%、Li20:0-20%、Ti02:0-30%、Sb203:0-25%、ZnO:0-20%、BaO:0-15%、CaO:0-15%、MgO:0-5%、PbO:0-10%、SrO:0-20%等。使用鍍鋁鋼板或鍍Zn-Al合金鋼板作為金屬基板時，從防止鍍層熔解的角度考慮，使用低熔點的搪瓷面釉，因此貼合性提高，無需塗布搪乾底釉。使用鍍鋁鋼板或鍍Zn-Al合金的鋼板作為金屬基板時，燒成溫度低於40(TC則搪資層的貼合性降低。而超過600。C出現鍍層熔解的問題。實施例(實施例1)使用冷軋鋼板(C:0.0050質量％的超低碳鋼板)作為金屬基板。冷軋鋼板表面在疏酸鎳浴中形成鍍鎳層。接著在鍍鎳的冷軋鋼板的兩個表面通過輥塗法塗布搪瓷底釉，然後在800'C下燒成，形成30pm的底層搪瓷層。搪瓷底釉是在100重量份Si02系釉料(玻璃料)中添加6重量份粘土、0.15重量份碳酸鎂、0.4重量份硼砂、l重量份矽石、70重量份水，將得到的配合原料加入到球磨機中，混合，粉碎，製成泥釉使用。接著，在所得底層搪瓷層的一個表面上用噴塗法塗布搪瓷面釉，然後在75(TC下燒成，形成70pm的表面搪資層，製成樣品黑板。在一部分黑板中，使燒成溫度在700-780。C的範圍內變化。在100重量份表1所示組成的透明無光釉料(玻璃料)中添加5.5重量份粘土、0.15重量份亞硝酸鈉、0.5重量份矽石、70重量份水，再添加合計l重量份Ti02、Sb205、NiO，8.2重量份Cr203、合計10.0重量份Co、Cr，合計0.1重量份Fe203、CuO、CoO、MnO等作為顏料，用球磨機混合，粉碎，製備泥釉A，另外，在100重量份表2所示的氧化鈦釉料(玻璃料)中添加5.5重量份粘土、0.2重量份氯化鉀、0.3重量份鋁酸鈉、54重量份水，用球磨機混合，粉碎，得到泥釉B,然後，將20重量份被覆氧化鈦的顆粒粉末(換算為燒成後的重量)與45重量份水一起添加到100重量份該泥釉B中，混合，製備釉料C，這些釉料A和釉料C按照3:1的比例配合，混合，製成本發明中使用的搪瓷面釉。其中一部分改變釉料A和釉料C的混合比。被覆氧化鈦的顆粒粉末是在薄板狀雲母顆粒表面被覆氧化鈦的顆粒，平均粒徑為20pm，氧化鈦被覆率為30%。平均粒徑是利用雷射衍射式粒度分布裝置測定的50%累積粒徑。作為以往的例子，是在IOO重量份表1所示組成的透明無光釉料(玻璃料)中添加5.5重量份粘土、0.15重量份亞硝酸鈉、0.5重量份矽石、70重量份水，再添加合計0.5重量份Ti02、Sb205、NiO,4.1重量份Cr203、合計5.0重量份Co、Cr,合計0.05重量份Fe203、CuO、CoO、MnO等作為顏料，用球磨機混合，粉碎，將得到的釉料D作為搪瓷面釉使用。以燒成溫度700。C進行燒成。對於所得樣品黑板的表面搪瓷層，調查其組成、表面粗度、色調、光澤度、反射特性。(1)表面粗度表面粗度的測定是使用接觸式表面粗度計，按照JISB0601-2001的規定求出算術平均粗度Ra和最大高度Rz。(2)色調色調是按照JISZ8722-2000的規定測定，按照JISZ8721-1993的規定表示各樣品黑板的色調。(3)光澤度光澤度是按照JISZ8741-1997求出75度鏡面光澤度Gs(75°)。(4)反射特性反射特性如下求出如圖2所示，由光源10沿垂直方向向被測定板S中心照射入射光1,用亮度計11測定由中心點向同一圓弧左右各75。的範圍每各移動5。的點的反射光2的大小(反射亮度)，求出峰值增益、半增益。峰值增益是指對被測定黑板照射光時的反射亮度相對於在相同條件下標準白板(完全漫射板燒結有硫酸鋇的純白板)的反射亮度的比例。反射亮度採用視角5。內的反射亮度。本發明的黑板(本發明品)與以往的黑板(以往品)的反射特性的一個例子如圖1所示。縱軸是以標準白板的反射亮度(峰)為100°/。時被測定黑板的反射亮度的比率。(5)黑板功能進一步按照JISB6007的規定，用粉筆(白粉筆)在所得的樣品黑板上書寫文字，判定白粉筆的容易附著程度以及容易脫落程度。白粉筆的容易附著程度是在距離黑板面1m的位置觀看，觀察線條是否不均，以及在距離8m的位置觀看，觀察線條是否鮮明，以此判定。線條沒有不均且鮮明時為o，鮮明度稍有降低時為O，線條有不均或者不鮮明時為x，以此評價粉筆文字識別性。另外，白粉筆的容易脫落程度是將黑板上書寫的文字用黑板擦(用毛氈製作)擦去，然後在距離黑板lm的位置觀看，黑板面上沒有筆跡痕跡、擦除沒有不均時為O,稍有筆跡痕跡殘留時為O，除此之外為x，以此評價粉筆文字的抹去性。所得結果如表3、表4所示。[表l]_tableseeoriginaldocumentpage12tableseeoriginaldocumentpage13權利要求1.投影黑板，該投影黑板是在金屬基板上具有至少一層搪瓷層的黑板，其特徵在於上述搪瓷層中，最外層的表面搪瓷層具有在JISZ8721-1993中規定的亮度V為3.0-7.0的色調、在JISB0601-2001中規定的表面粗度Rz為5-25μm的表面特性、峰值增益為0.28或以上的反射特性。2.權利要求1的投影黑板，其特徵在於上述表面搪瓷層是使用搪乾面釉形成的搪資層，所迷搪乾面釉是在透明無光釉料中至少配合被覆氧化鈦的顆粒得到的。3.權利要求2的投影黑板，其特徵在於上述搪瓷面釉還配合氧化鈦釉料、或者還配合透明光澤釉料。4.權利要求1-3中任一項的投影黑板，其特徵在於上述表面搪瓷層具有黑色系、綠色系、褐色系中的任意一種顏色。5.權利要求1-4中任一項的投影黑板，其特徵在於上迷表面搪瓷層的JISZ8741-997所規定的75度鏡面光澤度Gs(75。)為1-30%。6.權利要求2-5中任一項的投影黑板，其特徵在於上述被覆氣化鈦的顆粒是在雲母顆粒的表面被覆氧化鈦而成的顆粒。7.權利要求1-6中任一項的投影黑板，其特徵在於上述金屬基板是冷軋鋼板、或鍍鋁鋼板或鍍Zn-Al合金鋼板。8.投影黑板的製造方法，其特徵在於在金屬基板的表面上塗布搪乾底釉，燒成，形成底層搪瓷層，然後或者不形成底層搪瓷層，接著塗布搪瓷面釉，在400-850'C下燒成，形成表面搪瓷層；其中所述搪瓷面釉是在透明無光釉料中至少配合被覆氧化鈦的顆粒得到的。9.權利要求8的投影黑板的製造方法，其特徵在於上述搪瓷面釉還配合氧化鈦釉料、或者還配合透明光澤釉料。10.權利要求8或9的投影黑板的製造方法，其特徵在於上述被覆氧化鈦的顆粒是在雲母顆粒的表面被覆氧化鈦而成的顆粒。11.權利要求8-10中任一項的投影黑板的製造方法，其特徵在於上述金屬基板是冷軋鋼板、或鍍鋁鋼板或鍍Zn-Al合金鋼板。全文摘要本發明提供兼具優異的黑板功能和優異的屏幕功能的投影黑板及其製造方法。在金屬基板上形成的搪瓷層中，用搪瓷面釉形成最外層的表面搪瓷層，製成具有規定色調、Rz為5-25μm的表面特性、峰值增益為0.28或以上的反射特性、或者進一步光澤度Gs(75°)為1-30％的搪瓷層。其中所述搪瓷面釉是在透明無光釉料中至少配合被覆氧化鈦的顆粒、或者進一步配合氧化鈦釉料形成的。由此，可以製成兼具優異的黑板功能和屏幕功能的黑板。被覆氧化鈦的顆粒優選是在雲母顆粒的表面上被覆氧化鈦形成的顆粒。金屬基板優選為冷軋鋼板或鍍鋁鋼板或鍍Zn-Al合金鋼板。文檔編號B43L1/10GK101258040SQ2005800514公開日2008年9月3日申請日期2005年11月28日優先權日2005年9月2日發明者林和裕申請人:傑富意建材株式會社