噴嘴調整工具及調整方法與流程
2023-05-17 04:50:06 3
本發明涉及一種噴嘴調整工具及調整方法，特別是涉及一種清洗機臺的噴嘴調整工具及使用所述調整工具進行的調整方法。
背景技術：
隨著各種半導體產品的廣泛應用及半導體技術的發展，半導體產品的批量生產規模越來越大。同時半導體產品的尺寸也越來越大，導致半導體工藝日趨複雜。而產品的生產不僅要求高精度，也要求高效率及高自動化，因此，對生產半導體產品的生產系統和生產工藝也提出了更高的要求。對於半導體製品，例如有機發光顯示器件、液晶顯示器件、非晶矽太陽能電池板等，其生產都需要利用玻璃等作為基片，在基片上進行多種工序進而形成多層薄膜，工藝步驟中涉及的鍍膜、光刻、蝕刻等工藝會產生粉塵附著在基片上，進而影響基片的清潔度，基片的清潔度對產品的質量有著重大影響。因此，在於鍍膜、光刻及蝕刻等步驟中必須貫穿有清洗步驟，以維持基片在生產過程中的表面清潔度。
以oled(organiclight-emittingdiode，即有機發光二極體)為例，oled的製造一般都在玻璃基片上進行多次工藝步驟，進而在基片上相繼沉積多層薄膜，其膜層主要包括在玻璃基片上形成的透明陽極，在陽極上依次沉積空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層和電子注入層，最後是金屬陰極層；在上述各個工藝步驟中若基片上沉積有粉塵，在下一膜層的形成過程中會將其覆蓋，從而影響膜層的厚度和均勻性，進而影響後續的工藝質量，最終使oled的質量降低。可見所述基片的清潔起著舉足輕重的作用，因此需要一種基片清洗裝置，對所述基片進行高效清洗的同時也能保證所述基片的高清潔度。
惟，目前清洗機臺上裝設的噴頭在裝設時時常會有軸心角度偏移的狀況，使得噴嘴的噴灑角度與方向未能一致，形成噴灑不均導致清洗不完全的情形。
技術實現要素：
為了解決上述技術問題，本發明的目的在於，提供一種噴嘴調整工具及調整方法，所述噴嘴調整工具可透過簡易的操作將裝設於同一噴管上的多個噴嘴調整至一致的方向與角度，使噴灑均勻解決清洗不完全的問題。
本發明的目的及解決其技術問題是採用以下技術方案來實現的。依據本發明提出的一種噴嘴調整工具，包括：一調整片體；一噴管定位單元，包括有設置於所述調整片體上成對對稱的噴管定位孔，以及用以穿設所述噴管定位孔的二個噴管定位栓；以及一噴嘴定位單元，包括有設置於調整片體中心的一噴嘴定位孔以及同心設置於所述噴嘴定位孔外圍的一角度固定部，所述角度固定部為一可與所述調整片體同心相對旋轉的轉盤結構，所述角度定位部的邊緣與所述調整片體於對應位置設置有角度輔助刻度，所述角度固定部並設置有二個對稱的角度定位孔和二個對稱的角度定位栓，當所述角度定位栓穿設所述角度定位孔並迫緊時，將所述角度定位部與所述調整片體的相對角度固定於一預定角度。
本發明解決其技術問題還可採用以下技術措施進一步實現。
在本發明的一實施例中，所述噴嘴定位孔依序套設於一噴管的多個噴嘴，且同時該些噴管定位栓依序夾設於所述噴管的多個位置，使該些噴嘴排列一致。
在本發明的一實施例中，所述調整片體為六角形的型態，所述噴管定位孔成對以對稱的沉頭孔型態設置於六角形對角的連線上。
在本發明的一實施例中，所述噴管定位孔與所述噴管定位栓設置有相對應的公螺紋及母螺紋結構。
在本發明的一實施例中，所述噴嘴定位孔為六角螺帽孔。
在本發明的一實施例中，所述角度定位孔為兩個對稱且同心設置於噴嘴定位孔外圍的弧線型態沉頭孔。
在本發明的一實施例中，所述角度定位孔與角度定位栓設置有相對應的公螺紋及母螺紋結構。
在本發明的一實施例中，所述噴嘴調整工具以金屬材質或塑料材質製成。
本發明更包括一種噴嘴調整方法，包括：提供所述的噴嘴調整工具；將多個噴嘴裝設於一噴管的多個噴嘴接頭上；以及將所述噴嘴定位孔依序套設於所述噴管的多個噴嘴，且同時將該些噴管定位栓依序夾設於所述噴管的多個位置。
在本發明的一實施例中，所述噴嘴調整方法，將所述噴嘴定位孔依序套設於所述噴管的多個噴嘴，且同時將該些噴管定位栓依序夾設於所述噴管的多個位置的步驟包括：將所述噴嘴定位孔套設於所述噴嘴上；旋轉所述調整片體，使所述噴管定位孔旋轉至所述噴管外緣；迫緊所述角度定位栓使所述角度定位部與所述調整片體的相對角度固定於一預定角度，並穿設噴管定位栓用以設定管徑；以及將裝設於噴管上的多個噴嘴調整排列一致，使多個噴嘴噴灑的方向相同。
本發明可透過簡易的操作將同一清洗噴管上的多個噴嘴調整到一致的方向與角度，使噴嘴的噴灑均勻進而達到更佳的清洗效果。
附圖說明
圖1a是範例性的噴嘴清洗立體示意圖。
圖1b是範例性的噴嘴清洗過程正面示意圖。
圖1c是範例性的噴嘴清洗結果正面示意圖。
圖2是本發明所述噴嘴調整工具的結構示意圖。
圖3a是本發明實施噴嘴調整的調整方法上方示意圖。
圖3b是本發明實施噴嘴調整的調整方法下方示意圖。
圖4a是本發明的噴嘴清洗過程正面示意圖。
圖4b是本發明的噴嘴清洗結果正面示意圖。
具體實施方式
以下各實施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發明可用以實施的特定實施例。本發明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「內」、「外」、「側面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發明，而非用以限制本發明。
附圖和說明被認為在本質上是示出性的，而不是限制性的。在圖中，結構相似的單元是以相同標號表示。另外，為了理解和便於描述，附圖中示出的每個組件的尺寸和厚度是任意示出的，但是本發明不限於此。
在附圖中，為了清晰起見，誇大了微塵粒子、基板等特徵。在附圖中，為了理解和便於描述，誇大了一些中心偏移和清潔流體的角度方向。將理解的是，當例如調整片體或定位單元的組件被稱作「在」另一組件「上」時，所述組件可以直接在所述另一組件上，或者也可以存在中間組件。
另外，在說明書中，除非明確地描述為相反的，否則詞語「包括」將被理解為意指包括所述組件，但是不排除任何其它組件。此外，在說明書中，「在......上」意指位於目標組件上方或者下方，而不意指必須位於基於重力方向的頂部上。
為更進一步闡述本發明為達成預定發明目的所採取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據本發明提出的一種噴嘴調整工具及調整方法，其具體實施方式、結構、特徵及其功效，詳細說明如後。
對於半導體製品，例如有機發光顯示器件、液晶顯示器件、非晶矽太陽能電池板等，其生產都需要利用玻璃等作為基片，在基片上進行多種工序進而形成多層薄膜，工藝步驟中涉及的鍍膜、光刻、蝕刻等工藝會產生粉塵附著在基片上，進而影響基片的清潔度，基片的清潔度對產品的質量有著重大影響。因此，在於鍍膜、光刻及蝕刻等步驟中必須貫穿有清洗步驟，以維持基片在生產過程中的表面清潔度。
以oled(organiclight-emittingdiode，即有機發光二極體)為例，oled的製造一般都在玻璃基片上進行多次工藝步驟，進而在基片上相繼沉積多層薄膜，其膜層主要包括在玻璃基片上形成的透明陽極，在陽極上依次沉積空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層和電子注入層，最後是金屬陰極層；在上述各個工藝步驟中若基片上沉積有粉塵，在下一膜層的形成過程中會將其覆蓋，從而影響膜層的厚度和均勻性，進而影響後續的工藝質量，最終使oled的質量降低。
可見所述基片的清潔起著舉足輕重的作用，因此需要一種基片清洗裝置，對所述基片進行高效清洗的同時也能保證所述基片的高清潔度。
圖1a是範例性的噴嘴清洗立體示意圖、圖1b是範例性的噴嘴清洗過程正面示意圖、圖1c是範例性的噴嘴清洗結果正面示意圖。如圖所示，於範例性的清洗設備中，裝設於噴管pp上的噴嘴n時常會因為裝設時對準不方便形成中心c』偏移的現象，進而導致噴嘴n噴出的清潔流體f』有方向不一致的情形。
噴嘴n噴出的清潔流體f』方向若不一致，則在清洗過程中則會如圖1b所示，有c』中心偏移影響清潔流體f』噴至基板g的清洗面積不一致的問題，進而導致圖1c的清洗結果，亦即清洗力道不均導致基板g上的微塵粒子pa清洗不完全。
為了解決上述技術問題，本發明提供一種噴嘴調整工具，所述噴嘴調整工具可透過簡易的操作將裝設於同一噴管上的多個噴嘴調整至一致的方向與角度，使噴灑均勻解決清洗不完全的問題。
在本發明的一實施例中，一種噴嘴調整工具1，其結構如圖2所示，包括：一調整片體10；一噴管定位單元11，包括有設置於所述調整片體10上成對對稱的噴管定位孔111，以及用以穿設所述噴管定位孔111的二個噴管定位栓112；以及一噴嘴定位單元12，包括有設置於調整片體10中心的一噴嘴定位孔121以及同心設置於所述噴嘴定位孔外圍的一角度固定部122，所述角度固定部122為一可與所述調整片體10同心相對旋轉的轉盤結構，所述角度定位部122的邊緣與所述調整片體10於對應位置設置有角度輔助刻度1221，所述角度固定部122並設置有二個對稱的角度定位孔1222和二個對稱的角度定位栓1223，當所述角度定位栓1223穿設所述角度定位孔1222並迫緊時，將所述角度定位部122與所述調整片體10的相對角度固定於一預定角度。
在一實施例中，本發明所述噴嘴定位孔121依序套設於一噴管pp的多個噴嘴n(如圖1a所示)，且同時該些噴管定位栓112依序夾設於所述噴管pp的多個位置，使該些噴嘴n排列一致。
在一實施例中，本發明所述調整片體10為六角形的型態，所述噴管定位孔111成對以對稱的沉頭孔型態設置於六角形對角的連線上。
在一實施例中，本發明所述噴管定位孔111與所述噴管定位栓112設置有相對應的公螺紋及母螺紋結構。
在一實施例中，本發明所述噴嘴定位孔121為六角螺帽孔。
在一實施例中，本發明所述角度定位孔1222為兩個對稱且同心設置於噴嘴定位孔121外圍的弧線型態沉頭孔。
在一實施例中，本發明所述角度定位孔1222與角度定位栓1223設置有相對應的公螺紋及母螺紋結構。
在一實施例中，本發明所述噴嘴調整工具1以金屬材質或塑料材質製成。
接下來敬請參閱圖3a與圖3b，圖3a是本發明實施噴嘴調整的調整方法上方示意圖、圖3b是本發明實施噴嘴調整的調整方法下方示意圖。
如圖3a及圖3b所示，在本發明的一實施例中，一種噴嘴調整方法，包括：提供一如上述的噴嘴調整工具1；將多個噴嘴n裝設於一噴管pp的多個噴嘴接頭上；以及將所述噴嘴定位孔121依序套設於所述噴管pp的多個噴嘴n，且同時將該些噴管定位栓112依序穿設於所述噴管定位孔111以夾設於所述噴管pp的多個位置。
在本發明上述的調整方法如圖3b所示，相同組件標示相同組件符號，將所述噴嘴定位孔121依序套設於所述噴管pp的多個噴嘴n，且同時將該些噴管定位栓112依序夾設於所述噴管pp的多個位置的步驟包括：將所述噴嘴定位孔121套設於所述噴嘴n上；旋轉所述調整片體10，使所述噴管定位孔111旋轉至所述噴管pp外緣；迫緊所述角度定位栓1223使所述角度定位部122與所述調整片體10的相對角度固定於一預定角度，並穿設噴管定位栓112用以設定管徑；以及將裝設於噴管pp上的多個噴嘴n調整排列一致，使多個噴嘴n噴灑的方向相同。
利用本發明所述噴嘴調整工具使用的調整方法調整過的清洗設備，其噴嘴清洗過程與噴嘴清洗結果敬請參閱圖4a與圖4b，圖4a是本發明的噴嘴清洗過程正面示意圖、圖4b是本發明的噴嘴清洗結果正面示意圖。
如圖4a所示，經上述的噴嘴調整工具使用的調整方法調整過的清洗設備，所述噴嘴n裝設於噴管pp上的中心c均方向角度一致，因此由噴嘴n噴出的清洗流體f方向角度也會均勻一致，如此一來，在清洗基板g時，基板g上面的粉塵粒子pa就會被均勻的清洗，有效降低清洗不完全的情形發生。
本發明可透過簡易的操作將同一清洗噴管上的多個噴嘴調整到一致的方向與角度，使噴嘴的噴灑均勻進而達到更佳的清洗效果。
「在一些實施例中」及「在各種實施例中」等用語被重複地使用。所述用語通常不是指相同的實施例；但它亦可以是指相同的實施例。「包含」、「具有」及「包括」等用詞是同義詞，除非其前後文意顯示出其它意思。
以上所述，僅是本發明的較佳實施例而已，並非對本發明作任何形式上的限制，雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本發明，任何熟悉本專業的技術人員，在不脫離本發明技術方案範圍內，當可利用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發明技術方案的內容，依據本發明的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本發明技術方案的範圍內。