掩模對位裝置及其對位方法
2023-04-25 04:17:36 3
專利名稱：掩模對位裝置及其對位方法
技術領域：
本發明涉及一種掩模對位裝置及其對位方法，屬於有機電致發光元件的製造領域。
背景技術：
有機電致發光元件(OLED)因其視角廣、成本低、製造工藝簡單、解析度高及自備發光等特點，備受關注，並被視為使下一代的平面顯示器新興應用技術。在製造有機電致發光元件的真空蒸鍍裝置方面，在底部設置盛放有機材料的坩堝，在坩堝的外面設置使用有機材料加熱、蒸發的加熱器。在蒸鍍裝置中，設置與坩堝相對配置的夾頭以及包夾玻璃基板的絕緣部件而使該基板安裝保持在夾頭的底面的基板夾具。掩模組件包括掩模板及掩模框架，夾頭是用於維持玻璃基板為平面狀的平板，在基板夾中設置升降機構，並在升降機構上設有夾具，通過夾具固定掩模框架，使其相對於基板的位置偏差控制在一定範圍內，具有局限性。升降夾具，使掩模組件靠近基板。而且在製造有機發光元件時，在基板上，每IOum寬度的像素必須將紅、綠、藍的發光部並列，各像素的位置精度必須為±5um的程度；有由於蒸鍍過程中，溫度不斷升高，受板材受熱膨脹的影響，掩 模組件會相對於基板產生位置偏差，因此對真空蒸鍍裝置掩模的位置精度要求很高。掩模組件上蒸鍍設備時是通過掩模板上的定位點與基板進行對位，由於掩模框架的位置調試範圍存在局限性，掩模板又焊接在掩模框架上，使得僅僅通過掩模板定位點與基板進行對位無法滿足位置進度要求，必須保證掩模板與掩模框架的位置偏差也要控制在一定範圍內。而目前在蒸鍍用掩模板的製造領域，掩模板的組裝設備無法做到掩模板與掩模框架高效、高精度對位。
發明內容
本發明提供一種掩模對位裝置及相關對位方法，能夠使掩模板與掩模框架精確對位，並使其位置偏差控制在± 15 μ m內。針對以上問題，本發明提出以下方案:
一種掩模對位裝置，用於對位掩模板和掩模框架，其特徵在於:包括基臺、銷釘、拉動裝置，所述掩模板、所述掩模框架、所述銷釘和所述拉動裝置均位於基臺上，所述掩模板和所述掩模框架上分別具有對位孔，所述銷釘可以通過所述拉動裝置微調其位置。所述掩模板上的對位孔形狀與所述掩模框架上的對位孔形狀相同、數量相等、大小相等。優選的，所述對位孔可以是方孔、圓弧孔等形狀，所述掩模板和所述掩模框架上的對位孔至少為兩個。所述基臺的內邊緣位於所述掩模框架的內邊緣裡側。所述銷釘可以在所述掩模框架的外邊框長度範圍內的任意位置，所述銷釘的個數至少為三個。當所述掩模框架一邊中的銷釘為一個時，銷釘位於掩模框架該邊的中間位置。當所述掩模框架一邊中的銷釘為兩個時，兩個銷釘關於掩模框架該邊的中點對稱。優選的，所述掩模框架外邊框上至少有兩條邊有銷釘。一種掩模對位方法，其特徵在於，使用上述掩模對位裝置實現。所述掩模對位方法，其特徵在於，步驟包括:將掩模框架放於對位基臺上，使其側面與銷釘相接觸；將掩模板水平放置在掩模框架上，保證二者緊密貼合；通過CCD準確捕捉掩模板及掩模框架上的對位孔；通過裝置自帶軟體讀出相對應的對位孔的最大偏差值；若差值超出± 15 μ m,調整銷釘；再次用CO) (Charge-coupled Device,電荷f禹合元件)捕捉掩模板及掩模框架上的對位孔，讀取兩組對位孔之間相對偏差值；重複讀取兩組對位孔的偏差值，直至控制在± 15 μ m。本發明的對位裝置及配套的對位方法能夠使掩模板與掩模框架精確對位，並使其位置偏差控制在± 15 μ m。
下面結合附圖對本發明的具體實施方式
作進一步詳細的說明。圖1掩模對位裝置的結構示意圖。其中:1、2為掩模框架對位孔；3為掩模框架；4為對位基臺；5、6、7均為銷釘。圖2為掩模對位裝置的俯視圖。圖3為掩模板與掩模框架對位不意圖。其中:11為掩模板；12為掩模板開口 ；13、14為掩模板對位孔。圖4為對位孔的偏差示意圖。其中:13、14為掩模板對位孔；1、2為掩模框架對位孔；L為I與13的最大位置偏差，2與14的最大位置偏差與此相同。 圖5為掩模對位方法的流程圖。
具體實施方式
實施例圖1、圖3和圖4所示將掩模框架3放於對位基臺4上，使其側面與銷釘5、6、7相接觸；再將掩模板11水平放置在掩模框架3上，保證二者緊密貼合；通過CCD準確捕捉掩模板及掩模框架3上的對位孔13、14和對位孔1、2 ;通過裝置自帶軟體讀出相應的兩對兩孔對位孔I和13、以及2和14的最大偏差值L，即過圓心做直線，兩孔同側邊緣在該直線上的距離；若差值超出±15 μ m，調整銷釘然後再用CXD捕捉掩模板及掩模框架上的相應的對位孔I和13、以及2和14，再次讀取兩組對位孔之間相對偏差值L ;像這樣重複微調讀取，直至L控制在±15μπι。以上實施例目的在於說明本發明，而非限制本發明的保護範圍，所有在不違背本發明精神原則的條件下做 出的簡單變換均落入本發明的保護範圍內。
權利要求
1.一種掩模對位裝置，用於對位掩模板和掩模框架，其特徵在於:包括基臺、銷釘、拉動裝置，所述掩模板、所述掩模框架、所述銷釘和所述拉動裝置均位於基臺上，所述掩模板和所述掩模框架上分別具有對位孔，所述銷釘可以通過所述拉動裝置微調其位置。
2.根據權利要求1所述的掩模對位裝置，其特徵在於，所述掩模板上的對位孔形狀與所述掩模框架上的對位孔形狀相同、數量相等、大小相等。
3.根據權利要求2所述的掩模對位裝置，其特徵在於，所述對位孔可以是方孔、圓弧孔等形狀。
4.根據權利要求1或2所述的掩模對位裝置，其特徵在於，所述掩模板和所述掩模框架上的對位孔至少為兩個。
5.根據權利要求1所述的掩模對位裝置，其特徵在於，所述基臺的內邊緣位於所述掩模框架的內邊緣裡側。
6.根據權利要求1所述的掩模對位裝置，其特徵在於，所述銷釘可以在所述掩模框架的外邊框長度範圍內的任意位置，所述銷釘的個數至少為三個。
7.根據權利要求6所述的掩模對位裝置，其特徵在於，當所述掩模框架一邊中的銷釘為一個時，銷釘位於掩模框架該邊的中間位置。
8.根據權利要求6所述的掩模對位裝置，其特徵在於，當所述掩模框架一邊中的銷釘為兩個時，兩個銷釘關於掩模框架該邊的中點對稱。
9.根據權利要求1所述的掩模對位裝置，其特徵在於，所述掩模框架外邊框上至少有兩條邊有銷釘。
10.一種掩模對位方法，其特徵在於，使用上述掩模對位裝置實現。
11.根據權利要求9所述的掩模對位方法，其特徵在於，步驟包括:將掩模框架放於對位基臺上，使其側面與銷釘相接觸；將掩模板水平放置在掩模框架上，保證二者緊密貼合；通過CCD準確捕捉掩模板及掩模框架上的對位孔；通過裝置自帶軟體讀出相對應的對位孔的最大偏差值；若差值超出± 15 ym，調整銷釘；再次用CCD捕捉掩模板及掩模框架上的對位孔，讀取兩組對位孔之間相對偏差值；重複讀取兩組對位孔的偏差值，直至控制在± 15 u m0
全文摘要
本發明涉及一種掩模對位裝置及其對位方法，掩模框架3放於對位基臺4上，使其側面與銷釘5、6、7相接觸；再將掩模板11水平放置在掩模框架3上，保證二者緊密貼合；通過CCD準確捕捉掩模板11及掩模框架3上的對位孔13、14和對位孔1、2；通過裝置自帶軟體讀出兩孔對位孔1與13、2與14的最大偏差值L；若差值超出±15μm，調整銷釘然後再用CCD捕捉掩模板及掩模框架上的對位孔1和13、以及2和14，再次讀取兩組對位孔之間相對偏差值L；像這樣重複微調讀取，直至L控制在±15μm。本發明能夠使掩模板與掩模框架精確對位，並使其位置偏差控制在±15μm內。
文檔編號C23C14/24GK103205694SQ201210010748
公開日2013年7月17日 申請日期2012年1月16日 優先權日2012年1月16日
發明者魏志凌, 高小平, 鄭慶靚 申請人:崑山允升吉光電科技有限公司