鍍膜件的製備方法及由該方法製得的鍍膜件的製作方法
2023-05-22 08:59:26 1
專利名稱：鍍膜件的製備方法及由該方法製得的鍍膜件的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種鍍膜件的製備方法及由該方法製得的鍍膜件。
背景技術：
為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，目前主要通過陽極氧化、烤漆、烤瓷等エ藝製備裝飾塗層。相比這些傳統エ藝，PVD鍍 膜技術更加綠色環保，且採用PVD鍍膜技術可在產品外殼表面形成具有金屬質感的裝飾色彩層。然而現有技術中，利用PVD鍍膜技術於外殼表面形成的膜層的色彩非常有限，目前能夠廣泛製備和使用的PVD膜層主要為金黃色、黒色、藍色等色系。白色作為ー種經典的顔色，目前業界較難通過PVD鍍膜技術獲得，因而利用PVD鍍膜技術獲得穩定的白色膜層ー直是業界研究的焦點。
發明內容
有鑑於此，有必要提供ー種白色的PVD鍍膜件的製備方法。另外，還有必要提供ー種由上述方法所製得的鍍膜件。一種鍍膜件的製備方法，其包括如下步驟
提供基材，該基材為透明的玻璃；
採用濺射法在該基材的表面形成預製層A，該預製層A為氧化鋁層或氮化鋁層；
繼續採用濺射法在預製層A的表面形成預製層B，該預製層B為鋁、鉻或鈦層；
利用氬氣等離子體轟擊基材鍍有預製層A和預製層B的表面，直到預製層B將要完全剝尚;
重複上述濺鍍預製層B和氬氣等離子體轟擊的步驟以使預製層A形成一色彩層，未被氬氣等離子體轟擊掉的預製層B形成一金屬層，該色彩層透過所述基材於CIE Lab表色系統顯示的L*坐標介於83至88之間，a*坐標介於-O. 5至O. 5之間，b*坐標介於-O. 5至
O.5之間。—種鍍膜件，其包括基材、形成於基材一表面的色彩層及形成於色彩層表面的金屬層，該基材為透明的玻璃，該色彩層為氧化鋁層或氮化鋁層，該金屬層為鋁、鉻或鈦層，該色彩層透過所述基材於CIE Lab表色系統顯示的L*坐標介於83至88之間，a*坐標介於-O. 5至O. 5之間，b*坐標介於-O. 5至O. 5之間。本發明所述鍍膜件的製備方法在形成色彩層時，先在基材沉積預製層A，再濺射沉積預製層B，然後利用高能氬氣等離子體轟擊基材的鍍膜面，從而在透明的基材上製備獲得色彩層，該色彩層性能穩定，透過透明的基材觀察所述色彩層呈現白色，使所述鍍膜件呈現白色外觀，豐富了真空鍍膜層的顔色，提高了產品的外觀競爭力；且所述色彩層的顏色透過透明的基材而顯示，使用時形成有色彩層的表面通常作為內表面，可有效避免色彩層的磨損刮擦。所述色彩層的製備方法エ藝簡單，易於操作，綠色環保。
圖I為本發明一較佳實施例鍍膜件的剖視 圖2為本發明一較佳實施例真空鍍膜機的俯視示意圖。主要元件符號說明
權利要求
1.一種鍍膜件的製備方法，其包括如下步驟 提供基材，該基材為透明的玻璃； 採用濺射法在該基材的表面形成預製層A，該預製層A為氧化鋁層或氮化鋁層； 繼續採用濺射法在預製層A的表面形成預製層B，該預製層B為鋁、鉻或鈦層； 利用氬氣等離子體轟擊基材鍍有預製層A和預製層B的表面，直到預製層B將要完全剝尚; 重複上述濺鍍預製層B和氬氣等離子體轟擊的步驟以使預製層A形成一色彩層，未被氬氣等離子體轟擊掉的預製層B形成一金屬層，該色彩層透過所述基材於CIE Lab表色系統顯示的L*坐標介於83至88之間，a*坐標介於-0. 5至0. 5之間，b*坐標介於-0. 5至0.5之間。
2.如權利要求I所述的鍍膜件的製備方法，其特徵在於所述濺射預製層A的步驟的具體工藝參數為以氬氣為工作氣體，氬氣流量為lOOlOOsccm;以氧氣或氮氣為反應氣體，氧氣或氮氣的流量10(T500SCCm ;使用鋁靶，鋁靶的功率為5 13kW，施加於基材的偏壓為-1(T-50V，鍍膜溫度為10(Tl80°C，鍍膜時間為2(T30min。
3.如權利要求I所述的鍍膜件的製備方法，其特徵在於所述預製層A的厚度為80 120nm。
4.如權利要求I所述的鍍膜件的製備方法，其特徵在於所述濺射預製層B的步驟的具體工藝參數為以氬氣為工作氣體，氬氣流量為lOOlOOsccm，使用金屬靶，金屬靶的材質為鋁、鉻或鈦，金屬靶的功率為8 llkW，施加於基材的偏壓為-5(T-100V，鍍膜溫度為10(Tl80°C，鍍膜時間為15 20min。
5.如權利要求I所述的鍍膜件的製備方法，其特徵在於預製層B的厚度為200 250nm。
6.如權利要求I所述的鍍膜件的製備方法，其特徵在於所述氬氣等離子體轟擊的步驟的具體工藝參數為施加於基材的偏壓為_20(T-600V，氬氣的流量lOOlOOsccm，轟擊的時間為45 70min。
7.如權利要求I所述的鍍膜件的製備方法，其特徵在於所述重複濺鍍預製層B和氬氣等離子體轟擊的步驟的次數總共為3飛次。
8.如權利要求I所述的鍍膜件的製備方法，其特徵在於該色彩層透過所述基材觀察呈現白色。
9.一種鍍膜件，其包括基材、形成於基材一表面的色彩層，其特徵在於該鍍膜件還包括形成於色彩層表面的金屬層，該基材為透明的玻璃，該色彩層為氧化鋁層或氮化鋁層，該金屬層為鋁、鉻或鈦層，該色彩層透過所述基材於CIE Lab表色系統顯示的L*坐標介於83至88之間，a*坐標介於-0. 5至0. 5之間，b*坐標介於-0. 5至0. 5之間。
10.如權利要求9所述的鍍膜件，其特徵在於該色彩層的厚度為8(Tl20nm。
11.如權利要求9所述的鍍膜件，其特徵在於該色彩層為晶態。
12.如權利要求9所述的鍍膜件，其特徵在於該色彩層透過所述基材觀察呈現白色。
13.如權利要求9所述的鍍膜件，其特徵在於該金屬層的厚度為3(T50nm。
全文摘要
本發明提供一種鍍膜件的製備方法，其包括如下步驟提供基材，該基材為透明的玻璃；採用濺射法在該基材的表面形成預製層A，該預製層A為氧化鋁層或氮化鋁層；繼續採用濺射法在預製層A的表面形成預製層B，該預製層B為鋁、鉻或鈦層；利用氬氣等離子體轟擊基材的鍍膜面，直到預製層B將要完全剝離；重複上述濺鍍預製層B和氬氣等離子體轟擊的步驟以使預製層A形成一色彩層，該色彩層透過所述基材觀察呈現白色。所述鍍膜件的製備方法穩定可靠且環保。本發明還提供一種上述方法製得的鍍膜件。
文檔編號C23C14/08GK102747322SQ201110101789
公開日2012年10月24日 申請日期2011年4月22日 優先權日2011年4月22日
發明者張新倍, 戴龍文, 林順茂, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司