一種金屬母版直接拷貝法製作雲紋光柵的方法

2023-05-14 22:04:31 2

專利名稱：一種金屬母版直接拷貝法製作雲紋光柵的方法
技術領域：
本發明涉及一種金屬母版直接拷貝製作雲紋光柵的方法，屬光學技術領域。
背景技術：
雲紋幹涉法是現代光測力學的新領域。雲紋幹涉法由於具有高靈敏度、大量程、非 接觸、全場和實時觀測等顯著優點而受到廣泛重視，並在材料科學、無損檢測、斷裂力學、細 觀力學、微電子封裝等領域獲得了成功應用，因而被譽為八十年代以來實驗力學領域中的 最重要發展。由於雲紋幹涉法是以複製在試件或構件表面的雲紋光柵作為試件變形的傳感 元件，因而高質量、高靈敏度和高精度而又易於複製和轉移的雲紋光柵便成為雲紋幹涉法 推廣應用的關鍵性元件。雲紋光柵是形成雲紋圖像並影響圖像質量的關鍵光學元件，採用 何種方法製作光柵是首先要解決的問題。 目前，製作雲紋光柵的方法很多，例如機械刻法、放大複製法、真空拷貝法、電子束 刻蝕法等。機械刻化法切削刀具不可避免地會出現刀具磨損和崩屑現象，柵線邊界參差不 齊，節距誤差較大。繪圖機法成本很高，柵線粗細不均勻。採用母版放大複製法，由於原版 的誤差及缺陷被線性放大，母版必須是質量非常高的平晶光刻模版，同時必須在超淨的環 境下製作，又由於放大時的衍射效應，柵線的清晰度和對比度都會受到影響。近年來還有應 用電子束刻蝕技術並結合真空鍍膜技術製作電子束雲紋光柵的方法，提出三鍍層製作雙頻 電子束雲紋光柵的新工藝。

發明內容
本發明的目的是，根據現有雲紋光柵製作方法存在的諸多缺點，本發明提供一種
工藝方法簡單、成本低廉、所製作的光柵質量好的雲紋光柵製作方法。 實現本發明的技術方案是 本發明採用金屬母版直接拷貝法，是將母版一比一拷貝在超微粒幹版上，再經過 適當的顯影處理，從而獲得雲紋光柵。 本發明的具體方法是，準備一塊基準平臺(3)，調整水平，將平整的彈性尼龍(2) 墊鋪在基準平臺上，用乾淨的黑平絨布(8)蓋在彈性尼龍墊上面，然後把超微粒幹版(7)放 在黑平絨上，塗有乳劑的面朝上，最後將金屬母版(1)輕放在超微粒幹版上面。由於最底層 的彈性尼龍(2)墊有彈性，金屬母版(1)可與超微粒幹版(7)乳劑面接觸，消除掉金屬母版 與感光膜間的間隙引起的節距誤差。在金屬母板(1)的垂直正上方設置點光源(4)，點光源 發出的白光經過透鏡組轉換為平行光照射到金屬母版上，通過選擇合理的曝光時間將金屬 母版直接拷貝在超微粒幹版上形成雲紋光柵，所製作出的光柵具有柵線對比度清晰、節距 均方差小等優點，且工藝方法簡單、成本低廉。 本發明與現有技術比較的有益效果是，本方法與現有的採用計算機方法處理製作 雲紋光柵相比，簡單價廉，只採用極簡單的方法便可獲得化數千倍價格方能獲得的雲紋光 柵，而且獲得的雲紋圖象柵線清晰、節距均方差小。
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本發明適用於雲紋光柵的製作，尤其是對於單件或數量少的雲紋光柵製作更經濟 適用。


附圖為金屬母版直接拷貝法製作雲紋光柵示意圖。 圖中圖號為:(1)金屬母版;(2)彈性尼龍;(3)基準平臺;(4)光源;(5)透鏡;(6) 隔罩;(7)超微粒幹版;(8)黑平絨。
具體實施例方式
本發明實施例的製作方法如附圖所示。 在已校水平的基準平臺(3)上鋪設平整的彈性尼龍(2)，再在彈性尼龍(2)上蓋上
乾淨的黑平絨(8)，然後把超微粒幹版(7)放在黑平絨(8)上，塗有乳劑的面朝上，最後將金
屬母版(1)輕放在超微粒幹版(7)上面。由於最底層的彈性尼龍墊有彈性，金屬母版可與
超微粒幹版乳劑面接觸，消除掉金屬母版與感光膜間的間隙引起的節距誤差。 在金屬母板(1)的垂直正上方設置點光源(4)，點光源(4)發出的白光經過透鏡
組(5)轉換為平行光照射到金屬母版(1)上，通過選擇合理的曝光時間將金屬母版直接拷
貝在超微粒幹版上形成雲紋光柵，所製作出的光柵具有柵線對比度清晰、節距均方差小等
優點，且工藝方法簡單、成本低廉。
權利要求
一種金屬母版直接拷貝製作雲紋光柵的方法，其特徵在於，所述方法採用金屬母版直接拷貝法，將母版一比一拷貝在超微粒幹版上，再經過適當的顯影處理，從而獲得雲紋光柵。
2. 根據權利要求1所述的一種金屬母版直接拷貝製作雲紋光柵的方法，其特徵在於， 所述方法為在調整水平的基準平臺(3)，將平整的彈性尼龍墊(2)鋪在基準平臺上，用乾淨的黑平 絨布(8)復蓋在彈性尼龍墊(2)上面，然後把超微粒幹版(7)放在黑平絨(8)上，塗有乳劑 的面朝上，最後將金屬母版(1)輕放在超微粒幹版(7)上面；在金屬母板(1)的垂直正上方 設置點光源(4)，點光源發出的白光經過透鏡組(5)轉換為平行光照射到金屬母版上，通過 選擇合理的曝光時間將金屬母版直接拷貝在超微粒幹版上形成雲紋光柵。
全文摘要
一種金屬母版直接拷貝製作雲紋光柵的方法，該方法採用金屬母版直接拷貝法，將母版一比一拷貝在超微粒幹版上，再經過適當的顯影處理，從而獲得雲紋光柵。所述方法為在調整水平的基準平臺(3)，將平整的彈性尼龍墊(2)平鋪在基準平臺上，用乾淨的黑平絨布(8)復蓋在彈性尼龍墊上面，然後把超微粒幹版(7)平放在黑平絨(8)上，塗有乳劑的面朝上，最後將金屬母版(1)輕放在超微粒幹版上面；在金屬母板的垂直正上方設置點光源(4)，點光源發出的白光經過透鏡組(5)轉換為平行光照射到金屬母版上，通過選擇合理的曝光時間將金屬母版直接拷貝在超微粒幹版上形成雲紋光柵。本發明適用於雲紋光柵的製作。
文檔編號G03F7/00GK101706592SQ200910186610
公開日2010年5月12日 申請日期2009年12月2日 優先權日2009年12月2日
發明者吳祿慎, 孟凡文, 王莉 申請人:南昌大學