用於塗覆平坦基底的一側或兩側的伸長真空系統的製作方法

2023-05-11 17:15:31 4

專利名稱：用於塗覆平坦基底的一側或兩側的伸長真空系統的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種用於對平坦基底的一側或兩側施加塗層的伸長真空系統，基底能夠利用輸送系統在輸送平臺內移動通過真空系統。真空系統包括至少一個設有磁控管周圍區域的磁控管，並且被能夠閉合的隔離壁沿基底的輸送方向被分成連續的隔間，隔離壁上具有抽吸口，磁控管能夠被位於隔間上的真空連接裝置直接排空或者被隔離壁上的抽吸口間接排空。至少一個隔間包括位於基底之上的上方局部隔間，所述局部隔間在其至少其中一個外壁上包括能夠閉合的上開口。
背景技術：
在公開文本EP 1 179 516 A1中公開了一種塗覆系統，能夠在基底通過系統的一次輸運過程中對平坦基底的兩側進行塗覆塗層。在基底上方和下方同時設置的靶利用輸送系統通過塗覆系統，能夠在子隔間內對兩側基底表面進行同時塗覆。同時，儘管塗覆空間被突出進來的隔板分成幾個子隔間，塗覆過程仍然可以僅在具有相同或類似氣氛的子隔間內進行操作。
對於處理氣氛彼此顯著不同的塗覆系統的同時操作，目前尚沒有普遍獲知將塗覆系統進一步細分為數個分別排空的子隔間，也沒有獲知將系統分隔為塗覆子隔間和排出子隔間。在歐洲專利EP 783 174大概介紹了這種塗覆系統。其實質特徵是，在基底輸送方向具有大量彼此相鄰的子隔間，其一同構成真空腔室，並且彼此通過通道相連，該通道形成用於平坦基底的輸送平臺。通常，鄰接的塗覆子隔間每個都具有陰極，塗覆子隔間被至少一個排出子隔間隔開。排出子隔間和塗覆子隔間之間的側隔離壁包括抽吸口，通過抽吸口，利用相連的真空泵直接排空塗覆子隔間。
當將兩個相鄰的塗覆子隔間被僅一個排出子隔間隔開時，從輸送方向看，該位置的真空泵從而將前後的塗覆子隔間排空。由此，在排出子隔間反方向的兩股氣流彼此相遇，導致產生渦流，並且對於排出過程有不利影響，而且真空泵的性能價值下降。
如果利用不同的濺射氣氛操作不同的塗覆子隔間，需要在排出子隔間旁邊設置與真空泵相連的其它子隔間，這些子隔間用作壓力工段或者用於氣體隔開。在這種情況下，由於其它需要的子隔間，塗覆系統被延長，導致縱向很長的系統，當彼此相鄰設置多個不同的濺射氣氛、濺射動力和/或陰極材料時，系統具有大的排出體積。
在該系統的其它發展中，其在專利說明書DE 197 33 940中有述，利用橫向於輸送方向設置的橫向隔離壁，與塗覆子隔間相比，排出子隔間被縮短，並且在中心被分開，因此，通過橫向隔離壁內的適當凹槽和對應設置的擋板，根據對擋板的調節，橫向隔離壁上方系列布置的真空泵將在前的或者在後的塗覆子隔間排空。通過調節擋板，泵的不對稱(交替)分布產生了壓力梯度，從而在相鄰的、間接被排空的塗覆子隔間內濺射條件產生變化。
還在這種布置中，塗覆子隔間通常在排出子隔間後，因此兩個子隔間表現出不同的尺寸。相應的，對於每類子隔間具有不同尺寸的開口形成在每個子隔間的上壁內，該上壁或者保持真空泵或者保持蓋。在每個蓋上可安裝包括屏幕、和介質提供和排出裝置的陰極，可連同蓋一起除去陰極，蓋包括它的陰極包圍物。同時，已經證明，由於每個塗覆系統中各子隔間的不同尺寸，因此不能改變所述子隔間的序列是很有利的。
在至少一個位於要被分開的塗覆子隔間和與之相鄰的排出子隔間之間的一個塗覆子隔間內，省略陰極及其陰極環境，以便實現用於操作具有不同濺射條件的系統的氣體隔開。此外，擋板這樣放置在相鄰的排出子隔間內，兩個泵將位於其間的分離子隔間排空。結果，並且如上所述，由於下一列泵中的每個第二個泵排空氣體隔開之前和之後的塗覆子隔間，在挨著用於氣體隔開的子隔間定位的塗覆子隔間內的泵動力顯著減小，這導致兩子隔間間的濺射條件相背離。

發明內容
因此，本發明的任務是提供一種伸長的塗覆系統，其被靈活設計成，對於系統內的處理循環，用於不同的一側和兩側塗覆處理需求，從而確保一個穩定的、可區分的並且處理被最優化的濺射氣氛。
本發明這樣解決該任務，在其中一個上方局部隔間內安裝至少水平和/或豎直的部件，用於將上方局部隔間細分成多個子隔間。
與本發明相應，對於其中一個可能的功能，例如用於塗覆、排出或氣體隔開的子隔間，所述局部隔間表現出沒有固定的狀態。而且，通過安裝或拆解這些水平和豎直部件，特別是通過可閉合的上部開口，每個局部隔間的設置被啟動，用於在單個系統內可以變化的這些功能中的一個，而不會使系統的成本提高，綜合轉換的時間延長。
對於真空系統的靈活設計選擇，由於上述的水平和豎直部件能夠拆卸，本發明的任務能滿足特定的要求，使用者自己可不僅條件相應的設備還可調節開口的相應閉合，而且通過各子隔間的可變分離，單個系統可被調節而滿足他的不同技術要求。
同時，對應於計劃的塗覆結果，彼此相隨的處理子隔間的順序幾乎可以自由選擇，而不會被與系統相關的條件所固定。這樣，通過將局部隔間不定的細分為例如兩個子隔間，特別是泵和用於氣體隔開的子隔間可以被增加到一定的程度。
所述的不定的細分特別有優勢，因為它滿足了穩定、可區分並且過程最優化的濺射氣氛的要求。這樣因此，例如，兩個相鄰子隔間中僅一個被通過閉合隔離壁上的抽吸口而被排空。此外，還防止真空泵中抽吸動力降低，否則會引起通過彼此相對的局部隔間的兩股氣流彼此相遇並且產生渦流而脫離彼此相對的局部隔間。在隔間內可以具有不同的處理氣氛和對特定部件進行塗覆，而且可以維持穩定性，該穩定性與本發明的任務的重要方面相關。
相應於本發明特別有利的實施例，可以在輸送平臺下方設置由分隔壁形成的至少一個其它的下部隔間，所述下部隔間在至少其中一個外壁上具有可閉合的下部開口，在每個分隔壁上具有可閉合的抽吸口。
在每個子隔間內，移動經過系統的平坦基底將輸送平臺上方的空間與輸送平臺下方的空間分開，由此，輸送平臺作為基底在其中移動的平臺。為了在兩側進行基底塗覆，因此在輸送平臺下面可形成塗覆空間。通過這樣的事實，即，特別是如果該空間能夠對應本發明的其它設計，而也具有安裝的水平和/或豎直部件，以這種方式形成的兩個空間子隔間被如此設計，使得以同等的方式作為上方局部隔間進行變化，為以上述方式進行的下側塗覆提供穩定的、可區分的並且處理最優化的濺射氣氛以及可以變化的塗覆參數。
因此，真空泵或者可以與下方局部隔間連接，下方局部隔間獨立於在基底之上定位的上方局部隔間設備，或者配備有至少一個磁控管，由此，以這種方式配備的子隔間的基底下方空間對於排空真空系統或者對於在完整循環內的下側塗覆及由此進行的兩側塗覆都是有用的。
在標準安裝中，如果包括磁控管周圍區域的磁控管通過上方和/或下方外壁上的開口進行安裝，並且真空連接裝置位於側面的外壁的開口內，已經證明這是很實用的。但是，可以完全取代開口的這種分配，或者取代各個局部隔間的這種開口分配，結果是磁控管能夠安裝在真空系統的側面。
從輸送方向看，對於特定的功能，或者對於至少同等的功能，例如氣體隔開，如果塗覆系統的特定子隔間安裝在輸送平臺的上方和下方，這被證明特別有利，由此，下方局部隔間與在輸送平臺之上和它相對的上方局部隔間，具有相同或至少類似的水平和/或豎直部件的設置。
通過這樣的事實，上方開口和下方開口，無論它們位於上方、下方還是側面的外壁內，都能被蓋閉合，並且至少一個包括磁控管周圍區域的磁控管能夠被安裝在蓋上，和/或真空連接裝置位於適當的位置，或者蓋可以僅用作閉合裝置，可以將單一的系統轉化為最廣泛用途的塗覆結構。而且，對應於本發明的另一個實施例，如果蓋具有彼此相同的尺寸並且因而能夠被彼此替換，這一優點能夠進一步發揚。這樣，通過更換蓋，即可容易地改變單獨的局部隔間的設備。
通過適當設置真空連接件、磁控管和閉合蓋，以及通過相應選擇塗覆參數或者分開不同塗覆條件下的子隔間，和通過適當的輸送系統，這種類型的不同真空腔室可以實現這樣的塗覆處理，其中，下側的基底能夠以同時地且獨立於基底上側的方式被塗覆。
然而，蓋的可替代性和一致尺寸無需要求其開口也具有相同的尺寸。通過有效的實施例，不同設計中的開口也可被具有相同尺寸的蓋封閉，但是本文中沒有通過提供改進的闡述來進行更詳細的說明。
另一方面，如果所有局部隔間的上方開口具有相同的尺寸，如在本發明的特別設置版本中遇到的，包括安裝部件的蓋能夠彼此替換，而不需要進一步轉換，這又提高了與本發明任務相應的塗覆系統的可變性。
同樣，從對應於本發明的真空系統的更高程度通用性方面來看，是否為一個或多個真空泵的連接、一個或多個磁控管或僅為了閉合開口來提供特定的蓋，或者是否通用的蓋方案通過相應的添加或轉換以允許這三種應用形式，都是自由的。
既然真空系統的寬度和開口的尺寸允許，以垂直於輸送方向的順序，在上方和下方外壁的開口內布置數個真空泵或者真空泵的連接裝置，這是可能的。是否由數個或僅一個蓋支撐成行的數個連接裝置，這取決於系統的尺寸和連接裝置所需的空間要求。
與本發明相應的其它實施例中，上方和/或下方局部隔間的至少側面外壁具有真空泵。這使得一個同等的可變系統，即使例如結構環境不允許系統在其下側配備磁控管或真空泵連接裝置，仍能夠進行工作。在這種情況下，通過側面的真空泵連接裝置，能夠實現局部隔間或者子隔間的排空，並且下側塗覆可以例如通過以特定方式從基底下面的上方開口的蓋所懸掛的磁控管實現。
對應於結構環境和可能的技術要求，閉合上方開口也是可能的。特別是，作為構造選擇，考慮可用於操作和維護的各個外壁前面的自由空間。
特別有利的實施例中，用於局部隔間的水平和/或豎直劃分的部件是平坦的。這是因為，特別在這種情況中，至少一個水平部件可能位於具有水平支撐表面的保持裝置上，該保持裝置出現在局部隔間的至少兩個相對壁上，即，側面的外壁和/或分隔壁。由於真空系統的壓力比，對於將局部隔間細分為本發明的子隔間，無需特別的密封系統。
在相鄰子隔間的塗覆參數沒有彼此太嚴重偏離的情況下，對於所述子隔間的大概的可能功能，將水平部件安裝到四周的壁上並且將其鬆動地定位在保持件上的常用安裝技術精度，對於有效細分局部隔間是足夠的。在這個方案中，僅用水平部件的重量進行固定而且，如果具有至少一個水平部件，與本發明的另一個實施例對應，利用接合件或者插入裝置固定豎直部件，所述接合裝置或者插入裝置在水平部件和上方或者下方外壁之間延伸，該上方或者下方外壁與水平部件直接相對，以這種方式能夠實現局部隔間的特別迅速和簡單的豎直細分。
在本發明的另一個有利實施例中，在蓋上具有固定部件，所述蓋封閉與水平部件相對的上方或者下方外壁內的上方或下方開口。將開口封閉後，這些固定部件將豎直部件固定在其位置上。通過水平部件上的接合件，布置所述的豎直部件，這是特別有利的，但是，另外也能夠在其它位置，由此利用綜合的密封系統，無需發生利用豎直部件形成的局部隔間的細分，常用安裝精度可能就足夠了。在這個方案中，通過放置在蓋上，即可簡單固定豎直部件。
對應於本發明其它優選實施例，遇到用於氣體隔開的子隔間的定位，因此以這種方式水平部件定位在至少一個局部隔間內，使得朝向圍繞輸送平臺將局部隔間的子隔間分開。
將該空間分開使得氣體隔開裝置定位在兩個局部塗覆腔室之間，該兩個腔室在不同的濺射氣氛下操作，由此連接這兩個塗覆腔室的輸送平臺也被排空。如果包圍輸送平臺的空間也被水平部件與其它局部隔間分開，該水平部件在輸送平臺下面的下方局部隔間內，在緊鄰基底的環境內產生通道，其用作流動阻擋，並進而防止相鄰局部隔間的氣氛補償。
而且，分開輸送空間也使得泵子隔間在基底上方和下方，以這種方式，能夠進行不同的操作。由於真空泵和磁控管的可變連接選擇，磁控管的位置使得在傳統的同等塗覆系統內彼此相鄰定位的兩個塗覆子隔間能夠承擔塗覆任務，各塗覆子隔間在本發明對應的系統的腔室內上下定位，因此允許減小系統的伸長情況。
在對應於本發明的另一個實施例中，如果至少一個局部隔間的水平和/或豎直部件具有額外的能夠閉合的抽吸口，證明這是特別有利的。在這種構造中，總是需要這樣，即，該子隔間是通過相鄰子隔間被間接排空的子隔間，或者輸送平臺被水平部件分開，並且位於該子隔間下方或上方的另一個子隔間作為將氣體隔開的裝置。
作為優選的特徵，如果腔室分隔壁內的抽吸口的尺寸和/或水平和/和豎直部件內的其它抽吸口的尺寸被設計成可精細調節的，可能進行精密調節的排空管理。例如，如果抽吸口的尺寸被設計成能夠自動調節，除了本發明的真空系統的靈活轉換外，在塗覆過程中也可以使濺射參數最優化。


現在根據實施例來詳細說明本發明，在附圖中圖1為示意圖，示出本發明塗覆系統的縱向部分；圖2為本發明塗覆系統的一部分的簡化縱向剖面圖。
標號代表的部件1 基底2 排空隔間3 塗覆隔間；3a，b，c 第一、第二、第三塗覆隔間4 分隔壁5 輸送平臺6 閘門7 上方外壁8 下方外壁9 側面外壁
10 上方開口11 蓋；11a 側面的蓋12 抽吸口13 輸送方向14 密封件15 磁控管16 真空泵或真空連接裝置17 水平部件18 上方局部隔間19 下方局部隔間20 豎直部件21 子隔間22 輸送輥23 下方開口24 保持件25 固定部件26 連接件具體實施方式
圖1中所示的延長的真空系統用於在通過該系統的一次循環過程中對平坦基底1進行雙側塗覆。真空系統由四個排空隔間2和三個塗覆隔間3組成，由分隔壁4將其彼此隔開。在輸送平臺5內利用未示出的輸送系統將基底1輸送通過塗覆系統，由此，進出塗覆系統以及從一個隔間進入下一個隔間的通道由閘門6實現，該閘門位於隔間的分隔壁4內。
在本實施例中，在上方外壁7及下方外壁8內的所有局部隔間具有上方開口和下方開口10、23，這些開口可以由尺寸相同的蓋11緊密封閉。排空隔間3還包括在蓋11a內的真空連接裝置16，蓋11a封閉側面外壁9內的開口，由此，在本實施例中，這些側面的蓋11a表現出與上方外壁和下方外壁7、8內開口的蓋11不同的側面幾何結構。而且，在輸送平臺5的上面和下面的每個分隔壁4內分別設有兩個抽吸口12。這些抽吸口順序排列並且平行於基底1，而且垂直於輸送方向13，能夠被密封件14緊密閉合。
從輸送方向看，第一塗覆隔間3a包括磁控管15，磁控管包括未示出的磁控管周圍區域，磁控管位於基底1的上方(向下濺射的位置)並且安裝在蓋11上，蓋11將上方外壁內的上方開口10封閉。第一塗覆子隔間3a被真空泵16間接排空，真空泵16在蓋11a上的兩個相鄰的排空隔間2內連接，蓋11a封閉輸送平臺5上方的側面外壁9內的開口。在示出的系統構造中，在輸送平臺5上方，第一塗覆隔間3a的分隔壁4內的抽吸口12完全打開，而在輸送平臺5下方，則被緊密封閉。
在第二塗覆隔間3b內，也包括這裡沒有示出的磁控管周圍區域的磁控管15以這種方式安裝在上方的蓋上，使得能夠進行向上濺射操作。為此目的，磁控管15與基底1的下側相對地放置，在第二塗覆隔間3b區間內的抽吸口12打開，用於通過真空泵16進行間接排空，真空泵16與兩個相鄰的排空隔間2相連。在第二塗覆隔間3b內，輸送平臺5上方的抽吸口12被密封件14緊密封住。
另一方面，第三塗覆隔間3c與第二塗覆隔間3b具有相同的構造。但是，第三塗覆隔間3c與第二塗覆隔間3b進行操作的濺射氣氛彼此不同。為了防止相互的汙染，在兩個隔間之間提供氣體隔開裝置。為此，利用在輸送平臺5上方和下方的平行於基底1布置的兩個水平部件17將輸送平臺5與排空隔間2分開。而下方的水平部件17緊密地封閉其下方且朝向輸送平臺5的局部隔間19，上方的水平部件17具有四個成兩行排列的抽吸口12，利用與上方局部隔間18的側面蓋11a相連的真空泵16，通過抽吸口將分開的輸送平臺5排空。抽吸口12通向上方局部隔間18的分隔壁4內的相鄰塗覆隔間3b和3c，由於上方局部隔間18起到分隔氣體的功能，因此抽吸口12被緊密封住。
通過同樣也作為氣體分隔裝置的排空隔間2，進行相鄰的第二和第三塗覆隔間2的排空。為此，在下方局部隔間19內設置額外的平行於分隔壁但是豎直運行的部件20，該局部隔間19被部件20分為兩個子隔間21。位於側面的外壁9內的每個開口在兩個子隔間21上方經過，密閉這些下方開口23的蓋11a分別具有兩個真空泵連接裝置16，在每個子隔間21內具有一個。
另外的排空隔間2形成所述真空系統的連接裝置，真空泵連接裝置16安裝在側面的下方開口23的蓋11a上。在所述實施例中，在真空泵連接裝置處，真空泵16一直與側面的外壁9相連，並且下方外壁8內的下方開口23僅由蓋11密封，蓋11不再支撐其它部件。類似的，但是，也可能將所有的或者個別選擇的真空泵連接裝置16或者真空泵16自身安裝在下方的或上方開口23、10的蓋11上。但是，這是特殊的系統構造，並且維修和組裝空間的可用性確定了將蓋11、11a、真空泵連接裝置16和磁控管15安裝在該空間內。
因此，圖2示出包括氣體分隔裝置的子隔間和相鄰的塗覆隔間3，隔間3內具有位於對應於本發明的真空泵系統的向上濺射位置的磁控管15，基底1在輸送輥22上移動通過系統。在該實施例的變型中，僅通過系統上方外壁7內的上方開口10引入磁控管15，並且真空泵16直接(並且是獨自地)安裝在蓋11上，蓋11封閉上方外壁7或下方外壁8的上方和下方開口10、23。為了將這種設計實施例的泵動力調節到圖1中示出的那樣，其中，兩個真空泵16(每側的外壁9處各有一個)相連，兩個真空泵16每個均位於垂直於輸送方向13的一排泵內，在選擇的視圖內無法看到一排泵，在圖示方向，泵是彼此順序排列的。與下方局部隔間19內的氣體分隔裝置的布置相對應，在本實施例變形中，通向相鄰的塗覆隔間3的抽吸口12在子隔間21中被密封件14封住。
平的水平部件17位於角形保持件24上，保持件24位於分隔壁4上。豎直部件20與水平部件17在上方局部隔間18內的大概中心位置，通過連接件26相連接，連接件26由固定部件25固定在上方的蓋11的豎直位置。下方局部隔間19內的水平部件17具有兩個抽吸口12，通過該抽吸口，將輸送平臺5排空。
權利要求
1.一種用於塗覆平坦基底的一側或兩側的伸長真空系統，所述基底能夠在輸送平臺上被輸送系統移動所述真空系統，其中，真空系統包括至少一個具有磁控管周圍區域的磁控管，並且沿基底的輸送方向，真空系統被能夠密封的分隔壁分為連續的隔間，所述分隔壁包括抽吸口，通過位於隔間上的真空連接裝置能夠直接排空基底，或者通過分隔壁上的抽吸口間接排空基底，其中，至少一個隔間包括上方局部隔間，其位於基底上方，所述局部隔間在其至少一個外壁內包括能夠密封的上方開口，其特徵在於，在至少其中一個上方局部隔間(18)內能夠安裝水平和/或豎直部件(17，20)，用於將所述上方局部隔間(18)分為數個子隔間(21)。
2.根據權利要求1所述的伸長真空系統，其特徵在於，在輸送平臺(5)的下方還設有由分隔壁(4)限定形成的下方局部隔間(19)，所述隔間(19)在其至少一個外壁(7，8，9)內具有能夠被封閉的下方開口(23)以及位於每個分隔壁(4)內的能夠被封閉的抽吸口(12)。
3.根據權利要求2所述的伸長真空系統，其特徵在於，水平和/或豎直部件(17，20)能夠安裝在下方局部隔間(19)內，用於將所述下方局部隔間(19)分為數個子隔間(21)。
4.根據權利要求2或3所述的伸長真空系統，其特徵在於，下方局部隔間(19)具有的結構與輸送平臺的上方局部隔間(18)的輸送平臺周圍的結構相映，所述下方局部隔間(19)與上方局部隔間(18)相對。
5.根據權利要求1到4中任一項所述的伸長真空系統，其特徵在於，上方和下方開口(10，23)能夠被蓋(11，11a)密封，並且至少一個磁控管(15)安裝在蓋(11，11a)上，和/或具有真空連接件(16)。
6.根據權利要求5所述的伸長真空系統，其特徵在於，蓋(11，11a)具有彼此相同的尺寸。
7.根據權利要求1到6中任一項所述的伸長真空系統，其特徵在於，所有局部隔間(18，19)的上方開口(10)和下方開口(23)具有相同的尺寸。
8.根據權利要求1到7中任一項所述的伸長真空系統，其特徵在於，上方和/或下方局部隔間(18，19)的側面的外壁(9)內的上方開口(10)或下方開口(23)中的至少一個被設計成作為真空連接件(16)。
9.根據權利要求1到8中任一項所述的伸長真空系統，其特徵在於，用於細分上方和/或下方局部隔間(18，19)的水平和/或豎直部件(17，20)是平的。
10.根據權利要求1到9中任一項所述的伸長真空系統，其特徵在於，至少一個水平的部件(17)能夠被放置在保持件(24)上，所述保持件具有水平的支撐表面，並且位於局部隔間(18，19)的至少兩個相對的壁上。
11.根據權利要求1到10中任一項所述的伸長真空系統，其特徵在於，豎直部件(20)由連接件(26)固定在至少一個水平部件(17)上，並且，豎直部件(20)在水平部件(17)和與水平部件(17)直接相對的上方或下方外壁(7，8)之間延伸。
12.根據權利要求1到10中任一項所述的伸長真空系統，其特徵在於，至少一個水平部件(17)具有用於保持豎直部件(20)的插入裝置，並且豎直部件(20)在水平部件(17)和與水平部件(17)直接相對的上方或下方外壁(7，8)之間延伸。
13.根據權利要求11或12所述的伸長真空系統，其特徵在於，在蓋(11)上設有固定部件(25)，所述蓋(11)密封位於上方或下方外壁(7，8)內的上方或下方開口(10，23)，所述上方或下方外壁(7，8)與水平部件(17)相對，該固定部件在上方或下方開口(10，23)被封閉後將豎直部件(20)固定。
14.根據權利要求1到13中任一項所述的伸長真空系統，其特徵在於，在至少一個上方和/或下方局部隔間(18，19)內，如此定位水平部件(17)，使得朝向輸送平臺(5)周圍的空間，將對應局部隔間(18，19)的子隔間(21)隔開。
15.根據權利要求1到14中任一項所述的伸長真空系統，其特徵在於，至少一個局部隔間(18，19)的水平和/或豎直部件(17，23)具有能夠被密封的另外的抽吸口(12)。
16.根據權利要求1到15中任一項所述的伸長真空系統，其特徵在於，上方和/或下方局部隔間(18，19)的分隔壁(14)內的抽吸口(12)的尺寸，與水平和/或豎直部件(17，23)內的所述另外的抽吸口(12)的尺寸被設計成是能夠調節的。
全文摘要
本發明涉及一種用於塗覆平坦基底的一側或兩側的伸長真空系統，所述基底被所述系統移動。所述真空系統包括至少一個具有磁控管周圍區域的磁控管，並且沿基底的輸送方向，真空系統被能夠密封的分隔壁分為連續的隔間。通過位於隔間上的真空端部能夠直接排空隔間，或者通過分隔壁上的抽吸口間接排空隔間。至少一個隔間包括上方局部隔間，其位於基底上方，所述局部隔間在其至少一個外壁內包括能夠密封的上方開口。本發明的目的是，製造伸長真空系統，根據不同的一側和兩側塗覆處理的要求進行靈活應用，並且在所述系統內進行該處理，所述系統確保穩定、可區分並且過程優化的濺射氣氛。通過這樣的事實實現該目的，在至少其中一個上方局部隔間內能夠安裝水平和/或豎直部件，用於將所述上方局部隔間分為數個子隔間。
文檔編號C23C14/56GK1902336SQ200480032848
公開日2007年1月24日 申請日期2004年11月4日 優先權日2003年11月4日
發明者沃爾夫岡·埃爾布卡姆, 迪特馬爾·舒爾策, 延斯·梅爾歇爾, 奧拉夫·加韋 申請人:馮 阿德納設備有限公司