一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃的製作方法
2023-05-04 17:33:21 4
一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃的製作方法
【專利摘要】本實用新型是有關於一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，包括：玻璃基片、氮化矽膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化矽膜層；在所述玻璃基片上依次設置有所述氮化矽膜層、所述鎳鉻膜層、所述銀膜層、所述鎳鉻膜層、所述氮化矽膜層；該產品具有高透光率、耐高溫和輻射率低的優點。
【專利說明】一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，特別是涉及一種本實用新型含有五層膜結構的耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術】
[0002]低輻射鍍膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉積一層金屬銀作為功能層，對太陽光中的近紅外線和生活環境中的遠紅外線起反射作用，從而降低玻璃對紅外線的吸收和輻射率，所以稱之為低輻射鍍膜玻璃。此種玻璃既可用於家庭窗戶，也可用於商店、寫字樓和高檔賓館的玻璃幕牆及其它需要的場所。
[0003]高透光率低輻射鍍膜玻璃較一般的低輻射鍍膜玻璃具有較高的可見光透光率，外觀效果通透性好，室內採光自然，而且具有很高的隔熱性能。在寒冷地區，冬季時間長，氣溫低，室內的熱量向室外更低的氣溫環境失散。冬天太陽熱輻射透過玻璃進入室內，以此來增加室內的熱能，而室內的暖氣、家電、人體等發出的遠紅外被阻隔反射回室內，有效降低了暖氣的能耗。製作成中空玻璃的高透光率低輻射鍍膜玻璃具有更優良的節能效果。
[0004]現在市場上已經有一些可鋼化耐高溫低輻射鍍膜玻璃，這些可鋼化耐高溫低輻射鍍膜玻璃其保護層必須達到一定厚度才能有效發揮保護銀膜的作用，但同時因為保護層厚度的增加也限制了產品的可見光透過率。目前市場上缺乏一種高透光率、耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃產品。
[0005]保護層材質的選擇及其厚度直接影響到最終成品的可見光透過率。目前多數廠家採用氧化鈦膜做保護層以提高可見光透過率。但由於鈦的濺射效率較低，通常都必須使用很高的生產功率；再者，為了達到保護效果的厚度，還需降低玻璃的行進速度。因此，為提高透光率使用氧化鈦膜通常都會付出很大的代價，直接導致效率下降，成本升高。
[0006]由此可見，上述現有的低輻射鍍膜玻璃在結構與使用上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進一步改進。因此如何能創設一種新型結構的提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，亦成為當前業界極需改進的目標。
[0007]有鑑於上述現有的低輻射鍍膜玻璃存在的缺陷，本發明人基於從事此類產品設計製造多年豐富的實務經驗及專業知識，並配合學理的運用，積極加以研究創新，以期創設一種新型結構的提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，能夠改進一般現有的低輻射鍍膜玻璃，使其更具有實用性。經過不斷的研究、設計，並經過反覆試作樣品及改進後，終於創設出確具實用價值的本實用新型。
【發明內容】
[0008]本實用新型的目的在於，克服現有的低輻射鍍膜玻璃存在的缺陷，而提供一種新型結構的提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，所要解決的技術問題是使其提供一種含有五層薄膜結構的耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃提高透光率的方法，在現有設備基礎上，控制膜層的厚度，既有效保護受熱過程中的銀層不受氧化，又要有效調節最終產品的透光率高於70%，能耐630°C左右高溫，且能阻擋外界氧氣、玻璃內的鈉離子等對銀層侵蝕的膜層組合。
[0009]本實用新型的目的及解決其技術問題是採用以下技術方案來實現的。依據本實用新型提出的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其中包括:玻璃基片、氮化矽膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化矽膜層；其中在所述玻璃基片上依次設置有所述氮化矽膜層、所述鎳鉻膜層、所述銀膜層、所述鎳鉻膜層、所述氮化矽膜層；
[0010]本實用新型的目的及解決其技術問題還可採用以下技術措施進一步實現。
[0011]本實用新型前述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於所述氮化矽膜層設置到玻璃表面為第一層膜，厚度為39納米-40納米。
[0012]前述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於所述鎳鉻膜層設置到氮化矽表面為第二層膜，厚度為I納米-1.1納米；
[0013]前述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於所述銀膜層設置到鎳鉻表面為第三層膜，厚度為9納米-10納米；
[0014]前述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於所述鎳鉻膜層設置到銀表面為第四層膜，厚度為I納米-1.1納米
[0015]前述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於所述氮化矽膜層設置到鎳鉻表面為第五層膜，厚度為42納米-50納米。
[0016]本實用新型與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果。由以上可知，為達到上述目的，本實用新型提供了一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，包括:玻璃基片、氮化矽膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化矽膜層；其中在所述玻璃基片上依次設置有所述氮化矽膜層、所述鎳鉻膜層、所述銀膜層、所述鎳鉻膜層、所述氮化矽膜層；本實用新型的目的是提供一種含有五層薄膜結構的耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃提高透光率的方法，在現有設備基礎上，控制膜層的厚度，既有效保護受熱過程中的銀層不受氧化，又要有效調節最終產品的透光率高於70%，能耐630°C左右高溫，且能阻擋外界氧氣、玻璃內的鈉離子等對銀層侵蝕的膜層組合。本實用新型的目的可採用如下技術方案來實現:首先採購新鮮的浮法玻璃基片，玻璃基片在工廠鍍膜機上依次鍍上氮化矽膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化矽膜層，構成一種由五層膜結構組成的單銀低輻射鍍膜玻璃。精準控制銀膜厚度，準確控制第二、四層鎳鉻膜層的厚度，保證成品耐高溫的同時有效提高可見光的透光率。
[0017]本實用新型藉由上述技術方案，本實用新型一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃至少具有下列優點及有益效果:該產品具有高透光率、耐高溫和輻射率低的優點。
[0018]上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，並且為了讓本實用新型的上述和其他目的、特徵和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，並配合附圖，詳細說明如下。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0019]圖1為本實用新型一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖。
[0020]1:玻璃基片 2:氮化矽膜層
[0021]3:鎳鉻膜層 4:銀膜層
[0022]5:鎳鉻膜層 6:氮化矽膜層【具體實施方式】
[0023]為更進一步闡述本實用新型為達成預定發明目的所採取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據本實用新型提出的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃其【具體實施方式】、結構、特徵及其功效，詳細說明如後。
[0024]請參閱圖1所示，圖1為本實用新型一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖。
[0025]本實用新型提供了本實用新型一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，包括:玻璃基片
1、氮化矽膜層2、鎳鉻膜層3、銀膜層4、鎳鉻膜層5、氮化矽膜層6 ；
[0026]其中:在所述玻璃基片I上依次設置有所述氮化矽膜層2、所述鎳鉻膜層3、所述銀膜層4、所述鎳鉻膜層5、所述氮化矽膜層6。
[0027]本實用新型提供的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，在應用時:
[0028]本實用新型是在高真空環境下，用磁控濺射鍍膜機在浮法玻璃表面上鍍制五層納米材料膜的方法，生產一種具有高透光率、耐高溫、包含有一個銀層的低福射鍍膜玻璃。
[0029]所述的高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃是在工廠鍍膜機設備上按如下方法完成:首先鍍膜室抽真空至本底真空度5X10 - 4Pa以下，充入工藝氣體(氬氣、氮氣、氧氣)，使鍍膜室內工藝氣體壓力穩定在2.5X10 -1Pa左右，接通濺射電源，靶材開始濺射，玻璃經清洗機清洗合格後進入真空室，經過靶材時，靶材原子或其化合物就會沉積到玻璃表面。
[0030]第一個祀祀材為非金屬娃，工藝氣體為氮氣，將氮化娃薄膜沉積到玻璃表面為第一層膜，厚度39納米至40納米；第二個靶靶材為鎳鉻合金，工藝氣體為氬氣，將鎳鉻薄膜沉積到氮化矽表面為第二層膜，厚度I納米至1.1納米；第三個靶靶材為金屬銀，工藝氣體為氬氣，將銀薄膜沉積到鎳鉻表面為第三層膜，厚度9納米至10納米；第四個靶靶材為鎳鉻合金，工藝氣體為氬氣，將鎳鉻薄膜沉積到銀表面為第四層膜，厚度I納米至1.1納米；第五個靶靶材為矽，工藝氣體為氮氣，將氮化矽薄膜沉積到鎳鉻表面為第五層膜，厚度42納米至50納米。
[0031]第二、四層鎳鉻層總厚度對整個膜系的透光率和顏色會產生影響，第二、四層鎳鉻和第三層銀的膜厚的埃米級變化會引起膜系透光率的變化。增厚I納米銀層厚度對透光率的影響基本可通過減薄0.25納米鎳鉻層厚度來補償。因此，保證銀層厚度，減小第二、四層鎳鉻層膜厚，可以有效提高透光率。
[0032]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，並非對本實用新型作任何形式上的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本實用新型，任何熟悉本專業的技術人員，在不脫離本實用新型技術方案範圍內，當可利用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術方案的內容，依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本實用新型技術方案的範圍內。
【權利要求】
1.一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於包括:玻璃基片(I)、氮化矽膜層(2)、鎳鉻膜層(3)、銀膜層(4)、鎳鉻膜層(5)、氮化矽膜層(6);其中: 在所述玻璃基片(I)上依次設置有所述氮化矽膜層(2)、所述鎳鉻膜層(3)、所述銀膜層(4 )、所述鎳鉻膜層(5 )、所述氮化矽膜層(6 )。
2.如權利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於所述氮化矽膜層設置到玻璃表面為第一層膜，厚度為39納米-40納米。
3.如權利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於所述鎳鉻膜層設置到氮化矽表面為第二層膜，厚度為I納米-1.1納米。
4.如權利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於所述銀膜層設置到鎳鉻表面為第三層膜，厚度為9納米-10納米。
5.如權利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於所述鎳鉻膜層設置到銀表面為第四層膜，厚度為I納米-1.1納米。
6.如權利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於所述氮化矽膜層設置到鎳鉻表面為第五層膜，厚度為42納米-50納米。
【文檔編號】B32B17/06GK203472228SQ201320550447
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年9月5日 優先權日:2013年9月5日
【發明者】董明, 孟怡敏, 白留森, 孫震, 潘其真 申請人:洛陽新晶潤工程玻璃有限公司