光子去膠機的製作方法

2023-05-20 17:40:01 2

專利名稱：光子去膠機的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種儀器，特別是半導體工業中使用的去除光刻膠的儀器。
目前已有兩種典型的去除塗敷在襯底表面上的光刻膠的方法。
1.溼法去膠，如用濃硫酸及有機化學溶劑浸泡，擦拭去除光刻膠。這種方法主要缺點是去膠不徹底，擦拭殘膠易造成襯底劃傷，影響產品的成品率和性能。廢液還會導致環境汙染等弊病。
2.幹法去膠，如等離子體去膠。其去膠過程大致如下把帶膠的襯底送入石英反應管，抽真空至其一真空度，再輸入一定流量的氧氣。在高頻電磁場作用下，氧氣電離產生活化氧佔一定比例的氧等離子體，與光刻膠反應生成CO2、H2O和CO等揮發性氣體，逸出襯底表面從而達到去膠的目的。這種去膠方法有兩個致命的弱點一是等離子體化過程中放出的電子容易與襯底材料碰撞，引起電子注入，產生晶格缺損;等離子體化過程中產生的高溫對某些襯底材料來說是無法容忍的。此外，氧等離子體去膠方法不易去淨離子刻蝕產生的絡化物。
本發明的目的是應用能量分別為hν1和hν2的紫外光子對光刻膠或有機物所起的光敏氧化作用達到徹底去除塗敷在襯底表面上的光刻膠或有機物。
本發明的主要特點是在工作室(1)內的上方有一紫外光源(3)，光源的上方有一反光片(2)，光源的下方有一樣品支架。
本發明是一種非接觸式的幹法去膠裝置，去膠徹底，無需用擦試等補充手段去清除殘膠，不會產生因擦試不當等原因造成的襯底表面損壞，特別適用於半導體製造業。
附

圖1是光子去膠器去膠原理圖。
附圖2是光子去膠器結構示意圖。
圖中1為工作室、2為反射片、3為紫外光源、4為樣品、5為樣品支架、6為電動機、7為溫度傳感器、8為門開關、9為智能控制器。
下面結合附圖詳述本發明。
由圖1知，hν1和hν2分別表示由紫外光源發射的紫外光光子的能量。其中hν1的能量能夠把光刻膠或其它有機物激發分解。(或稱敏化)，產生如圖1所示的離子，游離態原子，受激分子和中性分子。hν2的能量大於hν1。氧分子在吸收hν1之後，分解成臭氧O3和原子氧O，而臭氧在吸收了hν1之後又分解出氧分子O2和原子氧O。由原子氧O具有強烈的氧化作用。使得被hν1激發過的光刻膠(或有機物)的分解物氧化成揮發性氣體，當這些分解物全被氧化成揮發性氣體逸出表面後，留下的是一個極為潔淨的表面。這已用俄歇譜儀的分析結果得到證實。
由圖2知，懸掛在封閉的工作室(1)上方的紫外光光源(3)能發出能量分別為hν1和hν2的紫外光光子。為了使投射到放置在樣品支架(5)上的光子數儘可能的多，在紫外光光源上方放置了一塊紫外光反射片，樣品支架(5)由一個低速電動機(6)帶動旋轉，這樣保證投射到樣品表面上的光子數比較均勻，以達到整個樣品表面均勻去膠的目的。樣品支架(5)與電動機(6)是用螺釘連在一起的。根據工作需要樣品支架(5)可以上下移動，調整樣品與光源之間的距離。工作室內的溫度傳感器(7)用來限定工作室(1)內的溫度，由智能控制器(9)控制。操作人員根據樣品的襯底材料的性質或需要，可以應用智能控制器(9)設置工作室(1)的溫度上限。而當工作開始後智能控制器(9)上的數碼管即顯示工作室的實際溫度。當工作室(1)內的溫度由於光源溫度過高或其它因素的影響超過所設置的溫度上限時，智能控制器(9)能自動切斷光源(3)的電源。此外，還可利用智能控制器(9)設置去膠時間，處理時間以倒計時的方式由數碼管顯示。當處理時間到達預定值，整機停止工作，揚聲器發出音樂聲響，報告去膠工作完畢。為了防止操作人員的誤操作，出現紫外光對人體的直接輻射，本裝置在封閉工作室的送樣門上設置了一個門開關(8)，只要送樣門是開啟的，光源的電壓即處於切斷狀態。
權利要求
1.光子去膠機其特徵為在工作室(1)內的上方有一紫外光源(3)，光源(3)的上方有一反光片(2)光源的下方有一樣品支架(5)。
2.按權利要求1所述的光子去膠機其特徵為在工作室(1)內有一電機(6)帶動支架(5)旋轉。
3.按權利要求1或2所述的光子去膠機其特徵是支架(5)上下可調。
4.按權利要求1所述的光子去膠機其特徵為工作室(1)下部接有一智能控制器(9)。
5.按權利要求1或4所述的光子去膠機其特徵為工作室(1)內有一溫度傳感器(7)。
全文摘要
光子去膠機在工作室(1)內的上方有一紫外光源(3)，光源(3)的上方有一反光片(2)，光源的下方有一樣品支架(5)。本發明是一種非接觸式的幹法去膠裝置，去膠徹底，無需用擦拭等補充手段去除殘膠，不會產生因擦拭不當等原因造成的襯底表面損壞，特別適用於半導體製造業。
文檔編號H01L21/30GK1105457SQ9410007
公開日1995年7月19日 申請日期1994年1月11日 優先權日1994年1月11日
發明者談凱生 申請人:中國科學院電子學研究所