皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝的製作方法

2023-05-25 05:35:01 1

皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝的製作方法
【專利摘要】本發明涉及一種皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝。包括服裝本體(1)，服裝本體(1)的前身與後身均為皮革(2)與薄紗(3)拼接而成，所述皮革(2)與所述薄紗(3)呈不規則圖形；所述服裝本體(1)所採用的面料包括多孔面料製成的基材，多孔面料還包括底層及信息層，底層直接形成於基材上，信息層設置於底層上，信息層包括機器可識別的圖案，機器可識別的圖案由多個標識單元排列而成，底層是一個緻密膜，底層的孔隙尺寸小於標識單元的尺寸。本發明增加了服裝的層次感，豐富了服裝的樣式。本發明通過在信息層及多孔面料之間增加一層緻密膜結構的底層，從而能夠避免信息層的標識單元印製不全的問題。
【專利說明】皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝
(—)

【技術領域】
[0001]本發明涉及一種皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝。
(二)

【背景技術】
[0002]隨著社會的發展，人們對服裝的要求不再是單一的保暖蔽體，對服裝的美觀要求逐漸增強，愛美之心人皆有之，一套適合的服裝不僅可以使穿著者心情愉悅，還可以美化生活裝點社會，普通的服裝缺乏時尚感、對比感。另外，存在信息層的標識單元印製不全的問題。
(三)


【發明內容】

[0003]本發明的目的在於克服上述不足，提供一種時尚的皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝。
[0004]本發明的目的是這樣實現的:一種皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝，包括服裝本體，其特點是:所述服裝本體的前身與後身均為皮革與薄紗拼接而成，所述皮革與所述薄紗呈不規則圖形；所述服裝本體所採用的面料包括多孔面料製成的基材，多孔面料還包括底層及信息層，底層直接形成於基材上，信息層設置於底層上，信息層包括機器可識別的圖案，機器可識別的圖案由多個標識單元排列而成，底層是一個緻密膜，底層的孔隙尺寸小於標識單元的尺寸。
[0005]本發明的有益效果是:
[0006]1、本發明一種皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝，其前身與後身均為皮革與薄紗拼接而成，所述皮革與所述薄紗呈不規則圖形。通過不規則的圖形，展現出服裝的凌亂美，衝擊人們的視眼，通過皮革與薄紗的對比，展現出服裝的矛盾美，增加了服裝的時尚性，增加了服裝的層次感，豐富了服裝的樣式。
[0007]2、本發明通過在信息層及多孔面料之間增加一層緻密膜結構的底層，從而能夠避免信息層的標識單元印製不全的問題。
(四)

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本發明一種皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝的結構示意圖。
[0009]圖中:
[0010]服裝本體I
[0011]皮革2
[0012]薄紗3。
(五)

【具體實施方式】
[0013]參見圖1，本發明一種皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝，包括服裝本體1，所述服裝本體I的前身與後身均為皮革2與薄紗3拼接而成，所述皮革2與所述薄紗3呈不規則圖形。
[0014]所述服裝本體I所採用的面料包括多孔面料製成的基材，多孔面料還包括底層及信息層，底層直接形成於基材上，信息層設置於底層上，信息層包括機器可識別的圖案，機器可識別的圖案由多個標識單元排列而成，底層是一個緻密膜，底層的孔隙尺寸小於標識單元的尺寸。
【權利要求】
1.一種皮革與薄紗拼接的多孔面料服裝，包括服裝本體(1),其特點是:所述服裝本體(1)的前身與後身均為皮革(2)與薄紗(3)拼接而成，所述皮革(2)與所述薄紗(3)呈不規則圖形；所述服裝本體(1)所採用的面料包括多孔面料製成的基材，多孔面料還包括底層及信息層，底層直接形成於基材上，信息層設置於底層上，信息層包括機器可識別的圖案，機器可識別的圖案由多個標識單元排列而成，底層是一個緻密膜，底層的孔隙尺寸小於標識單元的尺寸。
【文檔編號】A41D1/00GK104432608SQ201310436197
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2013年9月15日 優先權日:2013年9月15日
【發明者】胡士勇 申請人:胡士勇