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一種食物系列瓷磚及其製造方法與流程

2023-05-18 14:28:56 2


本發明涉及瓷磚領域,更具體的,涉及一種食物系列瓷磚以及用於上述瓷磚製造的方法。



背景技術:

隨著人們生活、消費水平以及對生活品質追求的提高,人們對於美感、立體感、個性藝術性的要求越來越高。瓷磚是廣泛用於人們生活、工作、休閒的場所裝修裝飾的建築材料。簡單的平面化、缺乏立體層次感和紋理清晰度不夠的瓷磚已經不再受到廣大消費者的關注,而瓷磚精美的圖案、豐富的色彩,多維的空間層次感等富有美感和時尚氣息帶有設計感的瓷磚吸引大眾的眼球。本發明食物系列的設計有較高的藝術價值和較廣的應用範圍,在滿足視覺效果與裝飾性的同時,還具有工藝簡單、造價低、不易磨損、不易褪色、耐腐蝕等諸多優良性能。

中國專利文獻cn103992141b公開了一種拋釉磚的製造方法及其產品,方法包括如下步驟:a、將原料配料球磨進行噴霧造粒後壓制形成磚坯,乾燥後在所述磚坯上淋底釉;b、在所述步驟a後的所述磚坯上印花並乾燥後,淋透明釉;c、在所述步驟b後的所述磚坯上印花並乾燥後,再淋一層透明釉,然後乾燥;d、在所述步驟c後的所述磚坯上再淋上一層透明釉,然後乾燥;e、將所述步驟d後的所述磚坯入窯燒制後使用非彈性模塊進行拋磨後,包裝入庫。所製得的產品在光線的照射下,光線經過兩次透射和折射,使得花紋立體感強,交相輝映,自然大氣,能夠很好的實現仿天然石材的裝飾效果。

現有的瓷磚在每次淋釉之後都會有乾燥過程,然後才可以進行下一步操作。



技術實現要素:

為了克服現有技術的缺陷,本發明所要解決的技術問題在於提出一種食物系列瓷磚的製造方法,此方法通過噴淋釉料、噴墨列印等簡單的改變噴淋不同釉料和釉料順序來製造出造型精美的、立體感、個性藝術感、能夠展現實物的紋理與質感的瓷磚,並且噴淋各種釉料之後無需經過特定的乾燥過程,不僅減少了操作流程,簡化工藝,還縮短了瓷磚的製作時間。

為達此目的,本發明採用以下技術方案:

一種食物系列瓷磚製造方法,其特徵在於,按如下步驟實施:

s00生成磚坯:通過壓機生成磚坯;

s10乾燥磚坯:利用窯爐對所述磚坯進行乾燥;

s20噴淋底釉:利用高壓噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋底釉;

s30噴淋效果釉或者面釉:利用高壓噴釉櫃在所述底釉表面噴淋效果釉或者面釉;

s40噴墨列印:利用噴墨印表機印製印花;

s50噴灑幹粒:利用幹粒機在所述印花噴灑幹粒,形成上釉磚坯;

s60二次燒制:將所述上釉磚坯放入窯爐,進行燒制;

在本發明較佳地技術方案中,所述幹粒為白色啞光粗幹粒與透明啞光粗幹粒兩種幹粒的混合物,或透明啞光細幹粒、紅色幹粒、黃色幹粒、米黃色幹粒、黑色幹粒、白色亮光粗幹粒與深棕色幹粒七種幹粒的混合物,或透明啞光粗幹粒、黑色幹粒與棕色幹粒三種幹粒的混合物,或透明啞光粗幹粒與透明亮光粗幹粒兩種幹粒的混合物。

在本發明較佳地技術方案中,在步驟s40與步驟s50之間設置噴淋保護釉步驟:利用高壓噴釉櫃在所述底釉表面噴保護釉。

在本發明較佳地技術方案中,所述底釉、效果釉、面釉、保護釉均同釉料、羧甲基纖維素鈉、三聚磷酸鈉及水經球磨機混合而成,其中,釉料各組分的質量百分比為:sio2:50~65%;al2o3:15~20%;fe2o3:0~0.5%;cao:1~10%;mgo:1~5%;k2o:1~5%;na2o:1~5%;tio2:0~0.5%;p2o5:0~0.5%;mno:0~0.1%;zro2:1~10%。

在本發明較佳地技術方案中,在步驟s40與步驟s50之間和/或步驟s50與步驟s60之間設置噴淋膠水步驟:利用噴釉櫃在所述印花或者所述上釉坯磚表面噴淋膠水。

在本發明較佳地技術方案中,在步驟s60之後設置拋光機柔刷步驟:利用拋光機將所述二次燒制的瓷磚進行柔刷。

在本發明較佳地技術方案中,所述噴淋釉料過程後不需要經過乾燥的過程就可以進行下一步操作。

在本發明較佳地技術方案中,所述底釉、所述面釉、所述效果釉以及所述保護釉的組成按質量份如下:底釉135~180份;面釉60~150份;效果釉120份;保護釉200份;

在本發明較佳地技術方案中,所述底釉、所述面釉、所述效果釉以及所述保護釉均包括:羧甲基纖維素鈉0.2份;三聚磷酸鈉0.4份。

本發明的有益效果為:

1、能夠很好的展現出實物的紋理和質感。本發明提供的食物系列的瓷磚製造方法,通過噴淋不同的釉料,改變釉料和噴墨列印的順序,或者改變釉料的組成、噴淋釉料的種類等簡單的工序就能夠使瓷磚的圖案更加精美、展現出實物的紋理與質感。

2、操作過程簡單,節約成本。釉料噴淋在常溫下就可以進行,並且在噴淋釉料、膠水或者幹粒之後繼續噴淋釉料之前無需經過特定的乾燥過程,只需要10至15秒的緩衝時間即可進行下一步釉料的噴淋,避免了在此乾燥過程中過渡消耗時間或者消耗成本的弊端,節約生產周期,繼而節約生產成本。

附圖說明

圖1是本發明實施例1的麵粉系列瓷磚的製造流程圖。

圖2是本發明實施例2的麵包系列瓷磚的製造流程圖。

圖3是本發明實施例3的咖啡或者芝麻系列瓷磚的製造流程圖。

具體實施方式

下面結合附圖並通過具體實施方式來進一步說明本發明的技術方案。

一種食物系列瓷磚製造方法,其特徵在於,按如下步驟實施:

s00生成磚坯:通過壓機生成磚坯;

s10乾燥磚坯:利用窯爐對所述磚坯進行乾燥;

s20噴淋底釉:利用高壓噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋底釉;

s30噴淋效果釉或者面釉:利用高壓噴釉櫃在所述底釉表面噴淋效果釉或者面釉;

s40噴墨列印:利用噴墨印表機印製印花;

s50噴灑幹粒:利用幹粒機在所述印花噴灑幹粒,形成上釉磚坯;

s60二次燒制:將所述上釉磚坯放入窯爐,進行燒制;

所述幹粒為白色啞光粗幹粒與透明啞光粗幹粒兩種幹粒的混合物,或透明啞光細幹粒、紅色幹粒、黃色幹粒、米黃色幹粒、黑色幹粒、白色亮光粗幹粒與深棕色幹粒七種幹粒的混合物,或透明啞光粗幹粒、黑色幹粒與棕色幹粒三種幹粒的混合物,或透明啞光粗幹粒與透明亮光粗幹粒兩種幹粒的混合物。

在步驟s40與步驟s50之間還包括:噴淋保護釉步驟:利用高壓噴釉櫃在所述底釉表面噴保護釉。

所述底釉、效果釉、面釉、保護釉均同釉料、羧甲基纖維素鈉、三聚磷酸鈉及水經球磨機混合而成,其中,釉料各組分按質量百分比計,為:sio2:50~65%;al2o3:15~20%;fe2o3:0~0.5%;cao:1~10%;mgo:1~5%;k2o:1~5%;na2o:1~5%;tio2:0~0.5%;p2o5:0~0.5%;mno:0~0.1%;zro2:1~10%。

在步驟s40與步驟s50之間和/或步驟s50與步驟s60之間包括:噴淋膠水步驟:利用噴釉櫃在所述印花或者所述上釉坯磚表面噴淋膠水。

在步驟s60之後還包括:拋光機柔刷步驟:利用拋光機將所述二次燒制的瓷磚進行柔刷。

所述噴淋釉料過程後不需要經過乾燥的過程就可以進行下一步操作。

所述底釉、所述面釉、所述效果釉以及所述保護釉的組成按質量份如下:底釉135~180份;面釉60~150份;效果釉120份;保護釉200份。

所述底釉、所述面釉、所述效果釉以及所述保護釉均包括:羧甲基纖維素鈉0.2份;三聚磷酸鈉0.4份。

實施例一

如圖1所示,實施例中提供了一種麵粉系列瓷磚製造方法,按如下步驟實施:

§01生成磚坯:通過壓機生成磚坯;

§02乾燥磚坯:利用窯爐對所述磚坯進行乾燥;

§03噴淋底釉:利用高壓噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋底釉;

§04噴淋效果釉:利用高壓噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋效果釉;

§05噴墨列印:利用噴墨印表機印製印花;

§06噴淋保護釉:利用高壓噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋保護釉;

§07噴淋膠水:利用噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋膠水;

§08噴灑幹粒:利用幹粒機在所述印花噴灑幹粒,形成上釉磚坯;所述幹粒包括白色啞光粗幹粒與透明啞光粗幹粒兩種幹粒的混合物;

§09二次燒制步驟:將所述上釉磚坯放入窯爐,進行燒制;

實施例二

如圖2所示,實施例中提供了一種麵包系列瓷磚製造方法,按如下步驟實施:

§01生成磚坯:通過壓機生成磚坯;

§02乾燥磚坯:利用窯爐對所述磚坯進行乾燥;

§03噴淋底釉:利用高壓噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋底釉;

§04噴淋面釉:利用高壓噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋面釉;

§05噴墨列印:利用噴墨印表機印製印花;

§06噴灑幹粒:利用幹粒機在所述印花噴灑幹粒,形成上釉磚坯;所述幹粒為添加有膠水的幹粒混合物;所述幹粒還包括透明啞光細幹粒、紅色幹粒、黃色幹粒、米黃色幹粒、黑色幹粒、白色亮光粗幹粒與深棕色幹粒七種幹粒的混合物;

§07二次燒制:將所述上釉磚坯放入窯爐,進行燒制;

§08拋光機柔刷:利用拋光機將所述二次燒制的瓷磚進行拋光柔刷。

實施例三

如圖3所示,實施例中提供了一種咖啡或者芝麻系列瓷磚製造方法,按如下步驟實施:

§01生成磚坯:通過壓機生成磚坯;

§02乾燥磚坯:利用窯爐對所述磚坯進行乾燥;

§03噴淋底釉:利用高壓噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋底釉;

§04噴淋面釉:利用高壓噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋面釉;

§05噴墨列印:利用噴墨印表機印製印花;

§06噴淋膠水:利用噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋膠水;

§07噴灑幹粒:利用幹粒機在所述印花噴灑幹粒,形成上釉磚坯;所述幹粒包括透明啞光粗幹粒、黑色幹粒與棕色幹粒三種幹粒的混合物,或透明啞光粗幹粒與透明亮光粗幹粒兩種幹粒的混合物;

§08噴淋膠水:利用噴釉櫃在所述磚坯表面噴淋膠水;

§09二次燒制:將所述上釉磚坯放入窯爐,進行燒制;

本發明是通過優選實施例進行描述的,本領域技術人員知悉,在不脫離本發明的精神和範圍的情況下,可以對這些特徵和實施例進行各種改變或等效替換。本發明不受此處所公開的具體實施例的限制,其他落入本申請的權利要求內的實施例都屬於本發明保護的範圍。

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